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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2012042818A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/JP2011/005382
申请日：2011-09-26
Applicant: 富士フイルム株式会社 , 梅澤 朋一
Inventor： 梅澤 朋一
IPC: G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G11B7/261 , B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/12
Abstract: 【課題】 熱リソグラフィによってネガ型のパターンを形成する。 【解決手段】 基板上に、オキソノール系色素からなるレジスト層を形成し、形成されたレジスト層上に走査速度１ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下でレーザー光を走査し、レーザー光が走査されたレジスト層を、アルコールを主成分とする現像液で現像する。
Abstract translation: [问题]通过热平版印刷形成负型图案。 [解决方案]在基材上形成含有氧杂醇颜料的抗蚀剂层，将扫描速度为1〜30m / s的激光照射在抗蚀剂层上，并使用以醇为主要成分的显影液 由激光扫描的抗蚀剂层。
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公开(公告)号：WO2012042817A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/JP2011/005381
申请日：2011-09-26
Applicant: 富士フイルム株式会社 , 梅澤 朋一
Inventor： 梅澤 朋一
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/36 , B29C33/3842 , G03F7/0017 , G03F7/105 , G03F7/2053
Abstract: 【課題】基板に与えるダメージを抑えつつ、フォトレジスト層上の異物を除去する。 【解決手段】基板（１１）上に、ヒートモードの形状変化が可能な有機色素からなるフォトレジスト層（１２）を形成する。フォトレジスト層（１２）にレーザ光を照射し、フォトレジスト層のレーザ光が照射された部分に穴部（１３）を形成する。真空中で所定のガスを用いてフォトレジスト層（１２）をエッチングし、レーザ光を照射して穴部（１３）を形成する際に発生した異物を除去する。
Abstract translation: [问题]去除光刻胶层上的异物，同时抑制对基板的损害。 在基板（11）上，形成光致抗蚀剂层（12），所述光致抗蚀剂层能够以热模式改变其形状，并且由有机染料组成。 将激光束施加到光致抗蚀剂层（12）上，并且在施加激光束的光致抗蚀剂层部分中形成孔（13）。 在真空中，使用预定的气体蚀刻光致抗蚀剂层（12），并且通过施加激光束去除在形成孔（13）时产生的异物。
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公开(公告)号：WO2012042811A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/JP2011/005371
申请日：2011-09-26
Applicant: 富士フイルム株式会社 , 梅澤 朋一 , 西田 陽一
CPC classification number: G11B5/8404
Abstract: 【課題】凹凸形状が形成された基板を作製する。 【解決手段】高周波電源（２１）から、基板（１６）及び基板ホルダ（１２）の少なくとも一方に対して高周波電圧を印加する。供給材料膜（１５）から基板（１６）へ供給材料を供給し、基板表面の下地材料上に供給材料による凸部を形成する。供給材料膜（１５）は、基板（１６）の表面へ供給材料を直接入射させることができない位置に配置されている。基板（１６）の表面の下地材料の常温における表面エネルギーγｓｕｂと、供給材料の融点における表面エネルギーγｓｐとは、γｓｕｂ－γｓｐ＞０の関係にある。
Abstract translation: [问题]制造其上形成有凹凸的基板。 [解决方案]将来自高频电源（21）的高频电压施加到基板（16）和/或基板支架（12）。 将来自原料膜（15）的原料供给到基板（16），并使用原料在基板表面的基材上形成突起。 进给材料膜（15）设置在不能直接施加到基板（16）的表面的位置。 基材（16）表面的基材的常温表面能（△sub）与原料熔点的表面能（Δsp）之间的关系为Δsub-Δsp> 0。
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公开(公告)号：WO2012042819A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/JP2011/005383
申请日：2011-09-26
Applicant: 富士フイルム株式会社 , 梅澤 朋一
Inventor： 梅澤 朋一
IPC: G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/12 , B82Y40/00 , H01L21/32139
Abstract: 【課題】数百ｎｍオーダー以下のリング状のパターンを形成する。 【解決手段】基板（１０）上に、オキソノール系色素からなり、波長５８０ｎｍの光に対するＯＤ値が１．０以上１．６以下であるレジスト層（３０）を形成し、形成されたレジスト層（３０）上に走査速度３ｍ／ｓ以上１０ｍ／ｓ以下でレーザー光を走査し、レーザー光が走査されたレジスト層を、アルコールを主成分とする現像液で現像する。
Abstract translation: [问题]形成数百nm以下的环状图案。 [解决方案]在基板（10）上形成相对于波长为580nm的光，由氧杂菁染料形成的OD值为1.0-1.6（含）的抗蚀剂层（30）。 用激光束以3-10m / s（含）的扫描速度扫描由此形成的抗蚀剂层（30），用激光束扫描的抗蚀剂层用主要由 一个酒精。
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公开(公告)号：WO2006082802A1
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：PCT/JP2006/301518
申请日：2006-01-31
Applicant: 富士写真フイルム株式会社 , 梅澤 朋一 , 御子柴 尚
CPC classification number: G11B7/24038 , G11B7/2403 , G11B7/246 , G11B7/2478 , G11B7/252
Abstract: 光情報記録媒体は、基板上に、色素を含有する記録層が少なくとも２層形成され、少なくとも２層ある前記記録層のうち、第１の記録層および第２の記録層に含有される前記色素の少なくとも１種がオキソノール色素であり、前記第１の記録層と前記第２の記録層との間に中間層が形成されていることを特徴とする光情報記録媒体を提供する。 また、対向する一対の基板と、前記対向する一対の基板の間に形成された２層以上の記録層とを有する光情報記録媒体であって、前記２層以上の記録層のうち少なくとも１つの記録層のレーザー光が入射する側に隣接して色素保護層が形成され、前記少なくとも１つの記録層の屈折率（ｎ 1 ）と当該記録層に隣接する前記色素保護層の屈折率（ｎ 2 ）とが、下記式（１）の条件を満たすことを特徴とする光情報記録媒体を提供する： 式（１）：ｎ 1 －０．８＜ｎ 2 ＜ｎ 1 ＋０．５である。
Abstract translation: 一种光学信息记录介质，包括基板和至少两层含有染料的记录层，并形成在所述基板上，其特征在于，所述至少两个所述第一记录层和所述第二记录层中包含的至少一种染料 记录层的层是氧杂菁染料，并且在第一记录层和第二记录层之间形成中间层。 一种光学信息记录介质，包括一对相对的基板，以及形成在所述一对相对基板之间的至少两层记录层，其特征在于，在至少一个相对的基板的激光束入射侧附近形成染料保护层 至少两层记录层之间的记录层，以及至少一个记录层的折射率（n <1> 1）和折射率（n <2> 2） 与该记录层相邻的染料保护层满足下式（1）。 表达式（1）：n <1> -0.8
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