公开(公告)号：WO2007009543A1

公开(公告)日：2007-01-25

申请号：PCT/EP2006/005833

申请日：2006-06-19

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  GÖHNERMEIER, Aksel ,  PAZIDIS, Alexandra

Inventor： GÖHNERMEIER, Aksel ,  PAZIDIS, Alexandra

IPC: G03F1/14 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/62 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70341

Abstract: A pellicle for use in a microlithographic exposure apparatus (10) has, for an operating wavelength of the apparatus, a maximum transmittance for light rays (56) that obliquely impinge on the pellicle (34; 134; 234) . This ensures smaller variations of the transmittance over a broad range of angles of incidence, as it occurs in very high numerical aperture projection lenses.

Abstract translation: 在微光刻曝光设备（10）中使用的防护薄膜组件对于设备的工作波长具有倾斜撞击防护薄膜组件（34; 134; 234）上的光线（56）的最大透射率。 这确保了在宽的入射角范围内的透射率的变化较小，因为它在非常高的数值孔径投影透镜中出现。

公开(公告)号：WO2006072398A1

公开(公告)日：2006-07-13

申请号：PCT/EP2005/013846

申请日：2005-12-22

Applicant: HANSA METALLWERKE AG ,  KUNKEL, Horst ,  VEIGEL, Gunter

Inventor： KUNKEL, Horst ,  VEIGEL, Gunter

IPC: F21V33/00 ,  E03C1/04

CPC classification number: F21V29/745 ,  A61N2005/0663 ,  A61N2005/0668 ,  E03C1/0404 ,  F21S10/02 ,  F21V5/002 ,  F21V5/04 ,  F21V23/04 ,  F21V29/004 ,  F21V33/004 ,  F21Y2105/10 ,  F21Y2113/00 ,  F21Y2113/13 ,  F21Y2115/10

Abstract: Eine Sanitärarmatur enthält eine Lichtquelle zur farbigen Ausleuchtung von Wasser, das aus der Sanitärarmatur aus- oder in diese eintritt. Die Lichtquelle (16) enthält erfindungsgemäß einen Träger (22), über den mindestens vier gehäuselose und als Halbleiterbauelemente ausgebildete lichtemittierende Elemente (241, 242, 243, 244; 241a', 241b', 242a', 242b', 243a', 243b') verteilt sind, wobei mindestens zwei erste lichtemittierende Elemente Licht einer ersten Farbe und mindestens zwei zweite lichtemittierende Elemente Licht einer zweiten Farbe erzeugen. Vorzugsweise sind mehrere lichtemittierende Elemente zu Baugruppen (24) zusammengefaßt, die matrixartig auf dem Träger (20) verteilt sind. Zur Bündelung und Mischung des von den lichtemittierenden Elementen erzeugten Lichts sind dabei diffraktive optische Elemente (27) unmittelbar vor jeder Baugruppe angeordnet.

Abstract translation: 一种卫生接头包括从所述卫生配件的水关闭的彩色照明光源或进入此。 根据本发明所述的光源（16）包括经由支撑件（22）的至少四个无外壳的并形成为半导体器件，发光元件（241，242，243，244; 241A“ 241B”，242A“ 242B”，243A“ 243B” 分布），至少两个第一发光元件发射第一颜色的光并且至少两个第二发光元件产生第二颜色的光。 优选地，多个发光元件，以形成组件（24）相结合，在支撑（20）的矩阵状的方式被分布。 用于捆绑和由发光元件产生的光的混合，衍射光学元件（27）直接布置在每个组件的前面。

公开(公告)号：WO2006040184A3

公开(公告)日：2006-04-20

申请号：PCT/EP2005/011111

申请日：2005-10-14

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  FIOLKA, Damian ,  HEIL, Tilmann ,  GOEHNERMEIER, Aksel ,  GRAEUPNER, Paul

Inventor： FIOLKA, Damian ,  HEIL, Tilmann ,  GOEHNERMEIER, Aksel ,  GRAEUPNER, Paul

IPC: G03F7/20

Abstract: An illumination system for a microlithographic pro­jection exposure apparatus has a light source (14) emit­ting linearly polarized light that has a fixed polariza­tion direction (PDi). A polarization rotation unit (PRU, PRU', PRU '') is provided that is configured to rotate the polarization direction on demand by a rotational angle α ≠ 0 0 . This makes it possible to adapt the polarization direction to different masks (M) with minimal losses of the light intensity.

公开(公告)号：WO2006021419A2

公开(公告)日：2006-03-02

申请号：PCT/EP2005/009093

申请日：2005-08-23

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SINGER, Wolfgang ,  WANGLER, Johannes ,  EGGER, Rafael ,  ULRICH, Wilhelm

Inventor： SINGER, Wolfgang ,  WANGLER, Johannes ,  EGGER, Rafael ,  ULRICH, Wilhelm

CPC classification number: G03F7/70108 ,  G03F7/70183

Abstract: An illumination system of a microlithographic exposure apparatus (PEA) has an optical axis (OA) and a beam transforming device (20; 120; 220; 320; 420; 520; 1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520). This device comprises a first mirror (122; 222; 322; 422; 522; 1122; 1222; 1322; 1422; 1522) with a first reflective surface (124; 224; 424; 524; 1124; 1224) having a shape that is defined by rotating a straight line, which is inclined with respect to the optical axis (OA), around the optical axis (OA). The device further comprises a second mirror (126, 126a, 126b; 226a, 226b; 326a, 326b; 426a; 426b; 526; 1126; 1226; 1326a, 1326b; 1426a, 1426b; 1526a, 1526b) with a second reflective surface (130, 130a, 130b; 1130) having a shape that is defined by rotating a curved line around the optical axis (OA). At least one of the mirrors has a central aperture (128) containing the optical axis (OA). This device may form a zoom-collimator (1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520) for an EUV illumination system that transforms a diverging light bundle into a collimated light bundle of variable shape and/or diameter.

Abstract translation: 微光刻曝光装置（PEA）的照明系统具有光轴（OA）和光束转换装置（20; 120; 220; 320; 420; 520; 1020; 1120; 1220; 1220）。 1320; 1420; 1520）。 该装置包括具有第一反射表面（124; 224; 424; 524; 1124; 1224）的第一反射镜（122; 222; 322; 422; 522; 1122; 1222; 1322; 1422; 1522） 通过围绕光轴（OA）旋转相对于光轴（OA）倾斜的直线来限定。 该装置还包括具有第二反射表面（126,126a，126b; 226a，226b; 326a，326b; 426a; 426b; 526; 1126; 1226; 1326a，1326b; 1426a，1426b; 1526a，1526b） 具有通过围绕所述光轴（OA）旋转曲线而限定的形状的光源（130,130a，130b; 1130）。 至少一个反射镜具有包含光轴（OA）的中心孔（128）。 该设备可以形成用于EUV照明系统的变焦准直仪（1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520），该EUV照明系统将发散光束变换成可变形状和/或直径的准直光束。

公开(公告)号：WO2016180525A1

公开(公告)日：2016-11-17

申请号：PCT/EP2016/000749

申请日：2016-05-07

Applicant: TRIOPTICS GMBH

Inventor： HEINISCH, Josef ,  POIKAT, Ralf

IPC: G01M11/02

CPC classification number: G01M11/0264 ,  G01M11/0235 ,  G01M11/0292

Abstract: Eine Vorrichtung (10) zur Messung einer Abbildungseigenschaft eines optischen Systems (12) erzeugt in einer Brennebene (26) des optischen Systems (12) ein Lichtmuster. Die Vorrichtung umfasst eine Anordnung von N voneinander getrennten Kameras (280; 2811 bis 2814., 2821 bis 2828), wobei jede Kamera ein Objektiv (30) und einen Lichtsensor (32) aufweist, der in einer Brennebene des Objektivs angeordnet ist. Die Kameras sind derart auf einer der Liehtmustererzeugungseinrichtung (14) gegenüberliegenden Seite angeordneten, dass jede Kamera mit ihrem Lichtsensor das unter der Mitwirkung des optischen Systems entstandene Bild von genau einem Ausschnitt des Lichtmusters erfasst. Erfindungsgemäß ist mindestens ein Strahlablenkelement (4211 bis 4214, 4221 bis 4228) derart zwischen dem optischen System und mindestens einer der Kameras (2811 bis 2814, 2821 bis 2828) angeordnet, dass es das auf die mindestens eine Kamera auftreffende Licht (271, 272) von einer Referenzachse (24) der Vorrichtung, an welcher das optische System ausgerichtet ist, ablenkt.

Abstract translation: 用于测量的光学系统（12）的成像特性的设备（10），在所述光学系统（12）的焦平面（26）产生的是光图案。 该装置包括N个独立的摄像机的阵列（280; 2811至2814，2821至2828年），每个摄像机具有镜头（30）和被布置在所述透镜的焦平面中的光传感器（32）。 该摄像机是这样的Liehtmustererzeugungseinrichtung中的一个（14）相反的一侧布置，各照相机，其光传感器检测与所述光图案的正好一个段的光学系统的图像的参与所得。 根据本发明，至少一个光束偏转元件（4211-4214，4221-4228）被布置在光学系统和所述摄像机的至少一种（2811年至2814年，2821年至2828年）之间，使得光入射到至少一个相机的光（271，272） 从装置的基准轴（24），以使光学系统对准偏转。

公开(公告)号：WO2016155874A1

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：PCT/EP2016/000508

申请日：2016-03-23

Applicant: DÜRR DENTAL AG

Inventor： WEBER, Michael ,  PHILIPPS, Bernd

IPC: G03B42/02 ,  G03B42/08

CPC classification number: G03B42/08 ,  G02B27/026

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Auslesen einer belichteten Speicherfolie, umfassend eine Lichtquelle, mit der Ausleselicht erzeugbar ist, eine Ablenkeinheit, mit der das Ausleselicht zum Auslesen der Speicherfolie (12) sequenziell mit einem Auslesefleck auf die Speicherfolie richtbar ist, wodurch dort ein wandernder Auslesefleck erzeugbar ist, eine Detektoreinheit für Fluoreszenzlicht, das von der Speicherfolie beim Auslesen mit dem Ausleselicht abgegeben wird, eine Steuereinrichtung, die dazu eingerichtet ist, die Lichtquelle, die Ablenkeinheit und die Detektoreinheit zu steuern. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Steuereinrichtung dazu eingerichtet ist, ein Vorauslesen der Speicherfolie zur Ermittlung von Ausleseparametern durchzuführen und nachfolgend ein Auslesen der Speicherfolien mit den ermittelten Ausleseparametern durchzuführen. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Auslesen einer Speicherfolie, mit den Schritten eines Auslesens eines Teils einer auf der Speicherfolienfläche befindlichen Information, einem Ermitteln von Ausleseparametern anhand des ausgelesenen Teils der Information und einem Auslesen des verbleibenden Teils der Information der Speicherfolienfläche mit den Ausleseparametern.

Abstract translation: 本发明涉及用于读出的露出存储膜，包括一个光源的装置中，是由读出光可生产，偏转单元与用于读出存储箔（12）读出光与在存储膜上的读出点，从而存在迁徙读出点顺序可定向 可以生成，检测器单元，其用于荧光与所读出的光，其适于将所述光源，偏转单元和要被控制的检测器单元的控制装置读出时从图像板射出。 根据本发明，它提供的是，控制装置被布置用于读出参数的确定执行存储膜的预取，并随后执行该存储器膜的读出所确定的读出参数。 此外，本发明涉及一种方法，用于读出存储箔，其包括对所述存储器薄膜片读取的信息的一部分的步骤，读出参数的确定基于所述信息的读出部分和所述存储膜表面的与所述读出的参数有关的信息的剩余部分的读出。

公开(公告)号：WO2015007298A1

公开(公告)日：2015-01-22

申请号：PCT/EP2013/002114

申请日：2013-07-17

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： KAMENOV, Vladimir ,  GRUNER, Toralf

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/20

CPC classification number: G03F7/70308 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/208 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70316

Abstract: A microlithographic apparatus comprises a light source producing projection light having a center wavelength λ and a projection objective having an optical axis and a transmission filter system. The latter comprises a first and a second diffractive optical element (44, 46). A drive (48) is configured to change the relative position between the first and the second diffractive optical element between an active position, in which the combination of the two diffractive optical elements diffracts more projection light on a light absorbing element than in a neutral position. The axial distance Δz between the two diffractive optical elements (44, 46) fulfils the condition 0 ≤Δz ≤ 3λ.

Abstract translation: 微光刻设备包括产生具有中心波长λ的投影光的光源和具有光轴的投影物镜和透射滤光镜系统。 后者包括第一和第二衍射光学元件（44,46）。 驱动器（48）构造成在第一和第二衍射光学元件之间的相对位置之间改变，其中两个衍射光学元件的组合将光吸收元件上的更多的投影光衍射到在中性位置 。 两个衍射光学元件（44,46）之间的轴向距离＆Dgr; z满足条件0≤＆Dgr;z≤3λ。

公开(公告)号：WO2014012660A3

公开(公告)日：2014-01-23

申请号：PCT/EP2013/002111

申请日：2013-07-16

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： BITTNER, Boris ,  WABRA, Norbert ,  SCHNEIDER, Sonja ,  SCHNEIDER, Ricarda ,  WAGNER, Hendrik ,  ILIEW, Rumen

IPC: G03F7/20

Abstract: A microlithographic projection exposure apparatus (10) configured in particular for EUV light includes a projection objective (26) having an adaptive mirror (M2) comprising, for its part, a mirror substrate (44) and an actuation unit (42) for deforming the mirror substrate (44). Using imaging aberrations measured previously, a set of control commands for the actuation unit (42) is determined, and when said set of control commands is transferred to the actuation unit (42), the mirror substrate (44) is deformed such that the imaging aberrations measured previously are corrected. Said set of control commands is stored in a nonvolatile data memory (66) and transferred to the actuation unit (42). If the operation of the projection exposure apparatus is interrupted after relatively long operating durations, the correction state previously present can be rapidly reestablished by simply reloading the stored control commands, without a renewed measurement of the imaging aberrations of the projection objective (26) being required.

公开(公告)号：WO2013044936A1

公开(公告)日：2013-04-04

申请号：PCT/EP2011/004859

申请日：2011-09-29

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  ZELLNER, Johannes ,  BITTNER, Boris ,  WABRA, Norbert ,  HODENBERG, Martin von ,  SCHNEIDER, Sonja ,  SCHNEIDER, Ricarda ,  SCHOB, Arne ,  RUDOLPH, Günter ,  GRATZKE, Alexander ,  MOFFAT, Bryce, Anton

Inventor： ZELLNER, Johannes ,  BITTNER, Boris ,  WABRA, Norbert ,  HODENBERG, Martin von ,  SCHNEIDER, Sonja ,  SCHNEIDER, Ricarda ,  SCHOB, Arne ,  RUDOLPH, Günter ,  GRATZKE, Alexander ,  MOFFAT, Bryce, Anton

IPC: G03F7/20 ,  H01S5/00

CPC classification number: G03F7/70308 ,  G03F7/70891 ,  H01S5/005 ,  H01S5/0064 ,  H01S5/4025

Abstract: A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a wavefront correction device (42) comprising a refractive optical element (44; 44a, 44b) that has two opposite optical surfaces (46, 48), through which projection light passes, and a circumferential rim surface (50) extending between the two optical surfaces (46, 48). A first and a second optical system (OS1, OS2) are configured to direct first and second heating light (HL1, HL2) to different portions of the rim surface (50) such that at least a portion of the first and second heating light enters the refractive optical element (44; 44a, 44b). A temperature distribution caused by a partial absorption of the heating light (HL1, HL2) results in a refractive index distribution inside the refractive optical element (44; 44a, 44b) that corrects a wavefront error. At least the first optical system (OS1) comprises a focusing optical element (55) that focuses the first heating light in a focal area (56) such that the first heating light emerging from the focal area (56) impinges on the rim surface (50).

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置的投影物镜包括波阵面校正装置（42），其包括折射光学元件（44; 44a，44b），该折射光学元件具有两个相对的光学表面（46,48），投射光通过该光学表面 轮缘表面（50）在两个光学表面（46,48）之间延伸。 第一和第二光学系统（OS1，OS2）被配置为将第一和第二加热光（HL1，HL2）引导到边缘表面（50）的不同部分，使得第一和第二加热光的至少一部分进入 折射光学元件（44; 44a，44b）。 由加热光（HL1，HL2）的部分吸收引起的温度分布导致折射光学元件（44; 44a，44b）内的折射率分布，其校正波前误差。 至少第一光学系统（OS1）包括聚焦光学元件（55），其将第一加热光聚焦在聚焦区域（56）中，使得从聚焦区域（56）出射的第一加热光照射在边缘表面上 50）。

公开(公告)号：WO2011104028A1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：PCT/EP2011/000923

申请日：2011-02-25

Applicant: SPONTECH SPINE INTELLIGENCE GROUP AG ,  COPF, Franz ,  WELSCH, Norbert ,  WELSCH, Thomas ,  LOUVARD, Eric ,  HANISCH, Frank ,  PROSS, Gerhard ,  SCHÖLS, Erik

Inventor： COPF, Franz ,  WELSCH, Norbert ,  WELSCH, Thomas ,  LOUVARD, Eric ,  HANISCH, Frank ,  PROSS, Gerhard ,  SCHÖLS, Erik

IPC: A61F2/30 ,  G06T7/60 ,  G09B23/30 ,  G06F19/00 ,  G06T7/00

CPC classification number: A61B5/1079 ,  A61F2/30744 ,  A61F2/30942 ,  A61F2/4425 ,  A61F2/4455 ,  A61F2/4611 ,  A61F2002/30604 ,  A61F2002/30616 ,  A61F2002/3085 ,  A61F2002/30948 ,  G06F19/00 ,  G06T19/20 ,  G06T2210/41 ,  G06T2219/2004 ,  G09B23/30 ,  G16H50/50

Abstract: A computer program for spine mobility simulation is configured, if running on a computer, to cause the computer to perform the following steps: a) accessing biometric data which relate to the spine of a patient, the spine having at least one compromised spine segment; b) displaying a model of the spine of the patient comprising a plurality of vertebrae; c) enabling a user to change the position of at least one of the vertebrae of the spine model; d) computing the effects of the position change on the remaining vertebrae; e) displaying the spine model in a new configuration, thereby taking into account the position changed by the user in step c) and the position changes of the remaining vertebrae computed in step d).

Abstract translation: 配置用于脊柱移动性模拟的计算机程序，如果在计算机上运行，​​以使计算机执行以下步骤：a）访问与患者的脊柱相关的生物统计学数据，所述脊柱具有至少一个受损的脊柱段; b）显示包括多个椎骨的患者脊柱的模型; c）使用户能够改变脊柱模型的至少一个椎骨的位置; d）计算位置变化对剩余椎骨的影响; e）以新配置显示脊柱模型，从而考虑在步骤c）中由用户改变的位置和在步骤d）中计算的剩余椎骨的位置变化。