公开(公告)号：US20090020009A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US11766875

申请日：2007-06-22

申请人： Zenon ZAKRZEWSKI ,  Dariusz CZYLKOWSKI ,  Mariusz JASINSKI ,  Michel MOISAN ,  Daniel GUERIN ,  Christian LARQUET ,  Jean-Christophe ROSTAING

发明人： Zenon ZAKRZEWSKI ,  Dariusz CZYLKOWSKI ,  Mariusz JASINSKI ,  Michel MOISAN ,  Daniel GUERIN ,  Christian LARQUET ,  Jean-Christophe ROSTAING

IPC分类号： B03C3/38 ,  H05H1/46

CPC分类号： H05H1/46 ,  H05H2001/4622 ,  Y02C20/30

摘要： The invention relates to a microwave plasma exciter device comprising: a waveguide containing means (23) for concentrating the microwaves; and means (110, 120) for forming a plasma, which are disposed in a microwave concentration zone.

摘要翻译： 本发明涉及一种微波等离子体激励器装置，包括：用于集中微波的波导容纳装置（23）; 以及用于形成等离子体的装置（110,120），其设置在微波浓度区中。

公开(公告)号：US20100155222A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12719346

申请日：2010-03-08

申请人： Jean-Christophe ROSTAING ,  Daniel Guerin ,  Christian Larquet ,  Chun-Hao Ly ,  Michel Moisan ,  Hervé Dulphy

发明人： Jean-Christophe ROSTAING ,  Daniel Guerin ,  Christian Larquet ,  Chun-Hao Ly ,  Michel Moisan ,  Hervé Dulphy

IPC分类号： B01J19/08

CPC分类号： B01D53/70 ,  B01D53/323 ,  B01D2259/818 ,  B01J2219/0875 ,  B01J2219/0894 ,  C23C16/4412 ,  Y02C20/30

摘要： The invention concerns a system for treating gases such as PFC or HFC with plasma, comprising: (6) pumping means (6) whereof the outlet is at a pressure substantially equal to atmospheric pressure, plasma generator (8), at the pump output, to produce a plasma at atmospheric pressure.

摘要翻译： 本发明涉及用于用等离子体处理诸如PFC或HFC的气体的系统，包括：（6）泵出装置（6），其出口压力基本上等于大气压，等离子体发生器（8），在泵输出处， 以在大气压下产生等离子体。