公开(公告)号：US09376750B2

公开(公告)日：2016-06-28

申请号：US10482627

申请日：2002-07-16

申请人： Steven M. George ,  John D. Ferguson ,  Alan W. Weimar ,  Christopher A. Wilson

发明人： Steven M. George ,  John D. Ferguson ,  Alan W. Weimar ,  Christopher A. Wilson

IPC分类号： C30B28/00 ,  C23C16/44 ,  B01J31/06 ,  B82Y30/00 ,  C08J7/04 ,  C23C16/02 ,  C23C16/14 ,  C23C16/34 ,  C23C16/40 ,  C23C16/442 ,  C23C16/455 ,  C09D1/00 ,  H01L51/52

摘要： Inorganic materials are deposited onto organic polymers using ALD methods. Ultrathin, conformal coatings of the inorganic materials can be made in this manner. The coated organic polymers can be used as barrier materials, as nanocomposites, as catalyst supports, in semiconductor applications, in coating applications as well as in other applications.

摘要翻译： 使用ALD方法将无机材料沉积到有机聚合物上。 可以以这种方式制造无机材料的超薄，保形涂层。 涂覆的有机聚合物可以用作阻挡材料，作为纳米复合材料，作为催化剂载体，在半导体应用中，在涂覆应用中以及在其它应用中。