Fe-Ni alloy sheet for shadow mask having a low silicon segregation and
method for manufacturing same
    1.
    发明授权
    Fe-Ni alloy sheet for shadow mask having a low silicon segregation and method for manufacturing same 失效
    具有低硅偏析的荫罩用Fe-Ni合金薄板及其制造方法

    公开(公告)号:US5252151A

    公开(公告)日:1993-10-12

    申请号:US768918

    申请日:1991-10-01

    摘要: An Fe-Ni alloy sheet for a shadow mask, which consists essentially of:nickel: from 34 to 38 wt. %,silicon: from 0.01 to 0.15 wt. %,manganese: from 0.01 to 1.00 wt. %, andthe balance being iron and incidental impurities.The surface portion of the alloy sheet has a silicon (Si) segregation rate, as expressed by the following formula, of up to 10%: ##EQU1## and a center-line mean roughness (Ra) of the alloy sheet satisfies the following formula:0.3 .mu.m

    摘要翻译: PCT No.PCT / JP91 / 00182 Sec。 371日期1991年10月1日 102(e)1991年10月1日PCT 1991年2月15日PCT PCT。 WO91 / 12345 PCT出版物 日期:1991年8月22日。一种用于荫罩的Fe-Ni合金板,其基本上由以下组成:镍:34至38重量% %,硅:0.01〜0.15wt。 %,锰:0.01〜1.00wt。 %,余量为铁和杂质。 合金板的表面部分具有如下式所示的硅(Si)偏析率,最高达10%:合金薄片的中心线平均粗糙度(Ra)满足下式 :0.3μm<< / = Ra <0.7μm。 通过制备如上所述具有化学组成和硅偏析速率的Fe-Ni合金薄板制造上述Fe-Ni合金薄片,并赋予满足上述公式的中心线平均粗糙度(Ra) 在用于所述制备的合金板的最终轧制期间,通过一对钝的辊在合金板的两个表面上。 由此制造的Fe-Ni合金板在蚀刻可刺蚀性方面优异,并且在退火期间不发生粘附。