公开(公告)号：US08526707B2

公开(公告)日：2013-09-03

申请号：US12968725

申请日：2010-12-15

申请人： Yoonna Oh ,  Jae-Pil Shin ,  Jin Choi ,  Moon-Hyun Yoo ,  Jong-Bae Lee

发明人： Yoonna Oh ,  Jae-Pil Shin ,  Jin Choi ,  Moon-Hyun Yoo ,  Jong-Bae Lee

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G06T7/0006 ,  G03F1/84 ,  G06T2207/10061 ,  G06T2207/20068 ,  G06T2207/30148

摘要： In a method of inspecting a mask, an image of a pattern on the mask may be obtained. A histogram of the image by grey levels may be obtained. The histogram may be compared with information of the pattern to detect a defect of the mask. Thus, reliability of defect detection in the mask may be remarkably improved.

摘要翻译： 在检查掩模的方法中，可以获得掩模上的图案的图像。 可以获得灰度级的图像的直方图。 可以将直方图与图案的信息进行比较以检测掩模的缺陷。 因此，掩模中的缺陷检测的可靠性可以显着提高。