公开(公告)号：US20150323869A1

公开(公告)日：2015-11-12

申请号：US14577473

申请日：2014-12-19

Applicant: The Dow Chemical Company

Inventor： Cong Liu ,  Doris H. Kang ,  Deyan Wang ,  Cheng-Bai Xu ,  Mingqi Li ,  Chunyi Wu

IPC: G03F7/11 ,  C09D133/16 ,  G03F7/32 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

CPC classification number: C09D201/00 ,  C08F220/10 ,  C08K5/05 ,  C08K5/101 ,  C08L101/12 ,  C09D7/20 ,  C09D133/14 ,  C09D133/16 ,  C09D201/02 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  H01L21/0271

Abstract: Topcoat compositions are provided that can be used in immersion lithography to form photoresist patterns. The topcoat compositions include a solvent system that comprises 1) a first organic solvent represented by formula (I), wherein R1 and R2 are alkyl groups of 3-8 carbons and the total number of carbons of R1 and R2 is greater than 6; and 2) a second organic solvent that is a C4 to C10 monovalent alcohol.

Abstract translation: 提供面漆组合物，其可用于浸没式光刻以形成光致抗蚀剂图案。 面漆组合物包括溶剂体系，其包含1）由式（I）表示的第一有机溶剂，其中R 1和R 2是3-8个碳的烷基，并且R 1和R 2的总碳数大于6; 和2）作为C 4〜C 10一价醇的第二有机溶剂。