公开(公告)号：WO1995023879A1

公开(公告)日：1995-09-08

申请号：PCT/DE1995000315

申请日：1995-03-03

Applicant: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. ,  LÜTHJE, Holger ,  BEWILOGUA, Klaus ,  DAAUD, Simone

Inventor： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.

IPC: C23C14/06

CPC classification number: C23C14/0036 ,  C23C14/0647 ,  C23C14/3414

Abstract: The invention relates to a process for producing wear-resistant layers of cubic boron nitride or wear-resistant layers containing it by sputtering with r.f. or d.c. voltage in the operating mode as an unbalanced magnetron, in which the plasma is generated by d.c. arc discharges or d.c.-operated magnetron cathodes. According to the invention, the initial target for the production of the layer from which the material is removed consists of electrically conductive material containing boron, preferably boron carbide, and, in the process, the reactive process is conducted with the addition of N2 and Ar in such a way that the necessary stoichiometric ratio B:N in the layer can be adjusted.

Abstract translation: 本发明通过溅射（溅射）用高频或与作为非平衡磁控在操作模式直流电，涉及一种方法，用于生产立方氮化硼或含有这样的耐磨损层的耐磨层，其中等离子体产生由直流电弧放电或直流供电磁控管的装置。 根据本发明，用于在膜沉积，其中材料去除发生的，导电的和物质含硼，优选碳化硼，输出目标在该方法中通过添加N 2和Ar的反应过程指导是使得所需的乙：N的化学计量在 所述层可以被调整。

公开(公告)号：WO9928519A3

公开(公告)日：1999-08-05

申请号：PCT/EP9807844

申请日：1998-12-03

Applicant: FRAUNHOFER GES FORSCHUNG ,  ECKARDT TANJA ,  BEWILOGUA KLAUS

Inventor： ECKARDT TANJA ,  BEWILOGUA KLAUS

IPC: C23C14/06

CPC classification number: C23C14/0635 ,  C23C14/0664

Abstract: Method for producing a layer (30) containing boron, carbon and hydrogen on a substrate by means of a vapour phase deposition process wherein the process gas contains hydrogen. The inventive layer can be used for instance on cutting tools or forming tools or as absorber material in nuclear reactors.

Abstract translation: 一种用于通过在含氢处理气体气相沉积装置的基板（20）上产生的硼，碳，和含氢层（30）的过程。 该层的使用区域延伸，例如以金属切割或成形工具或作为核反应堆的吸收材料。

公开(公告)号：WO2003000951A1

公开(公告)日：2003-01-03

申请号：PCT/EP2002/006869

申请日：2002-06-21

Applicant: EBG GESELLSCHAFT FÜR ELEKTROMAGNETISCHE WERKSTOFFE MBH ,  SCHUHMACHER, Bernd ,  GÜNTHER, Klaus ,  HINGMANN, Hermann ,  BEWILOGUA, Klaus ,  KLAGES, Claus-Peter ,  DIMIGEN, Heinz ,  JUNG, Thomas

Inventor： SCHUHMACHER, Bernd ,  GÜNTHER, Klaus ,  HINGMANN, Hermann ,  BEWILOGUA, Klaus ,  KLAGES, Claus-Peter ,  DIMIGEN, Heinz ,  JUNG, Thomas

IPC: C23C16/30

CPC classification number: C21D8/1288 ,  C21D8/1283 ,  C22C38/02 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/0281 ,  C23C16/26 ,  C23C16/545 ,  H01F1/18 ,  Y10T428/12625 ,  Y10T428/12951 ,  Y10T428/30 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31678

Abstract: Die Erfindung betrifft ein kornorientiertes Elektroblech mit einer elektrisch isolierenden Beschichtung aus einem amorphen Kohlenstoff-Wasserstoff-Netzwerk, welche nach der Schlussglühung aufgetragen wird, um für die Verwendung des kornorientierten Elektroblechs, z. B. in Transformatoren, die elektrische Isolierung der einzelnen Blechschichten zu gewährleisten. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung des kornorientierten Elektroblechs mit einer elektrisch isolierenden Beschichtung aus einem amorphen Kohlenstoff-Wasserstoff-Netzwerk, welches darin besteht, dass die Beschichtung des bandförmigen Blechsubstrats mit der elektrisch isolierenden Beschichtung in einem kontinuierlichen Banddurchlaufverfahren erfolgt.

Abstract translation: 本发明涉及一种晶粒取向电工钢板由无定形碳 - 氢网络，这是在最终退火后应用，为了使使用的方向性电磁钢板，z与电绝缘涂层。 如变压器，以确保各个片状金属层的电绝缘。 本发明还涉及一种方法，用于与由无定形碳 - 氢网络，其是带状薄片基板的涂布发生在连续带材的方法的电绝缘涂层的电绝缘涂层的制造晶粒取向电工钢板。

公开(公告)号：WO2005121047A1

公开(公告)日：2005-12-22

申请号：PCT/EP2005/006188

申请日：2005-06-09

Applicant: FRAUNFOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. ,  KEUNECKE, Martin ,  BEWILOGUA, Klaus

Inventor： KEUNECKE, Martin ,  BEWILOGUA, Klaus

IPC: C04B41/50

CPC classification number: C04B35/5831 ,  B26F1/44 ,  B26F2001/4436 ,  C04B2235/386 ,  C04B2235/422 ,  C04B2235/767 ,  C23C14/027 ,  C23C14/0647 ,  C23C14/0664

Abstract: Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein borhaltiges Schichtsystem, welches eine Borcarbid­schicht, eine Bor, Kohlenstoff und Stickstoff (B-C-N) enthaltende Schicht und eine kohlenstoffmodifizierte kubische Bornitridschicht in der genannten Reihenfol­ge enthält. Im erfindungsgemäßen Schichtsystem über­nimmt der Kohlenstoff eine dreifach stabilisierende Rolle sowohl in der Borcarbidschicht und der B-C-N-­Schicht, als auch in der kubischen Bornitridschicht. Der in der kubischen Bornitrid-Phase enthaltene Koh­lenstoff hat insbesondere eine die Struktur stabilisierende Funktion. Der Kohlenstoff ist das wesentli­che und das Schichtsystem verbindende Element.

Abstract translation: 本发明涉及含有碳化硼，含有层硼，碳和氮（B-C-N），并以指定的顺序一个碳改性的立方氮化硼膜含硼层系统。 在本发明系统中的碳层需要三倍稳定在两个碳化硼和B-C-N层的作用，以及在该立方氮化硼层。 中包含的，特别是立方氮化硼相碳具有结构稳定化的功能。 的碳是必要的和层系统统一元件。

公开(公告)号：WO2003064720A1

公开(公告)日：2003-08-07

申请号：PCT/EP2003/000844

申请日：2003-01-28

Applicant: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. ,  BEWILOGUA, Klaus ,  WITTORF, Ralf ,  THOMSEN, Helge

Inventor： BEWILOGUA, Klaus ,  WITTORF, Ralf ,  THOMSEN, Helge

IPC: C23C14/06

CPC classification number: C23C14/0605 ,  C23C14/025

Abstract: Ein Verfahren zur Abscheidung von metallfreien amorphen wasserstoffhaltigen Kohlenstoffschichten arbeitet mit dem Sputtern von Targets auf Substrate. Als Target wird ein reines Kohlenstoff-Target, insbesondere ein Graphit-Target eingesetzt und mit einer negativen Gleichspannung vorgespannt. Auch das Substrat wird bevorzugt mit Gleichstrom versorgt. Es wird bevorzugt in der unbalancierten Magnetronbetriebsart gearbeitet. Dadurch ist die Herstellung von metallfreien DLC-Schichten mit hohen Verschleiss- und Härtewerten möglich.

Abstract translation: 一种用于沉积无金属非晶态含氢碳层过程与靶溅射到基底上配合。 由于目标是一个纯粹的碳靶，特别是使用石墨靶和偏置，一个负的直流电压。 而且，基板优选与直流供给。 它优选在不平衡Magnetronbetriebsart进行。 因此，不含金属的DLC涂层具有高耐磨和硬度值的制造是可能的。