公开(公告)号：WO2014117791A1

公开(公告)日：2014-08-07

申请号：PCT/EP2013/000300

申请日：2013-02-01

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： GRÄUPNER, Paul ,  GRUNER, Toralf

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70266 ,  G03F7/70891

Abstract: A scanner type microlithographic projection exposure apparatus comprises a wavefront correction device (42; 142) which is arranged between an object plane (28) and an image plane (30), but outside any pupil plane (36, 38), of a projection objective. The wavefront correction device (42) comprises a solid body (44; 144) having an optical surface (46) on which projection light (PL) is incident during operation of the apparatus (10). The device has a plurality of heating paths (52X, 52Y; 152X, 152Y) along which heat can be individually generated. The heating paths are arranged inside a correction volume of the solid body (44; 144), through which volume projection light passes, with a varying non-zero heating path density. The heating path density is, if seen along at least one line parallel to the scan direction (Y), higher in a center (56) of the correction volume than at a margin thereof (58, 60).

Abstract translation: 扫描仪型微光刻投影曝光装置包括布置在物平面（28）和图像平面（30）之间但在投影物镜的任何光瞳平面（36,38）之外的波前校正装置（42; 142） 。 波前校正装置（42）包括具有光学表面（46）的固体（44; 144），投影光（PL）在装置（10）的操作期间入射。 该装置具有多个可以分别产生热量的加热路径（52X，52Y; 152X，152Y）。 加热路径布置在固体（44; 144）的修正体积内，体积投影光通过该体积投影光，具有变化的非零加热路径密度。 如果沿平行于扫描方向（Y）的至少一条线看到加热通道密度，则在校正体积的中心（56）中比在其边缘（58,60）更高。

公开(公告)号：WO2014063719A1

公开(公告)日：2014-05-01

申请号：PCT/EP2012/004511

申请日：2012-10-27

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： PATRA, Michael

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/09

CPC classification number: G03F7/70075 ,  G02B3/0062 ,  G02B26/0816 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0961 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/7015

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises an optical integrator (70), which includes a first optical raster plate (74) and a second optical raster plate (76). The first second optical raster plate (74) comprising an array of first lenses (78) having, along a reference direction (X), a first focal length f 1 , and the second optical raster plate (76) comprises an array of second lenses (84) having, along the reference direction (X), a second focal length f 2 . The vertices of the first lenses and vertices of the second lenses are spaced apart by a distance d that is greater than the second focal length f2 so that d> 1.01-f 2 . This ensures that laser pointing or another transient variation of the illumination of the optical integrator does not adversely affect the spatial irradiance distribution in a plane (90) which is illuminated by the optical integrator (70).

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置的照明系统包括光学积分器（70），其包括第一光栅板（74）和第二光栅板（76）。 包括沿基准方向（X）具有第一焦距f1和第二光栅板（76）的第一透镜阵列（78）的第一第二光栅板（74）包括第二透镜阵列 84）沿着参考方向（X）具有第二焦距f2。 第一透镜的顶点和第二透镜的顶点间隔开大于第二焦距f2的距离d，使得d> 1.01-f2。 这确保了光学积分器的照明的激光指向或另一个瞬时变化不会不利地影响由光学积分器（70）照明的平面（90）中的空间辐射度分布。

公开(公告)号：WO2014008994A1

公开(公告)日：2014-01-16

申请号：PCT/EP2013/001962

申请日：2013-07-04

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： BITTNER, Boris ,  WABRA, Norbert ,  HODENBERG, Martin von ,  SCHNEIDER, Ricarda ,  SCHNEIDER, Sonja

IPC: G21K1/06 ,  G03F7/20 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/70233 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0816 ,  G02B26/06 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062

Abstract: A microlithographic projection exposure apparatus (10) for projecting a reflective mask (14) onto a light-sensitive layer (16) contains a catoptric lens (26) comprising a plurality of mutually adjusted mirrors (M1 to M6) configured to reflect projection light having a center wavelength of between 5 nm and 30 nm. The lens (26) is configured to direct projection light reflected from the mask (14) onto the light-sensitive layer (16). At least one of the plurality of mirrors (M2, M3) is a correction mirror for correcting wavefront deformations, which changes its form permanently when it is processed by a processing beam (65). Furthermore, a processing device (42) is provided, having a processing head (44), from which the processing beam (65) emerges during operation of the processing head. The processing head is arranged or can be arranged within the lens (26) such that the processing beam (65) impinges on none of the other plurality of mirrors before it processes the correction mirror (M2, M3).

Abstract translation: 用于将反射掩模（14）投影到感光层（16）上的微光刻投影曝光装置（10）包含反射镜（26），其包括多个相互调整的反射镜（M1至M6），反射镜（M1至M6） 中心波长在5nm和30nm之间。 透镜（26）构造成将从掩模（14）反射的投射光引导到感光层（16）上。 多个反射镜（M2，M3）中的至少一个是用于校正波前变形的校正反射镜，其在由处理光束（65）处理时永久地改变其形状。 此外，提供处理装置（42），其具有处理头（44），处理光束（65）在处理头的操作期间从该处理头（65）出现。 处理头被布置或可以布置在透镜（26）内，使得处理光束（65）在处理校正镜（M2，M3）之前不会碰到其它多个反射镜。

公开(公告)号：WO2013189579A1

公开(公告)日：2013-12-27

申请号：PCT/EP2013/001742

申请日：2013-06-13

Applicant: DÜRR DENTAL AG

Inventor： NONNENMACHER, Eberhardt

IPC: B04C5/04 ,  B04C11/00

CPC classification number: A61C17/046 ,  B04C5/04 ,  B04C5/103 ,  B04C11/00

Abstract: Ein Zyklon (10) zur Abscheidung von Feststoffpartikeln (12) aus einem Gemisch von Feststoffpartikeln (12) und Flüssigkeit hat einen Einlass (44) für das Gemisch, eine rotationssymmetrische Zyklonkammer (22), die sich von ihrem oberen Ende (18) zu ihrem unteren Ende (20) hin verjüngt, sowie eine rotationssymmetrische Vorkammer (46), die mit dem Einlass (44) in Verbindung steht und vom oberen Ende (18) der Zyklonkammer (22) durch eine Zwischenwand (30; 130) getrennt ist. Die Zwischenwand (30) weist dabei mindestens einen Durchgang von der Vorkammer (46) zur Zyklonkammer (22) auf. Um einen solchen Zyklon (10) besser mit wechselnden Gemischdurchsätzen zu Betreiben, ist in dem mindestens einen Durchgang ein Durchsatz-Steuerventil (50) vorgesehen, das druckabhängig aufsteuert.

Abstract translation: 一种用于固体颗粒从固体颗粒（12）和具有用于混合物的入口（44）液体，旋转对称的旋风室（22）的混合物从它的上端（18）延伸的分离（12）至旋风分离器（10）其 的下端（20）逐渐变细，以及旋转对称的前室（46）与入口（44）连通和所述旋风室（22）通过分隔的上端（18）（30; 130）被分离。 在这种情况下，中间壁（30）具有从预燃室（46）到所述旋风室（22）的至少一个通道。 这种旋流器（10）的流率变化到操作混合物更好是在所述至少一个通道提供了一种流量控制阀（50）aufsteuert压力依赖性。

公开(公告)号：WO2013143672A1

公开(公告)日：2013-10-03

申请号：PCT/EP2013/000873

申请日：2013-03-22

Applicant: DÜRR DENTAL AG

Inventor： BAUER, Walter

IPC: A61B6/03 ,  A61B6/00

CPC classification number: G21K1/067 ,  A61B6/032 ,  A61B6/035 ,  A61B6/4021 ,  A61B6/4028 ,  A61B6/4035 ,  A61B6/4085 ,  A61B6/4233 ,  A61B6/4435 ,  A61B6/4441 ,  A61B6/484 ,  A61B6/548 ,  G01N23/046 ,  G01N23/20075 ,  G21K2201/067 ,  G21K2207/005 ,  H05G1/30

Abstract: Ein Phasenkonstrast-Röntgen-Tomographiegerät hat eine Elektronenkanone (44) mit nachgeordneter Ablenkspule (52). Der Röntgenstrahl (56) wird durch die Ablenkspule (54) auf einer kreisförmigen Bahn über ein Target (58) geführt, welches geringfügig gegenüber einer senkrecht auf der Geräteachse stehenden Ebene geneigt ist. Der beim Brennfleck F des Elektronenstrahls (56) erzeugte Röntgenstrahl (62) durchquert ein Objekt (70) und gelangt über ein Phasengitter (64) und ein Amplitudengitter (66) auf eine Detektorzeile (68).

Abstract translation: 相衬X射线成像装置具有电子枪（44）与下游的偏转线圈（52）。 所述X射线束（56）通过关于目标（58），相对于垂直稍微倾斜于该仪器的轴线是在圆形路径上的偏转线圈（54）被引导。 在电子束的焦点光斑F产生（56）的X射线束（62）穿过的物体（70）和穿过相位光栅（64）和一个振幅光栅（66）的检测器行（68）。

公开(公告)号：WO2013064220A1

公开(公告)日：2013-05-10

申请号：PCT/EP2012/004422

申请日：2012-10-23

Applicant: DÜRR DENTAL AG

Inventor： PRAGER, Ulrich

IPC: A61B6/00 ,  A61B6/14 ,  A61B5/055

CPC classification number: A61B5/0555 ,  A61B6/03 ,  A61B6/0421 ,  A61B6/14 ,  A61B6/508 ,  A61B6/527 ,  A61B2562/17

Abstract: Ein Gerät zur tomographischen Messung eines Parameters eines Objektes, insbesondere ein Kernspin- oder Computertomograph hat zusätzlich zu einem die gesteuert Grob-Relativlage messenden Groblagefühler (26) einen oder mehrere Feinlagenfühler (32 - 38), welche Störbewegungen des Objektes (24) ermitteln, also eine nicht gewünschte Änderung der Relativlage zwischen Objekt (24) und Messebene des Gerätes messen. Die Ausgangssignale der Feinlagenfühler (32 - 38) werden zur Korrektur der Pixel bzw. Schichtaufnahmen verwendet.

Abstract translation: 为一个对象的一个​​参数的断层测量，特别是磁共振成像或计算机断层摄影系统中的装置除了具有受控粗相对位置测量粗调位置传感器（26）的一个或多个细位置传感器（32 - 38），其检测所述对象（24）的干扰的动作，所以 测量所述对象（24）和所述设备的测量平面之间的相对位置的非期望变化。 细位置传感器（32 - 38）的输出被用于校正所述像素或切片图像。

公开(公告)号：WO2013037448A1

公开(公告)日：2013-03-21

申请号：PCT/EP2012/003548

申请日：2012-08-22

Applicant: DÜRR DENTAL AG ,  NONNENMACHER, Eberhardt

Inventor： NONNENMACHER, Eberhardt

IPC: A61C17/06 ,  B04C5/00 ,  B04C5/04 ,  B04C5/103

CPC classification number: A61C17/046 ,  B04C5/103 ,  B04C5/13 ,  B04C5/187

Abstract: Ein einfach aufgebauter und trotzdem guten Wirkungsgrad aufweisender Zyklon (10) zum Trennen nicht gasförmiger Bestandteile und gasförmiger. Bestandteile eines Gemisches hat einen oberen Trennabschnitt (18, 20) und einen unteren Sammelabschnitt (22) für nicht gasförmige Komponenten. Zwischen diesen beiden Abschnitten ist eine Trennplatte (62) schräg geneigt angeordnet, welche vom offenen Ende eines Luftabführrohres (38) beabstandet ist, dieses aber in radialer Richtung überdeckt

Abstract translation: 具有简单结构，并且仍然具有用于分离非气态组分和气态良好的效率方向旋风分离器（10）。 混合物的组分具有用于非气态组分的上部分离部（18，20）和下收集部（22）。 这两个部分之间，分隔板（62）被布置成倾斜，这是从一个Luftabführrohres（38）的开口端间隔开，但覆盖该在径向方向上

公开(公告)号：WO2012116710A1

公开(公告)日：2012-09-07

申请号：PCT/EP2011/000960

申请日：2011-02-28

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  PATRA, Michael ,  DEGÜNTHER, Markus

Inventor： PATRA, Michael ,  DEGÜNTHER, Markus

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G03F7/70158

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a light source (30) which is configured to produce projection light (PL), a pupil plane (84) and a diffractive optical element (48) that is arranged between the light source (30) and the pupil plane (84) such that an irradiance distribution of projection light (PL) in the pupil plane (84) depends on the position of a field (96a, 96b, 96c) that is illuminated by the projection light (PL) on the diffractive optical element (48). The illumination system further comprises an optical imaging system (34; 134; 234; 334) that is arranged between the light source (30) and the diffractive optical element (48). The optical imaging system ensures that changes of the direction and divergence of the projection light (PL) emitted by the light source (30) have no substantial effect on the position and size of the field which is illuminated on the diffractive optical element (48) by the projection light (PL).

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括被配置为产生投影光（PL）的光源（30），配置在光的光瞳平面（84）和衍射光学元件（48）之间， 源极（30）和光瞳面（84），使得投影光（PL）在光瞳平面（84）中的辐照度分布取决于由投影光照射的场（96a，96b，96c）的位置 （PL）在衍射光学元件（48）上。 照明系统还包括布置在光源（30）和衍射光学元件（48）之间的光学成像系统（34; 134; 234; 334）。 光学成像系统确保由光源（30）发射的投射光（PL）的方向和发散的变化对于在衍射光学元件（48）上照射的场的位置和尺寸没有实质影响， 通过投影光（PL）。

公开(公告)号：WO2012062464A1

公开(公告)日：2012-05-18

申请号：PCT/EP2011/005631

申请日：2011-11-09

Applicant: SPONTECH SPINE INTELLIGENCE GROUP AG ,  COPF, Franz

Inventor： COPF, Franz

IPC: A61B17/70 ,  A61B17/88

CPC classification number: A61B17/8863 ,  A61B17/7011 ,  A61B90/39

Abstract: A spine fixation installation system comprises a spine fixation system (10) including a rod (12), a plurality of pedicle screws or other fasteners (14) and a plurality of connectors (18). The spine fixation installation system further comprises a rod bending device (40) for bending the rod (12). To this end the rod (12) is provided with a plurality of longitudinal marks (30). A computer (22) of the spine fixation installation system is programmed to compute a desired shape of the rod (12).

Abstract translation: 脊柱固定安装系统包括脊柱固定系统（10），其包括杆（12），多个椎弓根螺钉或其他紧固件（14）和多个连接器（18）。 脊柱固定安装系统还包括用于弯曲杆（12）的杆弯曲装置（40）。 为此，杆（12）设置有多个纵向标记（30）。 脊柱固定安装系统的计算机（22）被编程为计算棒（12）的期望形状。

公开(公告)号：WO2012062420A1

公开(公告)日：2012-05-18

申请号：PCT/EP2011/005473

申请日：2011-10-28

Applicant: TARKETT INC. ,  EMGE, Thorsten ,  MORTON-FINGER, Jürgen

Inventor： EMGE, Thorsten ,  MORTON-FINGER, Jürgen

IPC: D01D5/253 ,  E01C13/08

CPC classification number: E01C13/08 ,  D01D5/253 ,  D02G3/34 ,  Y10T428/23929 ,  Y10T428/23936 ,  Y10T428/2976 ,  Y10T428/2978

Abstract: A filament for use in an artificial grass field, wherein the filament has a front and a back surface and at least one of the front surface and back surface includes a plurality of adjacent concave indentations extending generally from a first end to a second end.

Abstract translation: 一种用于人造草地的细丝，其中所述长丝具有前表面和后表面，并且所述前表面和后表面中的至少一个包括大体上从第一端延伸到第二端的多个相邻的凹陷痕。