公开(公告)号：US07491036B2

公开(公告)日：2009-02-17

申请号：US10987066

申请日：2004-11-12

申请人： Wayne M. Parent ,  Gentaro Goshi

发明人： Wayne M. Parent ,  Gentaro Goshi

IPC分类号： F04B39/06 ,  F04B39/04 ,  F04F9/00

CPC分类号： F04D29/5873 ,  F04D7/02 ,  F04D29/5866 ,  F04D29/588

摘要： A processing system utilizing a supercritical fluid for treating a substrate is described as having a pump for recirculating the supercritical fluid over the substrate. For various applications in supercritical fluid processing, the fluid temperature for the treatment process can elevate above the temperature acceptable for safe operation of the pump. Therefore, in accordance with one embodiment, a fraction of supercritical fluid from the primary recirculating flow of supercritical fluid over the substrate is circulated from the pressure side of the pump, through a heat exchanger to lower the temperature of the supercritical fluid, through the pump, and it is returned to the primary flow on the suction side of the pump. In accordance with yet another embodiment, supercritical fluid is circulated through the pump from an independent source to vent.

摘要翻译： 描述了一种利用超临界流体处理衬底的处理系统，其具有用于将超临界流体再循环到衬底上的泵。 对于超临界流体处理中的各种应用，用于处理过程的流体温度可以提升到高于可接受的温度以使泵的安全运行。 因此，根据一个实施例，超临界流体在基体上的一次循环流中的一部分超临界流体从泵的压力侧通过热交换器循环，以通过泵降低超临界流体的温度 ，并返回到泵的吸入侧的主流。 根据另一个实施例，超临界流体通过泵从独立的来源循环通气。

公开(公告)号：US07435447B2

公开(公告)日：2008-10-14

申请号：US11058327

申请日：2005-02-15

申请人： Wayne M. Parent

发明人： Wayne M. Parent

IPC分类号： B05D3/12

CPC分类号： G01N21/53 ,  H01L21/67017

摘要： In a high pressure processing system configured to treat a substrate, a flow measurement device is utilized to determine a flow condition in the high pressure processing system. The flow measurement device can, for example, comprise a turbidity meter. The flow parameter can, for example, include a volume flow rate or a time to achieve mixing of a process chemistry within a high pressure fluid used to treat the substrate.

摘要翻译： 在构造成处理基板的高压处理系统中，使用流量测量装置来确定高压处理系统中的流动状态。 流量测量装置可以例如包括浊度计。 流动参数可以例如包括体积流速或实现在用于处理基底的高压流体中的工艺化学物质混合的时间。

公开(公告)号：US07524383B2

公开(公告)日：2009-04-28

申请号：US11137155

申请日：2005-05-25

申请人： Wayne M. Parent ,  Dan R. Geshell

发明人： Wayne M. Parent ,  Dan R. Geshell

IPC分类号： C23C22/00 ,  C23C22/50 ,  B08B9/08 ,  B08B5/00

CPC分类号： C23G1/085 ,  C23G1/088 ,  C23G5/00

摘要： A method and system for passivating a processing chamber is provided, whereby the processing chamber is exposed to one or more cycles of citric acid, or nitric acid. The processing chamber is fabricated, for example, from stainless steel. Each cycle may be performed at a pressure greater than atmospheric pressure, or a temperature greater than 20 degrees centigrade, or both.

摘要翻译： 提供一种用于钝化处理室的方法和系统，由此处理室暴露于柠檬酸或硝酸的一个或多个循环。 处理室例如由不锈钢制成。 每个循环可以在大于大气压力或大于20摄氏度的温度下进行，或两者都进行。