公开(公告)号：WO2010009807A8

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：PCT/EP2009004892

申请日：2009-07-07

Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  WEBER ULRICH ,  HEMBACHER STEFAN ,  SCHOEPPACH ARMIN

Inventor： WEBER ULRICH ,  HEMBACHER STEFAN ,  SCHOEPPACH ARMIN

IPC: G03F7/20 ,  H01L41/09

CPC classification number: G03F7/70141 ,  F16H21/44 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825 ,  H02N1/002 ,  H02N2/023 ,  Y10T74/18992

Abstract: The actuator (1) according to the invention comprises a housing (2) and a rotor (3) that can be moved in relation to the housing (2) in the effective direction of the actuator, wherein the actuator (1) comprises an advancing unit that is connected to the rotor (3) at least part of the time. The advancing unit comprises at least one deformation unit (6) and at least one deformer (5) for deforming the deformation unit (6). The at least one deformer (5) is suited to deform the deformation unit (6) perpendicular to the effective direction of the actuator (1) such that the total length of the deformation unit (6) changes in the effective direction as a result of the deformation. The invention further relates to a projection exposure system (310) for semiconductor lithography comprising an actuator (1) according to the invention, and to a method for operating an actuator (1) according to the invention.

Abstract translation: 根据本发明（1）的致动器具有一个壳体（2）和在所述致动器可动流道（3）的有效方向的相对于所述壳体（2），其中，所述致动器（1）包括进给单元，其至少暂时与该转子（3） 通信。 馈送单元示出用于变形单元（6）的变形的至少一个变形单元（6）和至少一个变形器（5）; 所述至少一个变形器（5）适于在垂直于（1），使得所述变形单元（6）的在有效方向的总长度变化作为变形的结果，致动器的动作方向变形变形单元（6）。 此外，本发明涉及具有根据本发明的致动器（1）的用于半导体光刻的投影曝光设备（310）以及根据本发明的用于操作致动器（1）的方法。

公开(公告)号：WO2010012588A1

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：PCT/EP2009/059045

申请日：2009-07-15

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  KLAASSEN, Michel ,  GROENEVELD, Rogier ,  STRUYCKEN, Alexander ,  SWINKELS, GerardusHubertus

Inventor： KLAASSEN, Michel ,  GROENEVELD, Rogier ,  STRUYCKEN, Alexander ,  SWINKELS, GerardusHubertus

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70175

Abstract: A lithographic apparatus (1) includes a source module (SO) including a collector (CO) and a radiation source (105), the collector (CO) configured to collect radiation from the radiation source (105); an illuminator (IL) configured to condition the radiation, collected by the collector (CO) and to provide a radiation beam; and a detector (301) disposed in a fixed positional relationship with respect to the illuminator (IL), the detector (301) configured to determine a position of the radiation source (105) relative to the collector (CO) and a position of the source module (SO) relative to the illuminator (IL).

Abstract translation: 光刻设备（1）包括源模块（SO），其包括收集器（CO）和辐射源（105），所述收集器（CO）被配置为收集来自辐射源（105）的辐射; 配置成调节由收集器（CO）收集的辐射并提供辐射束的照明器（IL）; 以及相对于所述照明器（IL）以固定位置关系设置的检测器（301），所述检测器（301）被配置为确定所述辐射源（105）相对于所述收集器（CO）的位置和所述检测器 源模块（SO）相对于照明器（IL）。

公开(公告)号：WO2009043578A1

公开(公告)日：2009-04-09

申请号：PCT/EP2008/008350

申请日：2008-10-02

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor ,  EHM, Dirk, Heinrich ,  WARM, Berndt

Inventor： WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor ,  EHM, Dirk, Heinrich ,  WARM, Berndt

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70258

Abstract: Optical element, comprising first regions which reflect or transmit the light falling on the optical element, and further comprising at least second regions which are in each instance separated by a distance from the first region and which at least partially surround the first region, wherein the second regions are designed to be at least in part electrically conductive and are electrically insulated from the first regions, and wherein the optical element comprises a carrier element (60) and at least two first regions in the form of mirror facets which are arranged on the carrier element, and the respective second regions (61) which are arranged with a separation from the mirror facets on the carrier element (60) are electrically insulated against the carrier element as well as against the mirror facet, and at least one mirror facet is surrounded by an electrically conductive second region.

Abstract translation: 光学元件包括反射或透射落在光学元件上的光的第一区域，并且还包括至少第二区域，其至少第二区域在每个情况下与第一区域分开并且至少部分地围绕第一区域，其中， 第二区域被设计为至少部分导电并且与第一区域电绝缘，并且其中光学元件包括载体元件（60）和至少两个呈镜面形式的第一区域，其布置在 载体元件和与载体元件（60）上的镜面分开设置的相应的第二区域（61）与载体元件以及镜面相电绝缘，并且至少一个镜面是 被导电的第二区域包围。

公开(公告)号：WO2009035129A2

公开(公告)日：2009-03-19

申请号：PCT/JP2008066803

申请日：2008-09-10

Applicant: NIPPON KOGAKU KK ,  TANITSU OSAMU

Inventor： TANITSU OSAMU

IPC: G02B26/08 ,  G02B27/00 ,  G02B27/09 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B26/00 ,  G02B26/02 ,  G02B27/0927 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70158

Abstract: An illumination optical system which illuminates a surface to be illuminated on the basis of light from a light source (1) has a first optical path in which a diffractive optical element (6) can be arranged at a first position thereof; a second optical path in which a spatial light modulator (3) with a plurality of optical elements (3a) arrayed two-dimensionally and controlled individually can be arranged at a second position thereof; and a third optical path which is an optical path of light having passed via at least one of the first optical path and the second optical path and in which a distribution forming optical system (11) is arranged. The distribution forming optical system (11) forms a predetermined light intensity distribution on an illumination pupil located in the third optical path, based on the light having passed via at least one of the first and second optical paths.

Abstract translation: 基于来自光源（1）的光照射要照明的表面的照明光学系统具有其中衍射光学元件（6）可以布置在其第一位置的第一光路; 第二光路，其中具有排列成二维并且被单独控制的多个光学元件（3a）的空间光调制器（3）可以布置在其第二位置处; 以及第三光路，其是通过了所述第一光路和所述第二光路中的至少一个的光的光路，并且其中布置有分布形成光学系统（11）。 分布形成光学系统（11）基于通过第一和第二光路中的至少一个的光而在位于第三光路中的照明光瞳上形成预定的光强分布。

公开(公告)号：WO2007083758A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：PCT/JP2007/050821

申请日：2007-01-19

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F9/00 ,  G12B5/00 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G01B11/27 ,  G01D5/26 ,  G01D5/266 ,  G01D18/002 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70975 ,  Y10T29/49826

Abstract: 　移動体（ＲＳＴ）のＹ軸方向の位置情報を、干渉計（１６ｙ）と、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ（（２４Ａ，２６Ａ 1 ）、（２４Ｂ，２６Ｂ 1 ））とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をＹ軸方向に精度良く駆動する。

Abstract translation: 通过使用干涉仪（16y）和编码器（（24A，26A），（24B，26B），...）来测量移动体（RST）上的Y方向位置信息， ）与干涉仪相比具有优异的短周期稳定性，根据测量结果，执行预定的校准操作以获取用于校正编码器的测量值的校正信息，从而可以获取用于校正的校正信息 与干涉仪相比，测量值的短周期稳定性优异的编码器的测量值根据编码器的测量值和校正信息，在Y轴方向上被精确地驱动。

公开(公告)号：WO2007054291A1

公开(公告)日：2007-05-18

申请号：PCT/EP2006/010725

申请日：2006-11-09

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SCHOLZ, Axel ,  WEISS, Markus ,  MAUL, Manfred ,  BOSSELMANN, Philipp

Inventor： SCHOLZ, Axel ,  WEISS, Markus ,  MAUL, Manfred ,  BOSSELMANN, Philipp

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G01J1/42 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70558 ,  H05G2/00

Abstract: The invention relates to an EUV (extreme ultraviolet) illumination system with at least one EUV light source (3) ; with an aperture stop and sensor arrangement (1) for the measurement of intensity fluctuations and/or position changes of the EUV light source (3), in particular in the range of the effectively utilized wavelengths, or of one of the intermediate images of the EUV light source (3) , wherein the aperture stop and sensor arrangement (1) includes an aperture stop (2.1) and an EUV position sensor (2.3) ; wherein the aperture stop and sensor arrangement (1) is arranged in such a way that the aperture stop (2.1) allows a certain solid angle range of the radiation originating from the EUV light source (3) or from one of its intermediate images (7) to fall on the EUV position sensor.

Abstract translation: 本发明涉及具有至少一个EUV光源（3）的EUV（极紫外）照明系统。 具有用于测量EUV光源（3）的强度波动和/或位置变化的孔径光阑和传感器装置（1），特别是在有效利用的波长的范围内，或者是 EUV光源（3），其中所述孔径光阑和传感器装置（1）包括孔径光阑（2.1）和EUV位置传感器（2.3）; 其中所述孔径光阑和传感器装置（1）以使得所述孔径光阑（2.1）允许源自所述EUV光源（3）的辐射或其中间图像（7）中的一个的一定立体角范围 ）落在EUV位置传感器上。

公开(公告)号：WO2006084479A1

公开(公告)日：2006-08-17

申请号：PCT/EP2005/001435

申请日：2005-02-12

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  GRUNER, Toralf ,  EPPLE, Alexander ,  DEGÜNTHER, Markus

Inventor： GRUNER, Toralf ,  EPPLE, Alexander ,  DEGÜNTHER, Markus

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70108 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70191

Abstract: A projection exposure apparatus has a projection lens (10) with an object plane (34), an image plane, an opti­cal axis (28) and a non-telecentric entrance pupil (32). The apparatus further comprises an illumination system (12) having an intermediate field plane (80) and a field stop (36; 36'). The field stop is positioned in or in close proximity to the intermediate field plane (80) and defines an illuminated field (14) in the object plane (34) that does not contain the optical axis (28) of the projection lens (24). The illumination system (12) is configured such that, in the object plane (34), a mean of the angles formed between all principal rays (42) emanat­ing from the intermediate field plane (80) on the one hand and the optical axis (28) of the projection lens (24) on the other hand differs from 0 ° .

Abstract translation: 投影曝光装置具有具有物平面（34），像平面，光轴（28）和非远心入射光瞳（32）的投影透镜（10）。 该装置还包括具有中间场平面（80）和场停止（36; 36'）的照明系统（12）。 场停止件位于中间场平面（80）中或紧邻中间场平面（80），并且在物平面（34）中限定不包含投影透镜（24）的光轴（28）的照明场（14） 。 照明系统（12）被配置为使得在物平面（34）中，一方面从中间场平面（80）发射的所有主光线（42）和光轴（42）之间形成的平均角 另一方面，投影透镜（24）的光束（28）不同于0°。

公开(公告)号：WO2005116577A1

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：PCT/JP2005/009749

申请日：2005-05-27

Applicant: 株式会社ニコン ,  高木 誠 ,  石井 裕和 ,  福井 達雄 ,  工藤 浩一 ,  横田 亨 ,  阿部 啓之

Inventor： 高木 誠 ,  石井 裕和 ,  福井 達雄 ,  工藤 浩一 ,  横田 亨 ,  阿部 啓之

IPC: G01B11/00

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70141

Abstract: 　本発明は、調整用の光学素子の配置を感度良く微調整することが可能な結像光学系の調整方法の提供を第１の目的とする。そのため、第１ピッチで配列された複数の第１マークと、第１ピッチとは異なる第２ピッチで配列された複数の第２マークとを含む調整用マークに対し、所定の波長帯域の照明光を照射する(Ｓ５,Ｓ６)。調整用マークから発生する回折光のうち、開口絞りを通過して結像光学系の像面に到達した光に基づいて、画像を取り込む(Ｓ５,Ｓ６)。調整用マークの画像の輝度情報のうち、第１マークと第２マークに関わる輝度情報の対称/非対称性を加味し、第１マークと第２マークとの位置ずれ量を算出する(Ｓ５,Ｓ６)。照明光の波長帯域を変更する(Ｓ５,Ｓ６)。照明光の波長帯域が異なるときに算出した各々の位置ずれ量に基づいて、結像光学系の瞳面と開口絞り面との間に配置された調整用の光学素子を微調整し、開口絞り面における瞳像の結像位置ずれを補正する(Ｓ８,Ｓ９)。                                                                             

Abstract translation: 一种调整能够以良好的灵敏度微调调整光学元件的位置的成像光学系统的方法。 将指定波长带的照明光施加到包括以第一间距布置的多个第一标记的调整标记和以与第一间距不同的第二间距排列的第二标记（S5，S6）。 基于通过孔径光阑的光被捕获（S5，S6），并且从由调节标记产生的衍射光到达成像光学系统的图像表面。 计算第一标记和第二标记的位置偏差（S5，S6），允许在关于调节标记的图像的亮度信息中的第一标记和第二标记上的亮度信息的对称/不对称。 改变照明光的波长带（S5，S6）。 基于成像光学系统的光瞳表面和孔径光阑表面之间的调整光学元件，基于在照明光的波长带不同时计算出的各自的位置偏差进行微调，以校正瞳孔表面的成像位置偏差 孔径光阑表面（S8，S9）。

公开(公告)号：WO2005096680A1

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：PCT/JP2005/006040

申请日：2005-03-30

Applicant: 株式会社ニコン ,  近藤 洋行

Inventor： 近藤 洋行

IPC: H05G2/00

CPC classification number: G03F7/7085 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70141 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

Abstract: 　所望の光強度角度分布（面内分布）を有するＥＵＶ光を安定的に供給することのできる光源ユニット。標的材料をプラズマ化し、生成されたプラズマ（Ｐ）からＥＵＶ光を輻射させる光源本体（１１）と、光源本体から輻射されたＥＵＶ光を所定の方向に反射するための反射鏡（１２）と、反射鏡に入射するＥＵＶ光の光強度の角度分布（面内分布）の軸対称性を検出するための検出系と、検出系の検出結果に基づいて光強度の角度分布（面内分布）がほぼ軸対称になるように光源本体を調整するための調整系とを備えている。

Abstract translation: 能够稳定地供给具有期望的光强度角分布（面内分布）的EUV光的光源单元。 光源单元包括用于产生目标材料的等离子体并且辐射来自所产生的等离子体（P）的EUV光的光源体（11），用于反射从光源体辐射的EUV光的反射器 在预定方向上，检测入射在反射器上的EUV光的光强度角分布（面内分布）的轴对称性质的系统和用于调节光源体的系统，使得光强度角分布 （平面内分布）基于来自感测系统的感测结果基本上关于轴对称。

公开(公告)号：WO2017036784A1

公开(公告)日：2017-03-09

申请号：PCT/EP2016/069394

申请日：2016-08-16

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： PETRI, Christoph ,  RUNDE, Daniel

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/7085

Abstract: An illumination system (ILL) for an EUV projection exposure apparatus (WSC) is designed for receiving EUV radiation (LR) of an EUV radiation source (LS) and for shaping illumination radiation (ILR) from at least one portion of the received EUV radiation, wherein the illumination radiation is directed into an illumination field in an exit plane (ES) of the illumination system during exposure operation, wherein the EUV radiation source is arranged in a source module (SM) separate from the illumination system, said source module generating a secondary radiation source (SLS) at a source position (SP) in an entrance plane (IS) of the illumination system. For determining an alignment state of the secondary radiation source in relation to the illumination system, the illumination system comprises an alignment state determining system (ADS), wherein the alignment state determining system comprises an alignment detector (AD) configured to receive a portion of the EUV radiation emerging from the secondary radiation source and to generate therefrom an alignment detector signal (AS) representative of the alignment state. Furthermore, the illumination system comprises a mirror module (MM) comprising a used mirror element (UM) and an alignment mirror element (AM), wherein during exposure operation the used mirror element contributes to the shaping of the illumination radiation incident on the illumination field and the alignment mirror element reflects a portion of the EUV radiation of the secondary radiation source in the direction of the alignment detector. The mirror module is embodied as a structurally exchangeable mirror module, and an optical alignment auxiliary component (AAC) is assigned to the illumination system, wherein with the aid of the optical alignment auxiliary component an alignment auxiliary signal (AAS, AAS') is generatable which allows a checking of the alignment state of the secondary radiation source or of an alignment state of an alignment mirror element after an exchange of the mirror module.

Abstract translation: 用于EUV投影曝光装置（WSC）的照明系统（ILL）被设计用于接收EUV辐射源（LS）的EUV辐射（LR）和用于从所接收的EUV辐射的至少一部分成形照射辐射（ILR） ，其中所述照明辐射在曝光操作期间被引导到所述照明系统的出射平面（ES）中的照明场中，其中所述EUV辐射源被布置在与所述照明系统分离的源模块（SM）中，所述源模块产生 在照明系统的入射面（IS）中的源位置处的次级辐射源（SLS）。 为了确定次级辐射源相对于照明系统的对准状态，照明系统包括对准状态确定系统（ADS），其中对准状态确定系统包括对准检测器（AD），其配置成接收一部分 EUV辐射从次级辐射源出射并由其产生表示对准状态的对准检测器信号（AS）。 此外，照明系统包括包括使用的镜元件（UM）和对准反射镜元件（AM）的反射镜模块（MM），其中在曝光操作期间，所使用的反射镜元件有助于入射在照明场上的照射辐射的成形 并且对准反射镜元件在对准检测器的方向上反射二次辐射源的EUV辐射的一部分。 反射镜模块被实施为可结构可更换的镜模块，并且光学对准辅助部件（AAC）被分配给照明系统，其中借助于光学对准辅助部件，对准辅助信号（AAS，AAS'）是可生成的 其允许在更换镜模块之后检查辅助辐射源的对准状态或对准反射镜元件的对准状态。