公开(公告)号：WO2011016255A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：PCT/JP2010/004972

申请日：2010-08-06

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎　祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70933 ,  G03F7/70975

Abstract: 　照明ユニット（ＩＯＰ）に上端が接続され、下端部にレチクルステージ（ＲＳＴ）及びレチクル（Ｒ）の上面に所定のクリアランスを介して対向する一対のプレート部（８２ ３ ，８２ ４ ）を有するパージカバー（８０）を備えている。このため、レチクルステージ（ＲＳＴ）とプレート部（８２ ３ ，８２ ４ ）との間のクリアランスを介してガスの流通をほぼ阻止することができる。これにより、パージカバーと、レチクルステージ及び／又はレチクルとで囲まれるほぼ気密状態の空間を照明ユニットから投影光学系に至る照明光（ＩＬ）の光路上に形成することができる。また、上記のほぼ気密状態の空間が、ＣＤＡなどでパージされるパージ空間とされている。

Abstract translation: 曝光装置包括清洗盖（80），其具有连接到照明单元（IOP）的上端，并且在其下端设置有面向一个的上表面的一对板部分（823,824） 标线片（R）和标线片台（RST）之间具有预定的间隙。 结果，可以基本上防止气体通过标线片载物台（RST）和板部分（823,824）之间的间隙的流动。 该构造使得能够在由照明单元导向投影光学系统的照明光（IL）的光路中形成由净化盖和标线片台和/或标线片包围的基本上气密的空间。 此外，基本上气密的空间适于作为由CDA等清洗的净化空间。

公开(公告)号：WO2009078422A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：PCT/JP2008/072941

申请日：2008-12-17

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70875 ,  G03F7/707

Abstract: 　ステージ装置は、露光光が照射されるマスクを保持して所定面に沿って移動する移動体（２８）と、前記移動体の移動に実質的に伴って移動する流れ制御部であって、それによって前記マスクの近傍における気体の流れが制御される前記流れ制御部（５０）と、を備える。

Abstract translation: 舞台装置设置有可移动体（28），该移动体保持要被曝光的照射并沿着规定的表面移动的面罩;以及流动控制部分（50），其基本上随着可动体的移动而移动， 控制面罩附近的气流。

公开(公告)号：WO2008056735A1

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：PCT/JP2007/071702

申请日：2007-11-08

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70816

Abstract: 　ＦＩＡ定盤（１０２）の下面側に設けられた検出系（ＡＬ２ 4 ）と定盤との間に磁気的吸引力及び気体の静圧を発生させることが可能な力発生装置（１２２ａ～１２２ｃ、１２４ａ～１２４ｃ、１０２）により、検出系と定盤との間に所定のクリアランスが形成され、該クリアランスが形成された状態（浮上状態）で、駆動装置（１０２，１２６）により、検出系が少なくとも水平面内の一軸方向に駆動される。このため、検出系が定盤に対して非接触な状態であることから、検出系の高精度な移動（位置決め）が可能となる。また、力発生装置の発生する斥力よりも引力の方を大きく設定することにより、検出系を、高精度に位置決めされた状態で固定する（着地させる）こともできる。

Abstract translation: 在能够产生磁吸引力的力产生装置（122a-122c，124a-124c，102）和检测系统和表面板之间的检测系统（AL2）之间的气体静压力，在检测系统和表面板之间形成指定的间隙 FIA表面板（102）和表面板的底面侧，并且间隙保持形成（浮动状态），通过驱动装置（102,126）沿水平面的至少一个轴方向驱动检测系统 ）。 由于检测系统与表面板保持不接触，因此能够进行检测系统的高精度移动（定位）。 如果吸引力被设定为大于由力产生装置产生的排斥力，则检测系统可以以高精度固定（降落）在定位状态。

公开(公告)号：WO2008029917A1

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：PCT/JP2007/067512

申请日：2007-09-07

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: G03F1/14 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/38 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2035 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70358 ,  G03F9/00 ,  G03F9/70 ,  G03F9/7023

Abstract: 　マスクは、投影光学系を介して基板上にパターンの像を形成するための円筒状のマスクである。マスクは、パターンが形成され、所定軸周りに配置されたパターン形成面を有し、基板の少なくとも所定の一次元方向への移動と同期して、所定軸を回転軸として回転可能であり、パターン形成面におけるマスクの直径をＤ、一次元方向における基板の最大の長さをＬ、投影光学系の投影倍率をβ、円周率をπとしたとき、Ｄ　≧　（β×Ｌ）／πの条件を満足する。

Abstract translation: 提供一种用于通过投影光学系统在基板上形成图案的图像的管状掩模。 掩模具有图案形成表面，该图案形成表面设置有形成在其上的图案并且布置在规定的轴周围。 可以使至少在规定的一维方向上与基板的移动同步地旋转掩模，将规定的轴作为旋转轴，并且满足D =（ßOE）/ p的条件，其中D是直径 在图案形成表面上，L是基板在一维方向上的最大长度，β是投影光学系统的投影倍率，p是圆形常数。

公开(公告)号：WO2008029758A1

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：PCT/JP2007/067124

申请日：2007-09-03

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01B11/26 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70975 ,  Y10T29/49117

Abstract: 　制御装置は、移動体ＷＳＴのＸＹ平面に対する傾斜角を計測する干渉計の計測値に基づいて、グレーティング（３９Ｙ 1 ，３９Ｙ 2 ）の周期方向に関しＸＹ平面に対して移動体を角度α傾斜させ、その傾斜前後のエンコーダシステム（６２Ａ，６２Ｃ）の計測値と角度αの情報とに基づいて、ＸＹ平面内における移動体の位置制御の基準となる基準面（例えば投影光学系の像面）に対するグレーティング表面のアッベ外し量を算出する。そして、制御装置は、エンコーダシステムによって計測されたＸＹ平面内における移動体の位置情報と、グレーティング表面のアッベ外し量に起因するＸＹ平面に対する移動体の傾斜角に応じたエンコーダシステムの計測誤差とに基づいて、ＸＹ平面に沿って移動体を駆動する。

Abstract translation: 基于测量，控制器以（a）的角度从光栅的周期方向（39Y 1，39Y 2 2）的XY平坦表面倾斜移动体， 从测量来自XY表面的移动体（WST）的倾斜角度的干涉仪获得的值。 然后，基于从倾斜前后的编码器系统（62A，62C）获得的测量值和角度（a）的信息，控制器计算从阿格数的光栅表面波动到参考面的量（例如 ，投影光学系统的图像表面）成为XY平面内的移动体的位置控制基准。 然后，控制器基于XY平面内的移动体的位置信息和由编码器系统测量的驱动器沿着XY平面驱动移动体，以及与移动体对应的编码器系统测量误差 由于光栅表面的阿贝数量的波动，XY面的倾斜角度。

公开(公告)号：WO2008029757A1

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：PCT/JP2007/067123

申请日：2007-09-03

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01B11/26 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70775 ,  G01B21/042 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70975 ,  G03F9/70 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7049 ,  H01L21/68 ,  H01L21/681 ,  Y10T29/49002

Abstract: 　制御装置により、エンコーダシステムのＸエンコーダとＹエンコーダとを少なくとも各１つ含む３つのエンコーダ（Ｅｎｃ１，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３）を用いてステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置情報が計測され、該位置情報の計測結果と該位置情報の計測に用いられたヘッド（エンコーダ）（Ｅｎｃ１，Ｅｎｃ２及びＥｎｃ３）のＸＹ平面に平行な面内での位置情報（ｐ 1 ，ｑ 1 ）、（ｐ 2 ，ｑ 2 ）及び（ｐ 3 ，ｑ 3 ）とに基づいて、ＸＹ平面内でステージＷＳＴが駆動される。これにより、複数のヘッドを含むエンコーダシステムを用いてステージＷＳＴの移動中に制御に用いるヘッド（エンコーダ）を切り換えながら、ステージの移動を精度良く制御することが可能になる。

Abstract translation: 通过使用包括编码器系统的X编码器和Y编码器中的每一个的三个编码器（Enc1，Enc2，Enc3）由控制器来测量XY平面内的台（WST）的位置信息。 基于位置信息和位置信息（p <1> 1，q 1> 1）的测量结果，在XY平面内驱动平台（WST），（p < 在平行于XY平坦表面的表面内的（p> 3，q 3）和（p 3 3，q 3 3） 头（编码器）（Enc1，Enc2，Enc3），用于位置信息测量。 因此，通过使用包括多个磁头的编码器系统，可以通过切换用于控制载物台（WST）的磁头（编码器）在载物台移位时精确地控制载物台位移。

公开(公告)号：WO2007077926A1

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：PCT/JP2006/326249

申请日：2006-12-28

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7003 ,  G03F9/7088

Abstract: 　投影ユニット（ＰＵ）直下の露光区域からＹ軸方向に関して離れた計測区域内で、アライメント系（ＡＬＧ）の検出領域をＹ軸方向へ移動させつつ、複数のマークを順次検出するので、従来のように、アライメント系を固定し、ウエハステージ（ＷＳＴ１，ＷＳＴ２）のみを移動しつつマーク検出を行なう場合と比べて、マーク検出時におけるウエハステージのＹ軸方向への移動量を小さくすることができる。これにより、Ｙ軸方向に関する計測区域の幅を小さくできるので、装置の小型化を図ることが可能となる。

Abstract translation: 在沿着Y轴方向移动对准系统（ALG）的检测区域的同时，在与Y直线下方的曝光区域的Y轴方向分离的测量区域内依次检测多个标记。 因此，与通过固定校准系统检测标记并且仅移动晶片台（WST1，WST2）时的检测标记的常规情况相比，晶片载物台在Y轴方向上的偏移量减少。 由于测量区域在Y轴方向上的宽度减小，所以装置尺寸减小。

公开(公告)号：WO2006057263A1

公开(公告)日：2006-06-01

申请号：PCT/JP2005/021512

申请日：2005-11-24

Applicant: 株式会社ニコン ,  依田 安史 ,  柴崎 祐一 ,  荒井 大

Inventor： 依田 安史 ,  柴崎 祐一 ,  荒井 大

IPC: H01L21/027 ,  G03F9/00 ,  G12B5/00 ,  H01L21/68

CPC classification number: G12B5/00 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/709 ,  H01L21/682

Abstract: 　ストッパ機構（４８Ａ，４８Ｂ）により、ウエハテーブル（ＷＴＢ）と計測テーブル（ＭＴＢ）とが所定距離よりも接近するのが阻止されるとともに、駆動機構（３４Ａ）により、このストッパ機構による阻止が解除できるので、Ｘ軸固定子（８１，８０）が例えば独立して駆動される場合には、仮に２つのテーブルの少なくとも一方が暴走したような場合であっても、ストッパ機構が各テーブル同士の接触を阻止することができるようにすることができ、例えばテーブル同士を所定距離よりも接近した状態とする場合には、解除機構によりストッパ機構の阻止を解除することで、ストッパ機構が邪魔することなく、両テーブルを接近させることが可能となる。

Abstract translation: 止动器机构（48A，48B）防止晶片台（WTB）和测量台（MTB）彼此靠近预定距离，并且驱动机构（34A）可以抵消预防。 结果，例如，当固定构件（81,80）被独立地驱动时，止动机构可以防止桌子彼此接触，即使它们中的任何一个都失控。 这使得当桌子被设置成比预定距离更靠近时，由止动器机构防止由取消机构抵消，使得两个桌子能够更靠近而不受阻挡机构的干扰。

公开(公告)号：WO2006013856A1

公开(公告)日：2006-02-09

申请号：PCT/JP2005/014115

申请日：2005-08-02

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一 ,  奥村 正彦 ,  日高 康弘

Inventor： 柴崎 祐一 ,  奥村 正彦 ,  日高 康弘

IPC: H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70775

Abstract: 　コストアップや装置の大型化を招くことなく移動ステージの位置を検出する。移動面（１２ａ）を移動する移動ステージ（ＷＳＴ、ＭＳＴ）と、移動ステージ（ＷＳＴ、ＭＳＴ）の位置をビーム（Ｂ１～Ｂ３）により検出する位置検出装置とを備える。移動ステージ（ＷＳＴ、ＭＳＴ）を駆動する駆動装置（８２、８４）と、駆動装置（８１、８４）に設けられ、移動ステージ（ＷＳＴ、ＭＳＴ）の移動に応じてビーム（Ｂ１～Ｂ３）を移動ステージ（ＷＳＴ、ＭＳＴ）に追従させる追従光学部材（３０～３３）と、移動ステージ（ＷＳＴ、ＭＳＴ）に設けられ、追従光学部材（３０～３３）と光学的に結合された第１光学部材（３４～３９）とを備えた。

Abstract translation: 在不增加设备的成本和尺寸的情况下检测移动台的位置。 该装置包括在移动表面（12a）上移动的移动台（WST，MST）和用于通过光束（B1-B3）检测移动级（WST，MST）的位置的位置检测装置。 该装置还包括用于驱动移动台（WST，MST）的驱动装置（82,84），设置在驱动装置（82,84）上的跟踪光学构件（30-33），以允许梁（B1-B3） 根据移动台（WST，MST）的移动和设置在移动台（WST，MST）上的第一光学构件（34-39），跟踪跟踪移动台（WST，MST）并与跟踪 光学构件（30-33）。

公开(公告)号：WO2005122242A1

公开(公告)日：2005-12-22

申请号：PCT/JP2005/010315

申请日：2005-06-06

Applicant: 株式会社ニコン ,  柴崎 祐一

Inventor： 柴崎 祐一

IPC: H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70991 ,  G12B5/00 ,  H01L21/682

Abstract: 　移動面を移動するステージに対して用力を供給する用力供給装置（１５５）が、第１軸部（２３２）、第１支持部（２３４，２３５）、第２軸部（２３８）及び第２支持部（２３９）を備え、第１軸部は第１支持部により第１軸の方向及び第１軸回りに移動可能に支持され、第２軸部は第２支持部により第２軸の方向及び第２軸回りに移動可能に支持されている。このように用力供給装置を少なくとも４自由度を有する機構とすることにより、ステージが２次元面内で、第１、第２軸方向、及び各軸回りの回転方向に移動しても、用力供給装置がその移動の妨げとなることがないので、流体の供給にチューブなどの配管を用いる場合と比較して、チューブを引きずることによるステージの位置制御性の低下を完全に回避することができる。

Abstract translation: 用于向在运动表面上移动的台阶提供用途的公用设施供应装置（155）具有第一轴部分（232），第一支撑部分（234,235），第二轴部分（238）和第二支撑部分 239）。 第一轴部分由第一支撑部分支撑，以能够在第一轴线和第一轴线的方向上移动。 此外，第二轴部由第二支撑部支撑，以能够沿第二轴线和第二轴线的方向移动。 这样，公用设施供给装置被制成具有至少四个自由度的机构。 结果，即使台架在二维表面中在第一和第二轴线方向和每个轴线的旋转方向上移动，公用设施供应设备也不会干扰桌子的移动。 因此，可以完美地避免由管的拖动引起的舞台位置的可控性的降低，这是通过诸如管等管道用于供应流体的情况而不能实现的。