公开(公告)号：WO2011021383A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：PCT/JP2010/005080

申请日：2010-08-17

Applicant: 日本板硝子株式会社 ,  籔田武司 ,  近藤史佳 ,  木戸優敦 ,  堀雅宏 ,  河津光宏 ,  神谷和孝

Inventor： 籔田武司 ,  近藤史佳 ,  木戸優敦 ,  堀雅宏 ,  河津光宏 ,  神谷和孝

IPC: C03C17/23 ,  B01J35/02 ,  C09D1/00 ,  C09D5/16 ,  C09D7/12

CPC classification number: G02B1/11 ,  B01J21/063 ,  B01J35/002 ,  B01J35/004 ,  B01J35/006 ,  B01J37/0215 ,  C03C17/006 ,  C03C17/23 ,  C03C2217/42 ,  C03C2217/71 ,  C09D1/02 ,  C09D5/1618 ,  G02B27/0006 ,  Y10T428/259

Abstract: 　光触媒膜の光触媒機能と反射抑制機能とを維持しつつその膜強度を改善するガラス物品を提供する。ガラス板上の光触媒膜を、質量％表示で、酸化ケイ素粒子を５０～８２％、酸化チタン粒子を８～４０％、酸化ケイ素からなるバインダー成分を７～２０％の範囲で含ませ、酸化ケイ素粒子の平均粒径を酸化チタン粒子の平均粒径の５倍以上とするとともに、膜中の一部の酸化ケイ素粒子を、ガラス板に接触せず、その頂部が周囲の酸化チタン粒子から突出して露出している突出酸化ケイ素粒子とし、一部の酸化チタン粒子を、突出酸化ケイ素粒子とガラス板との間に介在させた構造とする。

Abstract translation: 公开了一种在保持光催化剂功能和光催化剂膜的反射抑制功能的同时改善光催化剂膜的膜强度的玻璃制品。 具体而言，形成玻璃板上的光催化剂膜，以质量％计含有50-82％的氧化硅颗粒，8-40％的氧化钛颗粒和7-20％的由氧化硅组成的粘合剂组分 。 将氧化硅粒子的平均粒径设定为氧化钛粒子的平均粒径的5倍以上。 光催化剂膜形成为具有这样的结构，其中膜中的一些氧化硅颗粒形成为将氧化硅颗粒的顶部挤出超过周围的氧化钛颗粒而不与玻璃板接触的部分， 的氧化钛颗粒介于挤出的氧化硅颗粒和玻璃板之间。

公开(公告)号：WO2005095102A1

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：PCT/JP2005/006338

申请日：2005-03-31

Applicant: 日本板硝子株式会社 ,  佐々木輝幸 ,  井口一行 ,  神谷和孝

Inventor： 佐々木輝幸 ,  井口一行 ,  神谷和孝

IPC: B32B9/00

CPC classification number: C03C17/009 ,  C03C17/007 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/44 ,  C03C2218/113 ,  C08J7/047 ,  C08J2483/00 ,  C09D1/00 ,  C09D4/00 ,  Y10T428/2962 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/31663 ,  C08G77/00

Abstract: 　本発明は、ゾルゲル法により形成された３００ｎｍを超える厚膜であるにも拘わらず、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｒ　３２１２に規定されたテーバー摩耗試験の後に、膜が基材から剥離しない、シリカ系膜が形成された物品を提供する。この膜は、改良されたゾルゲル法、即ち、シリコンアルコキシドの濃度が、ＳｉＯ ２ 換算で３質量％を超え９質量％未満、プロトンの質量モル濃度が０．００１～０．２ｍｏｌ／ｋｇ、水のモル数が、シリコン原子の総モル数の４倍以上１０倍以下としたコーティング液を用い、１００°Cを超える温度で基材を加熱するゾルゲル法により成膜できる。

Abstract translation: 形成具有二氧化硅涂层的制品，其中尽管涂层是通过溶胶凝胶法生产的并且具有大于300nm的厚度的涂层，但是在日本工业标准中规定的泰伯耐磨性试验之后，涂层没有从基材上脱离 JIS）R 3212.该涂层可以通过改进的溶胶凝胶法，即包括使用其中硅烷醇盐的浓度超过3质量％且低于9质量％的涂布液的溶胶凝胶法形成，以及 其中质子的质量摩尔浓度在0.001至0.2mol / kg的范围内，水的摩尔量在硅原子的总摩尔量的4倍至10倍的范围内，并且还包括在高于 100℃。