公开(公告)号：US20100112482A1

公开(公告)日：2010-05-06

申请号：US12608556

申请日：2009-10-29

申请人： Takeru WATANABE ,  Satoshi SHINACHI ,  Takeshi KINSHO ,  Koji HASEGAWA ,  Yuji HARADA ,  Jun HATAKEYAMA ,  Kazunori MAEDA ,  Tomohiro KOBAYASHI

发明人： Takeru WATANABE ,  Satoshi SHINACHI ,  Takeshi KINSHO ,  Koji HASEGAWA ,  Yuji HARADA ,  Jun HATAKEYAMA ,  Kazunori MAEDA ,  Tomohiro KOBAYASHI

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07D307/04 ,  C07D319/06 ,  C07D315/00 ,  C07D307/77 ,  C08F114/18 ,  C08F214/18 ,  C08L27/12 ,  C08K5/06 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/11 ,  C07D307/04 ,  C07D307/77 ,  C07D315/00 ,  C07D319/06 ,  C08F14/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F2/00

摘要： A fluorinated monomer of cyclic acetal structure has formula (1) wherein R is a C1-C20 alkyl group which may be substituted with halogen or separated by oxygen or carbonyl, and Z is a divalent organic group which forms a ring with alkylenoxy and contains a polymerizable unsaturated group. A polymer derived from the fluorinated monomer may be endowed with appropriate water repellency, water sliding property, lipophilicity, acid lability and hydrolyzability and is useful in formulating a protective coating composition and a resist composition.

摘要翻译： 环状缩醛结构的氟化单体具有式（1），其中R是可以被卤素取代或被氧或羰基分离的C1-C20烷基，Z是与亚烷氧基形成环的二价有机基团，并含有 可聚合不饱和基团。 衍生自氟化单体的聚合物可赋予适当的防水性，水滑性，亲油性，酸性和水解性，并且可用于配制保护涂料组合物和抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US20090286182A1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：US12463750

申请日：2009-05-11

申请人： Yuji HARADA ,  Jun HATAKEYAMA ,  Koji HASEGAWA ,  Satoshi SHINACHI

发明人： Yuji HARADA ,  Jun HATAKEYAMA ,  Koji HASEGAWA ,  Satoshi SHINACHI

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F18/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/24 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A protective coating composition comprising a copolymer of an alkali-soluble (α-trifluoromethyl)acrylate and a norbornene derivative as a base polymer, optionally in admixture with a second polymer containing sulfonic acid and/or sulfonic acid amine salt in repeat units is applied onto a resist film. The protective coating is effective in minimizing development defects and forming a resist pattern of improved profile.

摘要翻译： 包含碱溶性（α-三氟甲基）丙烯酸酯和降冰片烯衍生物作为基础聚合物的共聚物的保护性涂料组合物，任选地与含有重复单元的磺酸和/或磺酸胺盐的第二聚合物混合物施加到 抗蚀膜 保护涂层有效地使开发缺陷最小化并形成改进型材的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US20090274984A1

公开(公告)日：2009-11-05

申请号：US12434365

申请日：2009-05-01

申请人： Satoshi SHINACHI ,  Tsunehiro Nishi ,  Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe

发明人： Satoshi SHINACHI ,  Tsunehiro Nishi ,  Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07D307/77 ,  C08F24/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D307/77 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： Carboxyl-containing lactone compounds having formula (1) are novel wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 and R3 are H or monovalent hydrocarbon groups, or R2 and R3 may together form an aliphatic ring, W is CH2, O or S, k1 is an integer of 0 to 4, and k2 is 0 or 1. They are useful as monomers to produce polymers which are transparent to radiation ≦500 nm. Radiation-sensitive resist compositions comprising the polymers as base resin exhibit excellent properties including resolution, LER, pattern density dependency and exposure margin.

摘要翻译： 具有式（1）的含羧基的内酯化合物是新的，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2和R 3是H或一价烃基，或者R 2和R 3可以一起形成脂族环，W是CH 2，O或 S，k1为0〜4的整数，k2为0或1.它们可用作单体以产生对辐射<= 500nm透明的聚合物。 包含作为基础树脂的聚合物的辐射敏感性抗蚀剂组合物表现出优异的性能，包括分辨率，LER，图案密度依赖性和曝光余量。

公开(公告)号：US20090233242A1

公开(公告)日：2009-09-17

申请号：US12403317

申请日：2009-03-12

申请人： Koji HASEGAWA ,  Satoshi SHINACHI ,  Katsuhiro KOBAYASHI ,  Tsunehiro NISHI ,  Takeshi KINSHO

发明人： Koji HASEGAWA ,  Satoshi SHINACHI ,  Katsuhiro KOBAYASHI ,  Tsunehiro NISHI ,  Takeshi KINSHO

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07D307/87 ,  C08F24/00

CPC分类号： C07D307/83 ,  C07D307/85 ,  C07D311/74 ,  C07D313/08 ,  C07D493/22 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： Lactone-containing compounds having formula (1) are novel wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 and R3 are H or monovalent hydrocarbon groups, or R2 and R3 may together form an aliphatic hydrocarbon ring, R4 is H or CO2R5, R5 is a monovalent hydrocarbon group, W is CH2, O or S, and k1 is 3, 4 or 5. They are useful as monomers to produce polymers which are transparent to radiation ≦500 nm. Radiation-sensitive resist compositions comprising the polymers as base resin exhibit excellent properties including resolution, LER, pattern density dependency and exposure margin.

摘要翻译： 具有式（1）的含内酯的化合物是新的，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2和R 3是H或一价烃基，或者R 2和R 3可以一起形成脂族烃环，R 4是H或CO 2 R 5， R5是一价烃基，W是CH 2，O或S，k 1是3,4或5.它们可用作产生对辐射<= 500nm透明的聚合物的单体。 包含作为基础树脂的聚合物的辐射敏感性抗蚀剂组合物表现出优异的性能，包括分辨率，LER，图案密度依赖性和曝光余量。