薄膜積層体
    1.
    发明申请
    薄膜積層体 审中-公开
    薄膜层压板

    公开(公告)号:WO2013118442A1

    公开(公告)日:2013-08-15

    申请号:PCT/JP2013/000383

    申请日:2013-01-25

    IPC分类号: B32B9/04 C08J7/04

    CPC分类号: C08J7/18 C08J2483/00

    摘要:  本発明の薄膜積層体は、樹脂基体上に、第1層、第2層の順に形成された薄膜積層体において、第1層が、a)RnSiX4-nで表される有機ケイ素化合物の縮合物、及びb)有機高分子化合物を含有する、膜厚500nm以上の有機無機複合薄膜であり、第2層が、a)ゾルゲル法により形成された膜厚200nm以下の金属酸化物薄膜であって、且つ膜厚のばらつき [%] = 100×(膜厚の標準偏差)/(膜厚の平均値)で表される膜厚のばらつきが10%未満である金属酸化物薄膜、又は、b)膜厚500nm以下のガスバリア膜であり、且つ、第1層は第2層との界面側に上記有機ケイ素化合物の縮合物が濃縮した層を有し、該濃縮層の炭素原子の濃度は、第1層と第2層との界面から300nmの深さの第1層の炭素原子の濃度に比べて20%以上少ないことを特徴とする薄膜積層体である。

    摘要翻译: 该薄膜层叠体具有按所列顺序形成在树脂基板上的第一层和第二层,薄膜层压体的特征在于:第一层是膜厚不小于的膜的有机 - 无机复合薄膜 500nm,含有a)由RnSiX4-n表示的有机硅化合物的缩合物和b)有机聚合物; 第二层是a)具有不大于200nm的膜厚度并且通过溶胶 - 凝胶法形成的金属氧化物薄膜,金属氧化物薄膜的膜厚变化由[膜厚变化 [%] = 100×(膜厚的标准偏差)/(平均膜厚))小于10%,或b)膜厚度不大于500nm的阻气膜; 第一层在与第二层的界面侧具有有机硅化合物的缩合物浓缩的层; 并且浓缩层中的碳原子浓度比第一层和第二层之间的界面处的300nm深度处的第一层中的碳原子浓度低20%或超过20%。

    METHOD OF PREPARING FLUORINATED HYBRID COMPOSITIONS
    3.
    发明申请
    METHOD OF PREPARING FLUORINATED HYBRID COMPOSITIONS 审中-公开
    制备氟化混合组合物的方法

    公开(公告)号:WO2011011653A2

    公开(公告)日:2011-01-27

    申请号:PCT/US2010042996

    申请日:2010-07-23

    申请人: DU PONT WILCZEK LECH

    发明人: WILCZEK LECH

    IPC分类号: C08L83/08

    摘要: Described is a method for preparing a coating composition comprising a fluorine and silicon containing polymer, with a reactive diluent, and optionally non-reactive oligomeric additives, crosslinkers, or inorganic particles, which upon curing provides coatings with a good balance of adhesion, mechanical properties, scratch resistance, low surface energy, repellency, and transparency. The coatings are useful as a topcoat, particularly in optical applications.

    摘要翻译: 描述了一种制备包含含氟和硅的聚合物,反应性稀释剂和任选的非反应性低聚添加剂,交联剂或无机颗粒的涂料组合物的方法,其在固化时提供具有良好的粘合平衡的涂层,机械性能 ,耐擦伤性,低表面能,排斥性和透明度。 涂层可用作面漆,特别是在光学应用中。