公开(公告)号：WO2014068778A1

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：PCT/JP2012/078580

申请日：2012-11-05

申请人： 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  白幡 孝洋 ,  織田 容征 ,  平松 孝浩

发明人： 白幡　孝洋 ,  織田　容征 ,  平松　孝浩

IPC分类号： B05B7/04 ,  B05B7/08 ,  B05B13/00

CPC分类号： C23C16/455 ,  B05B1/044 ,  B05B7/0012 ,  B05B7/0075 ,  B05B7/0483 ,  B05B12/18 ,  B05B14/00 ,  B05B15/55 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/4486 ,  C23C16/46

摘要： 　本発明は、基板上に膜質の良い膜を成膜することができ、溶液を成膜処理に有効に利用することができ、装置全体の小型化を図ることができる成膜装置を提供する。そこで、本発明に係る成膜装置では、スプレーノズル（１）、第一の室（２）、第一のガス供給口（３ａ）、第二の室（４）、貫通孔（５）および噴霧口（１０）を備えている。スプレーノズル（１）から噴射される液滴化された溶液は、第一の室（２）に収容され、第一のガス供給口（３ａ）からの気体により、第一の室内（２）内において溶液はミスト化される。ミスト化された溶液は、貫通孔（５）を通って第一の室（２）から第二の室（４）に移動し、第二の室（４）に設けられた噴霧口（１０）から、基板（５０）に向けて噴霧される。

摘要翻译： 本发明提供一种成膜装置，其能够在基板上形成具有优异膜质量的膜，并且能够在成膜工艺中有效地使用溶液，所述成膜装置具有 整体尺寸小。 该成膜装置设置有喷嘴（1），第一室（2），第一气体供给口（3a），第二室（4），通孔（5）和喷雾口 10）。 从喷嘴（1）以液滴形式喷出的溶液被储存在第一室（2）中，溶液通过第一气体供给口（3a）供给的气体在第一室（2）中雾化 ）。 雾化溶液通过通孔（5）从第一室（2）移动到第二室（4），并且从设置在第二室中的喷射口（10）向基板（50）喷射 4）。

公开(公告)号：WO2012124047A1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：PCT/JP2011/055986

申请日：2011-03-15

申请人： 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  織田 容征 ,  白幡 孝洋 ,  吉田 章男

发明人： 織田　容征 ,  白幡　孝洋 ,  吉田　章男

IPC分类号： C23C18/02 ,  B05B1/04 ,  C23C16/455

CPC分类号： H01L31/1876 ,  B05B1/04 ,  B05B7/0012 ,  B05B7/0416 ,  B05B7/0458 ,  C23C16/4486 ,  C23C16/45514 ,  C23C16/45595

摘要： 　本発明は、成膜が実施される基板への均一なミストの噴出を維持しつつ、ミスト噴射用ノズル周辺の構成の肥大化を防止することができる、成膜装置を提供することを目的とする。そして、本発明は、成膜の原料となるミストを発生するミスト発生器（２）と、ミスト発生器で発生したミストを、膜の成膜が行われる基板へと噴射するミスト噴射用ノズル（１）とを、備えている。ミスト噴射用ノズルは、中空部（１Ｈ）を有する本体部（１Ａ）と、ミストを供給するミスト供給口（５ａ）と、ミストを外部に噴射する噴射口（８）と、キャリアガスを供給するキャリアガス供給口（６ａ）と、複数の孔（７ａ）が形成されたシャワープレート（７）とを、備えている。ここで、中空部は、シャワープレートの配設により、キャリアガス供給口と接続される第一の空間（１Ｓ）と、噴射口に接続される第二の空間（１Ｔ）とに分割され、ミスト供給口は、第二の空間に接続される。

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种成膜装置，可以防止在雾状喷雾嘴周围的形状膨胀，同时保持喷雾到要形成膜的基板上。 本发明具有用于产生作为成膜原料的雾的雾发生器（2）和用于将由雾发生器产生的雾喷射到其上将要形成膜的基板的雾喷嘴（1）。 雾喷嘴具有中空部（1H）的主体部（1A），供给雾的雾供给口（5a），喷雾到外部的喷雾口（8），载气供给部 用于供应载气的端口（6a）和具有多个孔（7a）的喷淋板（7）。 这里，通过将淋浴板放置在与载气供给口连接的第一空间（1S）和与喷雾口连接的第二空间（1T）而分割中空部，并且将雾供给口连接到 第二空间。

公开(公告)号：WO2011151889A1

公开(公告)日：2011-12-08

申请号：PCT/JP2010/059243

申请日：2010-06-01

申请人： 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  国立大学法人京都大学 ,  白幡 孝洋 ,  織田 容征 ,  吉田 章男 ,  藤田 静雄 ,  川原村 敏幸

发明人： 白幡　孝洋 ,  織田　容征 ,  吉田　章男 ,  藤田　静雄 ,  川原村　敏幸

IPC分类号： C23C16/40

CPC分类号： C23C16/407 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1279 ,  C23C18/1287 ,  C23C18/1291

摘要： 　本発明の一実施例に係る成膜装置（１００）では、第一の溶液容器（５Ａ）、第二の溶液容器（５Ｂ）、反応容器（１）、第一の経路（Ｌ１）および第二の経路（Ｌ２）を、備える。第一の溶液容器（５Ａ）は、金属を含む材料溶液（１０）が入っている。第二の溶液容器（５Ｂ）には、過酸化水素が入っている。反応容器（１）は、基板（２）が配置され、基板を加熱する加熱器（３）を有する。第一の経路（Ｌ１）は、材料溶液（１１）を、第一の溶液容器（５Ａ）から反応容器（１）へと供給する。第二の経路（Ｌ２）は、過酸化水素を、第二の溶液容器（５Ｂ）から反応容器（１）へと供給する。

摘要翻译： 根据本发明的一个实施方案的成膜设备（100）包括第一溶液容器（5A），第二溶液容器（5B），反应容器（1），第一路径（L1）和第二路径 L2）。 第一溶液容器（5A）容纳含有金属的原料溶液（10）。 第二溶液容器（5B）保持过氧化氢。 将基板（2）放置在反应容器（1）中，反应容器（1）具有用于加热基板的加热器（3）。 第一路径（L1）将原料溶液（10）从第一溶液容器（5A）供应到反应容器（1）。 第二路径（L2）将过氧化氢从第二溶液容器（5B）供应到反应容器（1）。

公开(公告)号：WO2013145160A1

公开(公告)日：2013-10-03

申请号：PCT/JP2012/058153

申请日：2012-03-28

申请人： 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  白幡 孝洋 ,  織田 容征 ,  平松 孝浩

发明人： 白幡　孝洋 ,  織田　容征 ,  平松　孝浩

IPC分类号： C01G9/02

CPC分类号： C23C18/1216 ,  C23C18/1258 ,  C23C18/1291 ,  C23C18/1295 ,  C23C18/14 ,  H01B1/08 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/50

摘要： 　本発明は、低コストにて低抵抗の金属酸化膜を作製することができる金属酸化膜の製造方法を提供する。そこで、本発明に係る金属酸化膜の製造方法では、亜鉛を含む溶液（７）を、非真空下に配置された基板（１）に対して噴霧し、さらに、基板（１）に対して、ドーパントを含むドーパント溶液（５）を噴霧する。そして、成膜後の金属酸化膜（１０）に対して低抵抗化処理を施す。ここで、基板（１）に供給される亜鉛のモル濃度に対する、基板（１）に供給されるドーパントのモル濃度が、所定の値以上である。

摘要翻译： 本发明提供一种用于制造金属氧化物膜的方法，其可以以低成本制造具有低电阻的金属氧化物膜。 此外，在金属氧化物膜的制造方法中，含有锌的溶液（7）在非真空状态的基板（1）上被雾化，此外，含有掺杂剂的掺杂剂溶液（5）在 基板（1）。 此外，在成膜后对金属氧化物膜（10）进行电阻降低处理。 这里，供给到基板（1）的掺杂剂相对于提供给基板（1）的锌的摩尔浓度的摩尔浓度至少为预定值。

公开(公告)号：WO2013118353A1

公开(公告)日：2013-08-15

申请号：PCT/JP2012/077416

申请日：2012-10-24

申请人： 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  白幡 孝洋 ,  織田 容征 ,  平松 孝浩

发明人： 白幡　孝洋 ,  織田　容征 ,  平松　孝浩

IPC分类号： C23C18/12

CPC分类号： H01B13/003 ,  C01G9/02 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/14 ,  H01B1/08 ,  H01B13/0016

摘要： 　本発明は、低コストにて膜特性（低抵抗）の良い金属酸化膜を作製することができる金属酸化膜の製造方法を提供することを目的とする。そして、本発明では、（Ａ）亜鉛を含む溶液（５）をミスト化し、当該ミスト化した溶液（５）を非真空下において基板（１）に対して噴霧することにより、基板（１）に金属酸化膜（１０）を成膜する工程と、（Ｂ）金属酸化膜（１０）に対して、紫外線（１３）を照射することにより、金属酸化膜（１０）の抵抗を下げる工程とを、備えている。さらに、工程（Ｂ）は、（Ｂ－１）金属酸化膜（１０）の膜厚に応じて、照射する紫外線（１３）の波長を決定する工程と、（Ｂ－２）工程（Ｂ－１）で決定した波長を有する紫外線（１３）を、金属酸化膜（１０）に照射する工程とを、有する。

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种能够以低成本制造具有良好膜性（低电阻）的金属氧化物膜的金属氧化物膜的制造方法。 本发明提供了一种用于通过使包含锌的溶液（5）雾化并且将基板（1）上的雾化溶液（5）喷射到基板（1）上的在基板（1）上形成金属氧化物膜（10）的步骤（A） 以及通过用紫外线（13）照射金属氧化物膜（10）来降低金属氧化物膜（10）的电阻的工序（B）。 此外，步骤（B）具有根据金属氧化物膜（10）的厚度确定用于照射的紫外线（13）的波长的工序（B-1），以及用于 用上述步骤（B-1）中确定的波长的紫外线（13）照射金属氧化物膜（10）。

公开(公告)号：WO2010122629A1

公开(公告)日：2010-10-28

申请号：PCT/JP2009/057858

申请日：2009-04-20

申请人： 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  国立大学法人京都大学 ,  織田 容征 ,  白幡 孝洋 ,  吉田 章男 ,  藤田 静雄 ,  亀山 直季

发明人： 織田 容征 ,  白幡 孝洋 ,  吉田 章男 ,  藤田 静雄 ,  亀山 直季

IPC分类号： C23C16/40 ,  C23C16/448

CPC分类号： C23C16/407 ,  C23C16/405 ,  C23C16/448 ,  C23C16/4486

摘要： 　本発明は、成膜される金属酸化膜の低抵抗を維持しながら、生産効率をより向上することができる金属酸化膜の成膜方法を提供することを目的とする。そして、本発明に係る金属酸化膜の成膜方法では、金属元素およびアンモニア（４ａ）を含む溶液（４）をミスト化する。一方で、基板（２）を加熱する。そして、当該加熱中の基板（２）の第一の主面上に、ミスト化された溶液（４）を供給する。

摘要翻译： 公开了一种形成金属氧化物膜的方法，其可以进一步提高生产效率，同时保持由此形成的金属氧化物的低电阻。 在形成金属氧化物膜的方法中，将含有金属元素和氨（4a）的溶液（4）转化为雾，同时加热基板（2），然后将已经转化为 雾被供应到加热的基底（2）的第一主表面上。

公开(公告)号：WO2004024982A1

公开(公告)日：2004-03-25

申请号：PCT/JP2003/011599

申请日：2003-09-10

申请人： エア・ウォーター株式会社 ,  稲垣 徹 ,  山本 和馬 ,  横山 敬志 ,  白幡 孝洋

发明人： 稲垣 徹 ,  山本 和馬 ,  横山 敬志 ,  白幡 孝洋

IPC分类号： C23C16/455

CPC分类号： C23C16/45574

摘要： ガス噴出ヘッドの各ノズルからのガス噴出状態が適正化された成膜装置を提供する。　処理空間１内のガス噴出ヘッド７には、被処理物５側に面するヘッド面８に各処理ガスを独立して噴出させる噴出部９がそれぞれ多数設けられ、ガス噴出ヘッド７は、各処理ガス毎の導入側流路１６Ａ，１７Ｂ，１８Ｃをそれぞれ有し、各処理ガス毎に対応して存在する流路部材１０Ａ，１１Ｂ，１２Ｃから構成されるとともに、上記各流路部材がヘッド面８に実質的に沿う方向で分離した積層構造を呈しており、各流路部材１０Ａ，１１Ｂ，１２Ｃのノズル側流路１９Ａ，２０Ｂ，２１Ｃからそれぞれの処理ガスに対応するノズルに対して処理ガスが供給されるように構成されている。これにより、各処理ガスが独立した流路を経て被処理物５に噴射され、良好な品質の成膜が形成される。

摘要翻译： 一种成膜装置，其中气体喷射头中的每个喷嘴的气体的注入状态是适当的。 处理空间（1）中的气体注入头（7）包括安装在面向处理对象（5）的头表面（8）中的多个出口部分（9），用于独立地注入单独的处理气体，流动通道（16A， 17B，18C）和对应于各个加工气体的流路部件（10A，11B，12C），所述流动通道部件提供层叠结构，其中它们在基本上沿着头部表面的方向上分离（ 8），以使处理气体从流路部件（10A，11B，12C）的喷嘴侧流路（19A，20B，21C）供给到与处理气体对应的喷嘴中。 由此，各处理气体通过独立流路向处理对象物（5）注入，从而获得良好质量的成膜。

公开(公告)号：WO2013145161A1

公开(公告)日：2013-10-03

申请号：PCT/JP2012/058156

申请日：2012-03-28

申请人： 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  白幡 孝洋 ,  織田 容征 ,  平松 孝浩

发明人： 白幡　孝洋 ,  織田　容征 ,  平松　孝浩

IPC分类号： C01G9/02 ,  C01B13/08 ,  C01F5/02 ,  C01G11/00

CPC分类号： C23C18/1216 ,  C23C18/1291 ,  H01B1/08

摘要： 　本発明は、低コストにて低抵抗の金属酸化膜を作製することができる金属酸化膜の製造方法を提供する。そこで、本発明に係る金属酸化膜の製造方法では、アルキル金属を含む溶液（７）を、非真空下に配置された基板（１）に対して噴霧する。さらに、当該溶液（７）の噴霧の際に、基板（１）に対して、無機化合物から成るドーパントを含むドーパント溶液（５）を噴霧する。

摘要翻译： 本发明提供一种用于制造金属氧化物膜的方法，其可以以低成本制造具有低电阻的金属氧化物膜。 在金属氧化物膜的制造方法中，含有烷基金属的溶液（7）在非真空配置的基板（1）上被雾化。 此外，当将溶液（7）雾化时，含有包含无机化合物的掺杂剂的掺杂剂溶液（5）在基板（1）处被雾化。

公开(公告)号：WO2010122630A1

公开(公告)日：2010-10-28

申请号：PCT/JP2009/057859

申请日：2009-04-20

申请人： 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  国立大学法人京都大学 ,  白幡 孝洋 ,  織田 容征 ,  吉田 章男 ,  藤田 静雄 ,  亀山 直季

发明人： 白幡 孝洋 ,  織田 容征 ,  吉田 章男 ,  藤田 静雄 ,  亀山 直季

IPC分类号： H01C7/10 ,  H01C17/08

CPC分类号： H01C7/112 ,  H01C7/1006

摘要： 　本発明は、酸化亜鉛膜から成る酸化亜鉛バリスタを、簡単な工程および低製造コストにて作成することができる、酸化亜鉛バリスタの製造方法を提供することを目的とする。そして、本発明は、加熱中の基板（２）に、ミスト化された亜鉛を含む溶液（４）を供給することにより、基板（２）上に酸化亜鉛膜（９）を成膜する。そして、当該酸化亜鉛膜（９）に電極（１１ａ，１３ａ）を配設することにより、酸化亜鉛バリスタ（５０）を作成する。

摘要翻译： 公开了一种制造氧化锌非线性电阻的方法，其可以通过简单的工艺以低生产成本生产由氧化锌膜构成的氧化锌变阻器。 具体地，通过将​​含有雾化锌的溶液（4）供给到加热的基板（2）上，在基板（2）上形成氧化锌膜（9）。 然后，氧化锌膜（9）设置有电极（11a，13a），由此形成氧化锌非线性电阻（50）。

公开(公告)号：WO2010035313A1

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：PCT/JP2008/067164

申请日：2008-09-24

申请人： 東芝三菱電機産業システム株式会社 ,  織田 容征 ,  吉田 章男 ,  小倉 正久 ,  白幡 孝洋 ,  田中 修司

发明人： 織田 容征 ,  吉田 章男 ,  小倉 正久 ,  白幡 孝洋 ,  田中 修司

IPC分类号： C23C16/40

CPC分类号： C23C16/482 ,  C23C16/407 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45523

摘要： 　本発明は、基板の加熱処理の低温化が可能であり、成膜される金属酸化膜の種類が限定されること無く、かつ抵抗値の低い金属酸化膜を成膜することができる金属酸化膜の成膜方法を提供することを目的とする。そして、本発明に係る金属酸化膜の成膜方法では、（Ａ）金属を含む溶液（４，８）をミスト化させる工程と、（Ｂ）基板（２）を加熱する工程と、（Ｃ）加熱中の基板の第一の主面上に、ミスト化された溶液とオゾンとを供給する工程とを、備えている。

摘要翻译： 公开了一种用于制造金属氧化物膜的方法，其中可以减少用于加热基材的温度，这使得能够生产任何类型的金属氧化物膜，并且能够生产具有低电阻率的金属氧化物膜 值。 具体公开了一种金属氧化物膜的制造方法，其特征在于，包括以下工序：（A）产生含金属溶液（4,8）的雾状物。 （B）加热基材（2）; 和（C）在加热基材的同时将溶液和臭氧的雾供给到基材的第一主表面上。