公开(公告)号：US06908362B2

公开(公告)日：2005-06-21

申请号：US10469071

申请日：2002-03-04

申请人： Venkat Selvamanickam ,  Michael T. Gardner ,  Raymond D. Judd ,  Martin Weloth ,  Yunfei Qiao

发明人： Venkat Selvamanickam ,  Michael T. Gardner ,  Raymond D. Judd ,  Martin Weloth ,  Yunfei Qiao

IPC分类号： B24B7/12 ,  B24B7/13 ,  B24B29/06 ,  B24B37/00

CPC分类号： B24B7/12 ,  B24B7/13 ,  B24B29/06 ,  H01L39/2454

摘要： Disclosed is a reel-to-reel single-pass mechanical polishing system (100) suitable for polishing long lengths of metal substrate tape (124) used in the manufacture of high-temperature superconductor (HTS) coated tape, including multiple instantiations of a polishing station (114) in combination with a subsequent rinsing station (116) arranged along the axis of the metal substrate tape (124) that is translating between a payout spool (110a) and a take-up spool (110b). The metal substrate tape obtains a surface smoothness that is suitable for the subsequent deposition of a buffer layer.

摘要翻译： 公开了一种适用于抛光用于制造高温超导体（HTS）涂覆带的长度长的金属基材带（124）的卷对卷单通道机械抛光系统（100），包括多次抛光实例 工位（114）与沿着金属基片带（124）的轴线布置的随后的漂洗台（116）组合，所述冲洗台沿着金属基片带（124）的轴线布置，该平移位于支承线轴（110a）和卷取线轴（110b）之间。 金属基材带获得适于随后沉积缓冲层的表面平滑度。