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公开(公告)号：WO2020138469A1
公开(公告)日：2020-07-02
申请号：PCT/JP2019/051544
申请日：2019-12-27
Applicant: ホヤ レンズ タイランド リミテッド , 野村 琢美
Inventor： 野村 琢美
Abstract: 本発明は、レンズ表面の同一膜で高い抗菌性能および帯電防止性能を同時に得られる眼鏡レンズを提供する。 本発明の眼鏡レンズ１は、レンズ基材１１の表面上に、酸化タングステン粒子、酸化スズ粒子、及び銀粒子を含有する塗膜１４を有することにより、レンズ表面の高い抗菌性能および帯電防止性能を同一膜（塗膜１４）で発揮する。
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公开(公告)号：WO2018116998A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：PCT/JP2017/045227
申请日：2017-12-16
Applicant: 日本製紙株式会社
Abstract: 本発明は、良好な防眩性を維持しつつ、輝度ムラを抑えることができ、ディスプレイの視認性の良好なハードコートフィルムを提供する。 本発明のハードコートフィルムは、透明フィルム上に、有機微粒子及び電離放射線硬化型樹脂を含有するハードコート層を有する。そして、このハードコート層に含有される電離放射線硬化型樹脂の屈折率(nx)と有機微粒子の屈折率(ny)の差(｜nx-ny｜)が０．０３以上である。
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公开(公告)号：WO2017002779A1
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：PCT/JP2016/069072
申请日：2016-06-28
Applicant: 日本製紙株式会社
Abstract: 本発明は、良好なＡＮ効果の付与と視認性の維持を両立させ、ヘイズ値を低く抑え、コントラスト悪化や透過率低下を抑制し、ディスプレイの視認性を良好に維持できるハードコートフィルムを提供する。 本発明のハードコートフィルム１０は透明フィルム基材１上に微粒子Ａ及び電離放射線硬化型樹脂を含有するハードコート層２を有する。微粒子Ａは有機系微粒子である。ハードコート層２中の微粒子Ａと電離放射線硬化型樹脂との屈折率差は０．００１超０．０５０以下の範囲であり、ハードコート層２中の電離放射線硬化型樹脂からなる膜厚Ｔは微粒子Ａの平均粒子径の０．７倍～２．０倍である。
Abstract translation: 本发明提供一种提供优异的抗牛顿环效果和持续可视性，降低雾度值，抑制对比度降低和透射率下降的硬涂膜，并且可以维持显示器的可视性。 该硬涂膜10包括透明膜基材1上的硬涂层2，含有微粒A的硬涂层2和电离辐射固化树脂。 细颗粒A是有机颗粒。 硬涂层2中的电离辐射固化性树脂和微粒A的折射率的差异大于0.001，最多为0.050，硬涂层中的电离辐射固化型树脂的膜厚T 2是细颗粒A的平均粒径的0.7-2.0倍。
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4.发明申请ガラス基板の研磨方法、研磨液、ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 审中-公开用于抛光玻璃基板，抛光液，制造玻璃基板的方法，用于制造用于磁盘的玻璃基板的方法，以及用于制造磁性盘的方法
公开(公告)号：WO2016186214A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/JP2016/065103
申请日：2016-05-20
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 中川 裕樹
Abstract: 本発明は、酸化セリウムを研磨砥粒としてガラス基板の表面を研磨する研磨処理において、研磨速度を向上できるガラス基板の研磨方法を提供する。 本発明に係るガラス基板の研磨方法は、ガラス基板の研磨面に、酸化セリウムを研磨砥粒として含む研磨液を供給してガラス基板の表面を研磨処理する方法である。ここで、上記研磨液として、上記酸化セリウムを研磨砥粒として含み、さらに無機還元剤を含むとともに、アルカリ性であるものを使用する。
Abstract translation: 本发明提供了一种制造玻璃基板的方法，其中在使用氧化铈作为抛光磨粒以抛光玻璃基板的表面的抛光工艺中可以提高抛光速度。 根据本发明的用于抛光玻璃基板的方法包括通过将包含氧化铈作为抛光磨粒的抛光液供给到玻璃基板的抛光表面来研磨玻璃基板的表面。 作为研磨液，使用含有氧化铈作为研磨磨粒并含有无机还原剂的碱性液体。
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公开(公告)号：WO2016093270A1
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：PCT/JP2015/084504
申请日：2015-12-09
Applicant: 日本製紙株式会社
IPC: B32B27/00
CPC classification number: B32B27/00
Abstract: 本発明は、高い接着剤との接着性（接着剤との濡れ性）を有しているとともに、干渉縞の発生を防止したハードコートフィルムを提供することを目的とする。 本発明のハードコートフィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に電離線硬化樹脂及びレベリング剤を含有するハードコート層を設けたハードコートフィルムにおいて、該ハードコート層表面の水の接触角が７０度以下、且つヘキサデカンの接触角が２０度以下であることを特徴とするものである。
Abstract translation: 本发明的目的是提供一种对粘合剂（对粘合剂的润湿性）具有高粘附性的硬涂膜，同时防止发生干涉条纹。 通过在基膜的至少一个表面上配置含有电离射线固化性树脂和流平剂的硬涂层，得到本发明的硬涂膜。 该硬涂层的特征在于，硬涂层的表面与水的接触角为70度以下，与十六烷的接触角为20度以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2015046542A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：PCT/JP2014/075965
申请日：2014-09-29
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 俵 義浩
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/8404
Abstract: 本発明は、ガラス基板主表面の表面粗さを現行よりもさらに低減できる磁気ディスク用等のガラス基板の製造方法を提供する。 本発明では、例えば、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂またはウレタン系樹脂からなる有機系粒子を研磨砥粒として含有する研磨液を用いて、磁気ディスクに用いられるガラス基板の主表面を鏡面研磨（最終仕上げ研磨）した後、有機系洗浄剤を用いてガラス基板を洗浄することにより、基板主表面の表面粗さを現行よりもさらに低減できる。
Abstract translation: 本发明提供一种与现有的制造方法相比能够进一步降低玻璃基板的主面的表面粗糙度的磁盘用玻璃基板等的制造方法。 根据本发明，与通过现有的制造方法得到的基板的主表面的表面粗糙度相比，可以进一步减小基板的主表面的镜面抛光（最终精加工） 使用包含作为抛光磨粒的由苯乙烯树脂，丙烯酸树脂或聚氨酯树脂形成的有机颗粒，然后使用有机清洁剂清洗玻璃基板的抛光液的磁盘。
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公开(公告)号：WO2014208762A1
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：PCT/JP2014/067290
申请日：2014-06-29
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 俵 義浩
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , B24B37/08 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/095 , C03C15/02 , C03C19/00 , C03C21/002 , C03C23/00 , C09K3/1409 , C09K3/1454 , G11B5/62 , G11B5/73 , G11B5/84
Abstract: 本発明は、ガラス基板主表面の表面粗さを現行よりも低減できる磁気ディスク用などのガラス基板の製造方法を提供する。 本発明では、例えばスチレン系樹脂、アクリル系樹脂またはウレタン系樹脂からなる有機系粒子を研磨砥粒として含有する研磨液を用いて、例えば磁気ディスクに用いられるガラス基板の主表面を鏡面研磨（最終仕上げ研磨）することにより、基板主表面の表面粗さを現行よりもさらに低減できる。
Abstract translation: 本发明提供了一种用于磁盘等的玻璃基板的制造方法，可以使玻璃基板的主表面的表面粗糙度从目前的水平降低。 根据本发明，通过使用含有由苯乙烯树脂，丙烯酸树脂或聚氨酯树脂形成的有机颗粒作为抛光颗粒的抛光溶液和镜面抛光（最终），可以从目前的水平进一步降低基板主表面的表面粗糙度 抛光）用于磁盘的玻璃基板的主表面。
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公开(公告)号：WO2014175292A1
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：PCT/JP2014/061342
申请日：2014-04-22
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/8404
Abstract: 本発明は精密研磨で得られた平滑な表面粗さをできる限り悪化させずに、高清浄な洗浄が実施可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法では、磁気ディスク用ガラス基板の鏡面研磨工程後に、ガラス基板に対するエッチング性を有し、グアニジンおよびイミダゾールの少なくとも一方を含有する洗浄液にガラス基板を接触させる洗浄処理を行う。また、前記洗浄液中のナトリウムイオンとカリウムイオンの総量を２００ｐｐｍ未満に抑えながら洗浄処理を行う。
Abstract translation: 本发明提供了一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其中可以在不降质的情况下进行超洁净清洁，尽可能地获得精密抛光得到的光滑表面。 在该磁盘用玻璃基板的制造方法中，在对磁盘用玻璃基板进行了镜面抛光的工序之后，通过暴露于可以蚀刻玻璃基板的清洗液， 至少含有胍或咪唑。 此外，在将清洗液中的钠离子和钾离子的总量保持在200ppm以下的同时进行清洗。
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公开(公告)号：WO2014069609A1
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：PCT/JP2013/079646
申请日：2013-10-31
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/8404
Abstract: 本発明は、固定砥粒による研削加工において、研削加工できない時間を減らし、加工速度を落とさずに、しかも加工面の表面粗さを低く抑え、高品質のガラス基板を製造可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 本発明では、潤滑液と、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒が研削面に配備された定盤とを用いてガラス基板の主表面を研削する研削加工処理を含む。ガラス基板は主表面が鏡面のガラス基板である。研削加工処理は、研削加工を行う荷重よりも高荷重でガラス基板表面を粗面化する第一段階と、第一段階の荷重よりも低荷重でガラス基板表面の研削加工を行う第二段階とを有する。第一段階と第二段階は同一の装置を用いて行う。
Abstract translation: 本发明提供了一种用于制造用于磁盘的玻璃基板的方法，所述方法减少了不能进行通过固定磨粒的研磨工艺的时间，使得可以生产高质量的玻璃基板不仅不会减慢 处理速度，同时将其处理表面的表面粗糙度保持在最小。 在本发明中，该方法包括使用润滑剂研磨玻璃基板的主表面的研磨工艺和在研磨表面上设置有包含金刚石颗粒的固定磨粒的表面板。 玻璃基板是主表面是镜面的玻璃基板。 研磨方法包括以比研磨更高的负荷来研磨玻璃基材的表面的第一阶段，以及以比第一阶段更低的负载研磨玻璃基板的表面的第二阶段。 第一阶段和第二阶段使用相同的装置执行。
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公开(公告)号：WO2012029857A1
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：PCT/JP2011/069784
申请日：2011-08-31
IPC: G11B5/84 , B24B1/00 , B24B7/24 , C10M125/02 , C10M125/10 , C10M177/00 , G11B5/73
CPC classification number: G11B5/8404 , C10M125/10 , C10M2201/062 , G11B5/7315 , C10N2210/03
Abstract: 本発明は、固定砥粒による研削加工を研削レートの低下を伴うことなく可能とし、高品質のガラス基板を低コストで製造可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 本発明は、潤滑液と、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒が研削面に配備された定盤とを用いてガラス基板の主表面を研削する研削工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。上記研削工程において、上記ガラス基板の研削加工面に供給される潤滑液中に、たとえばＡｌ ２ Ｏ ３ を添加することによってＡｌ ３＋ を含有させる。潤滑液中のＡｌ ２ Ｏ ３ の含有量は、好ましくは０．０５ｇ／Ｌ～１．０ｇ／Ｌの範囲内である。
Abstract translation: 提供一种用于制造用于磁盘的玻璃基板的方法，其能够通过硬磨蚀而不降低研磨速度进行研磨，并且可以以低成本制造高质量的玻璃基板。 本发明是一种生产用于磁盘的玻璃基板的方法，该方法包括：研磨步骤，其中使用润滑溶液研磨玻璃基板的主表面; 以及具有研磨表面的表面板，在其上定位有包含金刚石颗粒的磨料颗粒。 在上述研磨工序中，例如通过添加Al 2 O 3将供给到玻璃基板的研磨面的润滑溶液含有Al 3+离子。 润滑溶液的Al 2 O 3含量优选在0.05g / L〜1.0g / L的范围内。
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