公开(公告)号：WO2012101080A3

公开(公告)日：2012-08-02

申请号：PCT/EP2012/050946

申请日：2012-01-23

申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH ,  ANDERL, Willi ,  KIEREY, Holger ,  BAUER, Markus ,  WALDIS, Severin ,  MAJOR, András G.

发明人： ANDERL, Willi ,  KIEREY, Holger ,  BAUER, Markus ,  WALDIS, Severin ,  MAJOR, András G.

IPC分类号： G03F7/20 ,  G21K1/06

摘要： An optical arrangement (80) for an EUV projection exposure apparatus comprises an optical component (82), which has a substrate (84) and a surface (86) on a side of the substrate (84) which surface is optically operative in the EUV spectral range, and a cooling device (90) for the optical component (82), said cooling device having a cooling medium (94). The substrate (84) comprises a material having at a temperature T s 50 W -1 K -1 and a coefficient of thermal expansion of -6 K -1 , and the cooling medium (94) has a temperature of s .

公开(公告)号：WO2011012485A1

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：PCT/EP2010/060417

申请日：2010-07-19

申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH ,  MUENZ, Holger ,  MERKEL, Wolfgang ,  FIOLKA, Damian ,  WANGLER, Johannes

发明人： MUENZ, Holger ,  MERKEL, Wolfgang ,  FIOLKA, Damian ,  WANGLER, Johannes

IPC分类号： G02B27/09 ,  G02B27/48

CPC分类号： G02B19/0014 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/0066 ,  B23K26/0604 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/0676 ,  B23K2201/40 ,  B23K2203/56 ,  G02B19/0052 ,  G02B19/0095 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0961 ,  G02B27/0972

摘要： Ein optisches System zum Erzeugen eines Lichtstrahls zur Behandlung eines in einer Substrat ebene (14) angeordneten Substrats, wobei der Lichtstrahl in einer ersten Dimension (X) senkrecht zur Ausbreitungsrichtung (Z) des Lichtstrahls eine Strahllänge (L) und in einer zweiten Dimension (Y) senkrecht zur ersten Dimension (X) und zur Lichtausbreitungsrichtung (Z) eine Strahlbreite (B) aufweist, weist zumindest eine mischende optische Anordnung (18) auf, die den Lichtstrahl in zumindest einer der ersten und zweiten Dimension in eine Mehrzahl von Lichtpfaden (24a-c) aufteilt, die einander überlagert in die Substratebene (14) einfallen. Es ist zumindest eine die Kohärenz beeinflussende optische Anordnung im Strahlengang des Lichtstrahls vorhanden, die auf den Lichtstrahl so wirkt, dass der Kohärenzgrad des Lichts für zumindest einen Lichtpfadabstand eines Lichtpfades von zumindest einem anderen Lichtpfad zumindest verringert ist.

摘要翻译： 用于在衬底中产生用于治疗的平面的光束的光学系统（14）布置在所述衬底上，其中在第一维度（X）垂直于所述光束，光束长度（L）的传播方向（Z）的光束和在第二维度（Y ）垂直（于第一维度X）和（与光传输方向Z）具有的波束宽度（B），具有至少一个混合光学装置（18）在第一和第二维度中的至少一个光束分割成多个（的光路24a中 c）中分离入射在基片平面（14彼此叠加）。 有在光束存在的光路中，其作用于光的光束，该光对于至少一个其他光路的光路中的至少一个光路距离的相干度至少减少至少一种一致性影响光学装置。

公开(公告)号：WO2008155224A1

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：PCT/EP2008/056951

申请日：2008-06-05

申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GmbH ,  EGGER, Rafael

发明人： EGGER, Rafael

IPC分类号： G02B27/09 ,  B23K26/073

CPC分类号： B23K26/0738 ,  G02B13/08 ,  G02B27/0966

摘要： An integrated ground fault detection circuit in accordance with an embodiment of the present application includes a shunt resistor provided on a positive rail of a DC bus, a high voltage pocket including a sensory circuit connected to the shunt resistor and operable to detect a fault condition indicating a short circuit and a transmitter section operable to continuously transmit a fault condition signal indicating the fault condition and a low voltage pocket including a receiver operable to receive the fault condition signal from the sensory circuit and a logic unit, connected to the receiver, and operable to provide a fault output signal indicating the presence of a fault condition based on the fault condition signal.

摘要翻译： 根据本申请的实施例的集成接地故障检测电路包括设置在DC总线的正极上的分流电阻器，包括连接到分流电阻器的感觉电路的高压口袋，并且可操作以检测指示 短路和发送器部分，其可操作以连续发送指示故障状况的故障状态信号;以及低压口袋，包括可接收来自感觉电路的故障状态信号的接收器和连接到接收器的逻辑单元，并且可操作 基于故障状态信号提供指示存在故障状况的故障输出信号。

公开(公告)号：WO2008071411A1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：PCT/EP2007/010876

申请日：2007-12-12

申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH ,  SHKLOVER, Vitaliy

发明人： SHKLOVER, Vitaliy

IPC分类号： G02B1/02 ,  G02B1/10

CPC分类号： G02B1/02 ,  G02B1/105 ,  G03F7/70958

摘要： The disclosure relates to an optical element (20) including a metal fluoride crystal body (23) and facultative a coating comprising at least one layer of a metal fluoride solid solution, whereby said metal fluoride crystal body (20) and/or at least one layer of said metal fluoride solid solution layers of said facultative coating include a compound of the chemical formula MF n , where M is at least one chemical element of the first or second group of the periodic table of the elements and where n is an integer. Embodiments of optical elements are characterized by a partial heterovalent isomorphous substitution of M n+ by R (n+m)+ , where R is at least one chemical element of the second, third or fourth group of the periodic table of the elements and where m is an integer. The disclosure further relates to a method for producing an optical element (20) including a metal fluoride crystal body, whereby said metal fluoride crystal body (23) includes a compound of the chemical formula MF n , where M is at least one chemical element of the first or second group of the periodic table of the elements and where n is an integer. Embodiments of the method are characterized by the following steps: a) providing said metal fluoride crystal body (23), and b) quasi-epitaxially growing a thin film on a surface of said fluoride crystal body, whereby said thin film includes a compound with the chemical formula (MF n ) 1 - x (RF n+m ) x , where R is at least one chemical element of the second, third or fourth group of the periodic table of the elements, where m is an integer and where 0

摘要翻译： 本发明涉及包括金属氟化物晶体（23）和兼性的包含至少一层金属氟化物固溶体的涂层的光学元件（20），由此所述金属氟化物晶体（20）和/或至少一个 所述兼性涂层的所述金属氟化物固溶体层的层包括化学式为MF的化合物，其中M是元素周期表的第一或第二组的至少一种化学元素 并且其中n是整数。 光学元件的实施方案的特征在于通过R（n + m）+ H的M + n + +的部分异质同晶取代，其中R是第二个的至少一种化学元素， 元素周期表的第三或第四组，其中m是整数。 本发明还涉及一种用于制造包括金属氟化物晶体的光学元件（20）的方法，其中所述金属氟化物晶体（23）包括化学式为MF N n的化合物，其中M 是元素周期表的第一组或第二组的至少一个化学元素，其中n是整数。 该方法的实施例的特征在于以下步骤：a）提供所述金属氟化物晶体（23），以及b）在所述氟化物晶体体的表面上准外延生长薄膜，由此所述薄膜包括具有 化学式（MF N 1） - - - - - - - - - - - - （2） SUB>，其中R是元素周期表的第二，第三或第四组的至少一个化学元素，其中m是整数，并且其中0

公开(公告)号：WO2007122062A1

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：PCT/EP2007/053076

申请日：2007-03-30

申请人： Carl Zeiss Laser Optics GmbH ,  WEIGL, Bernhard

发明人： WEIGL, Bernhard

IPC分类号： H01L21/20

CPC分类号： H01L21/02667 ,  B23K26/064 ,  B23K26/0648 ,  B23K26/0665 ,  H01L21/2026

摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (2) sowie ein Verfahren zum Erhitzen eines Substrats (28), insbesondere einer amorphen Halbleiterschicht (28) wie eine amorphe Siliziumschicht (28), mit Hilfe eines unter einem Einfallswinkel (ε) auf die Substratoberfläche (30) auftreffenden Strahlbündels (38). Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass der Einfallswinkel (ε) größer als 5° ist.

摘要翻译： 本发明涉及一种装置（2）和用于通过一种手段以入射角（多个）到衬底表面（30），为无定形硅层（28）的非晶半导体层（28）加热衬底（28），尤其是方法撞击 光束（38）。 根据本发明，它提供了发生率（E）的角度大于5°。

公开(公告)号：WO2007048474A1

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：PCT/EP2006/009168

申请日：2006-09-21

申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH ,  SHKLOVER, Vitaliy ,  KIEREY, Holger ,  MÜNZ, Holger ,  LE MAIRE, Michel ,  WEIGL, Bernhard

发明人： SHKLOVER, Vitaliy ,  KIEREY, Holger ,  MÜNZ, Holger ,  LE MAIRE, Michel ,  WEIGL, Bernhard

IPC分类号： G02B1/11 ,  G03F7/20 ,  G02B27/00

CPC分类号： G02B27/0988 ,  G02B1/115 ,  G02B5/22 ,  G02B13/08 ,  G02B27/0966 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70975

摘要： The invention relates to a light beam intensity non-uniformity correction device (34) comprising an optical element (34) having a light entrance face (36) with an antireflective property. According to the invention said antireflective property is locally amended in order to enhance light beam intensity uniformity. The invention further relates to a method for amending intensity distribution of a light beam (12) in an optical system (2) having one optical element or a plurality of optical elements (16, 24, 26, 34), comprising the steps of: a) assembling said optical system (2) with said optical elements (16, 24, 26, 34) being arranged in predetermined positions, b) measuring intensity distribution, c) calculating locally required increase or decrease in absorption and/or reflection of one of said optical elements (34) in order to amend measured intensity distribution into a predetermined intensity distribution, d) removing said one of said optical elements (34) from said optical system (2), e) locally amending absorption and/or reflection of said one of said optical elements according to the calculation, f) installing said one of said optical elements (34) in said predetermined position in said optical system (2).

摘要翻译： 本发明涉及一种光束强度不均匀性校正装置（34），其包括具有防反射特性的光入射面（36）的光学元件（34）。 根据本发明，为了增强光束强度均匀性，局部地修改了抗反射性能。 本发明还涉及一种用于修正具有一个光学元件或多个光学元件（16,24,26,34）的光学系统（2）中的光束（12）的强度分布的方法，包括以下步骤： a）将所述光学系统（2）与布置在预定位置的所述光学元件（16,24,26,34）组装，b）测量强度分布，c）计算局部所需的增加或减小的吸收和/或反射的一个 的所述光学元件（34），以便将测量的强度分布修改为预定的强度分布，d）从所述光学系统（2）中去除所述光学元件（34）中的所述一个，e）局部地修改所述光学元件（34）的吸收和/或反射 根据所述计算所述光学元件中的一个，f）将所述光学元件（34）中的所述一个安装在所述光学系统（2）中的所述预定位置。

公开(公告)号：WO2003058298A1

公开(公告)日：2003-07-17

申请号：PCT/EP2003/000018

申请日：2003-01-03

申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH ,  KLEEMANN, Bernd ,  WEIßENRIEDER, Stefan ,  ERXMEYER, Jeffrey ,  KUSCHNEREIT, Ralf

发明人： KLEEMANN, Bernd ,  WEIßENRIEDER, Stefan ,  ERXMEYER, Jeffrey ,  KUSCHNEREIT, Ralf

IPC分类号： G02B5/18

CPC分类号： G02B5/1861 ,  G02B5/1857

摘要： Eine optische Anordnung umfasst eine Lichtquelle, die kohärentes Licht emittiert, und ein optisches Gitter (1) mit einer Vielzahl paralleler, periodisch im Abstand jeweils einer Gitterperiode aufeinanderfolgender Beugungs­strukturen (3). Diese bilden zusammen eine Reflexions­schicht, die eine reflektierende Grundschicht oder einen reflektierenden Träger (2) sowie eine mit der Grundschicht oder dem Träger (2) verbundene und diese ab­deckende transparente Gesamschutzschicht (7) umfasst. Die Beugungsstrukturen (3) sind auf einem eine Grundfläche (4) vorgebenden Träger (2) angeordnet und weisen jeweils eine im wesentlichen im Littrow-Winkel zur Grundfläche (4) geneigte Blaze-Flanke (5) und eine Gegenflanke (6) auf. Die Schichtstärken der Schutzschichten (8, 9) auf der Blaze-Flanke (5) und auf der Gegenflanke (6) die gemeinsam die Gesamtschutzschicht (7) bilden, sind unab­hängig voneinander derart gewählt, dass die Gitterperfor­mance, also entweder die Absorption oder die Beugungseffizienz des optischen Gitters (1) optimiert ist. Je nach Anwendungsfall resultiert ein optisches Gitter (1) mit geringeren Anforderungen an die Lichtquelle oder ein optisches Gitter, welches durch das einfallende Licht möglichst wenig beeinflusst wird. Zudem wird ein Herstellungsverfahren für ein optisches Gitter einer derartigen optischen Anordnung angegeben.

摘要翻译： 一种光学组件，其包括发射相干光的光源，并且具有平行的多个光栅（1），在周期性的时间间隔每一个具有连续衍射结构的光栅周期（3）。 这些一起形成包括反射基层上的反射层，或反射支撑件（2）以及一个与所述基极层或（2），其连接所述支撑和这些透明覆盖GESAM保护层（7）。 衍射结构（3）的预先确定的底座（4）支撑件上（2），并且每个具有基本上在利特罗角度到基部表面（4）倾斜的火焰侧翼（5）和反侧面（6）。 保护层的层厚度（8，9）的闪耀面形状（5）上，而在相对的侧面（6），它们一起的总的保护层（7）是独立选择的，使得光栅的性能，无论是吸收或衍射效率 被优化的光栅（1）。 取决于光栅（1）在光源或光学光栅，其是少受入射光可能要求较低的应用的结果。 此外，提供了一种用于这样的光学装置的光栅的制造方法。

公开(公告)号：WO2013164091A1

公开(公告)日：2013-11-07

申请号：PCT/EP2013/001297

申请日：2013-05-02

申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH

发明人： EHRLER, Oli, T. ,  KIEREY, Holger ,  KRAUS, Johannes

IPC分类号： G21K1/06

CPC分类号： G21K1/062 ,  B82Y10/00

摘要： The invention relates to an optical element having a first coating (21) and a second coating (40), wherein the second coating 40 is arranged between the first coating (21) and a surface of the optical element, and wherein the second coating (40) has a physical property which differs from the physical properties of the first coating (21), such that a conclusion about a thickness of the second coating (40) and/or a presence of the second coating (40) is made possible by a measurement of the physical property. The invention furthermore relates to a method for checking an optical element having a first coating (21) and a second coating (40), wherein the second coating (40) is arranged between the first coating (21) and a surface of the optical element, and wherein the second coating (40) has a physical property that differs from the physical properties of the first coating (21), comprising the following method steps: measuring the physical property and determining a characteristic number (42) for a layer thickness and/or an existence of the second coating (40) from the measured value of the physical property.

摘要翻译： 本发明涉及具有第一涂层（21）和第二涂层（40）的光学元件，其中第二涂层40布置在第一涂层（21）和光学元件的表面之间，并且其中第二涂层 40）具有与第一涂层（21）的物理性质不同的物理性质，使得关于第二涂层（40）的厚度和/或第二涂层（40）的存在的结论可以由 物理性能的测量。 本发明还涉及一种用于检查具有第一涂层（21）和第二涂层（40）的光学元件的方法，其中所述第二涂层（40）布置在所述第一涂层（21）和所述光学元件 ，并且其中所述第二涂层（40）具有与所述第一涂层（21）的物理性质不同的物理性质，包括以下方法步骤：测量物理性质并确定层厚度的特征数（42），以及 /或来自物理性质的测量值的第二涂层（40）的存在。

公开(公告)号：WO2013159928A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：PCT/EP2013/001244

申请日：2013-04-25

申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH

发明人： EHRLER, Oli ,  MEIER, Uwe ,  UHL, Alexander ,  KIEREY, Holger

IPC分类号： G21K1/06

CPC分类号： G03F7/708 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70925 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067 ,  Y10T428/31678

摘要： The invention relates to a method for repairing a collector for an EUV projection exposure apparatus having a first coating 24 and a second coating 21, wherein the first coating 24 is arranged between the second coating 21 and a surface of the collector, comprising the following method steps: - ' completely or partly removing the first coating (24) by treatment with a first chemical solution (30); applying a new first coating (24'). According to the invention, the first chemical solution 30 used is an agent which has a first etching rate in combination with the material 22, 23 of the first coating 24 and a second etching rate in combination with the material of the second coating 21, wherein the first etching rate is greater than the second etching rate at least by a factor of 5. The invention furthermore relates to a collector for an EUV projection exposure apparatus having a first coating 24, which comprises a metal, a metal oxide, a semiconductor oxide, a semiconductor nitride or a combination thereof, and having a second coating 21, which comprises a plurality of alternately deposited plies of molybdenum and silicon, wherein the first coating 24 is arranged between the second coating 21 and a surface of the collector.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于修复具有第一涂层24和第二涂层21的EUV投影曝光装置的收集器的方法，其中第一涂层24布置在第二涂层21和集电器的表面之间，包括以下方法 步骤： - 通过用第一化学溶液（30）处理完全或部分地去除第一涂层（24）; 施加新的第一涂层（24'）。 根据本发明，使用的第一化学溶液30是具有与第一涂层24的材料22,23组合的第一蚀刻速率和与第二涂层21的材料组合的第二蚀刻速率的试剂，其中 第一蚀刻速率至少比第二蚀刻速率大5倍。本发明还涉及一种用于EUV投影曝光装置的集光器，该装置具有第一涂层24，该第一涂层24包括金属，金属氧化物，半导体氧化物 ，半导体氮化物或其组合，并且具有包括多个交替沉积的钼和硅层的第二涂层21，其中第一涂层24布置在第二涂层21和集电体的表面之间。

公开(公告)号：WO2012160043A1

公开(公告)日：2012-11-29

申请号：PCT/EP2012/059439

申请日：2012-05-22

申请人： Carl Zeiss Laser Optics GmbH ,  MUENZ, Holger

发明人： MUENZ, Holger

IPC分类号： G02B5/00 ,  G02B27/09 ,  B23K26/06 ,  B23K26/073

CPC分类号： G02B27/095 ,  G02B5/001 ,  G02B27/0911 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0972 ,  G02B27/0977

摘要： In a method for converting a light beam (12) to a line focus (14), wherein the line focus (14) extends according to its length along a first direction (y) and is narrow in a second direction (x) perpendicular to the first direction (y), the light beam (14) is directed onto at least one conical optically operative surface (22), by which it is converted to the line focus (14). The light beam (12) is directed onto the at least one optically operative surface (22) with a ring-segment-shaped cross section (26) transversely with respect to the light propagation direction. A device (10), in particular for carrying out the method, and an optical arrangement (70a) for generating a light beam with a ring-segment-shaped cross section are likewise described. In accordance with a further method and a further device, a line focus is generated only with spherical and/or cylindrical elements.

摘要翻译： 在用于将光束（12）转换成线对焦（14）的方法中，其中线对焦（14）根据其长度沿第一方向（y）延伸，并且在垂直于第一方向（y）的第二方向（x）上窄 第一方向（y），光束（14）被引导到至少一个锥形光学操作表面（22）上，由此将其转换成线对焦（14）。 光束（12）被引导到至少一个光学操作表面（22）上，环形部分横截面（26）相对于光传播方向横向。 同样描述了特别是用于执行该方法的装置（10）和用于产生具有环形截面形状的横截面的光束的光学装置（70a）。 根据另外的方法和另外的装置，只产生球形和/或圆柱形元件的线焦点。