Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur Strahlungsheizung für ein Mehrkammer Vakuum-Lötsystem zum Vakuumlöten von Bauelementen auf Substraten in einer Vakuumkammer mit einer Heizeinrichtung und einer Einrichtung zum Transport des Substratträgers. Es wird zunächst eine kurzwellige Strahlung erzeugt, die anschliessend in der Vakuumkammer (1) in langwellige Strahlung zur Heizung der Bauelemente/Substrate umgewandelt wird. Die erfindungsgemässe Heizeinrichtung besteht aus einem Strahler (14) zur Erzeugung einer kurzwelligen Primärstrahlung, der auf einen schwarzen Strahler, eine Graphitplatte (10) in der Vakuumkammer (1) strahlt, der die kurzwellige Primärstrahlung in eine langwellige Sekundärstrahlung umwandelt und unmittelbar unter dem Substratträger (7) angeordnet ist.
Abstract:
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Führung oder zum Transport gasförmiger Medien, umfassend mindestens ein zwei Verbindungsstücke aufweisendes Verbindungselement welches zum Verbinden gasführender Elemente geeignet ist, wobei eines der Verbindungsstücke des Verbindungselements einen Vorsprung, vorzugsweise einen Stift, aufweist und dass das andere Verbindungsstück des Verbindungselements entsprechend hierzu eine Aufnahme, vorzugsweise eine Führungsnut oder einen Schlitz, aufweist, beispielsweise eine gasdichte Durchführung (1) für ein Prozessrohr (2) in eine innerhalb des Prozessrohrs (2) befindliche Prozesskammer (5) zur Zu- oder Ableitung von Prozessgasen, umfassend eine damit verbundene, insbesondere sich zumindest teilweise längs des Prozessrohrs (2) innerhalb der Prozesskammer (5) erstreckende Gaslanze (3), ein Leitungsrohr (4) und ein Verbindungselement (7), welches an dem Leitungsrohr (4) und an der Gaslanze (3) befestigbar ist. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass eine gasdichte Durchführung von Prozessgasen in und aus einem Prozessrohr mit hoher Dichtigkeit selbst unter hohen thermischen Belastungen des Prozessrohrs realisiert werden kann.
Abstract:
Verfahren für die thermische Abgasreinigung, wobei Brenngas und Brennluft der Brennkammer (7) räumlich getrennt und direkt derart zugeführt und durch Verwirbelung der Gasströme gemischt werden, dass zwei, sich gegenüberliegende Flammenfronten entstehen, und dass die Abgase zwischen den Flammenfronten zugeführt werden sowie anordnungsgemäß dadurch, dass die Zuführungen für Brenngas (4) und Brennluft (1, 2) als Düsen (10, 14, 16) direkt in die Brennkammer (7) münden, dass für Brenngas und für Brennluft jeweils mehrere Düsen (10, 16) in einer Reihe und dabei die beiden Düsenreihen nah beieinander angeordnet sind, dass für zumindest einen der beiden Reaktionspartner eine zweite, gegenüber der ersten liegende Düsenreihen angeordnet ist und dass die Abgaszuführung zwischen diesen gegenüberliegenden Reihen in die Brennkammer (7) mündet.
Abstract:
A continuous furnace for sintering both sides of sintered disks on substrates simultaneously has a muffle (3), a belt conveyor which runs alongside the muffle and carries the substrate (1), and a pair of synchronously driven, mutually parallel single belts (2) the surfaces of which form mutually inclined planes inside the muffle (3). The substrates (1) are free-supporting between two parallel side edges (1'); one side edge rests on the surface of one single belt and the second side edge rests on the surface of the other single belt, so that the lower surface of the substrate does not touch the single belts (2).
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Reinigung von Abgasen, vorzugsweise aus Prozessen der Halbleitertechnik, mit einem Reaktionsraum, der mit mindestens einem Einlass für das zu reinigende Abgas versehen ist, wobei weiterhin mindestens ein Einlass für gasförmige Reaktionspartner und ein Auslass für die Reaktionsprodukte vorgesehen sind und bei der dem Reaktionsraum ein Wäscher zum Auswaschen von gasförmigen Schadstoffen, Aerosolen und Feststoffpartikeln nachgeordnet ist, sowie ein Verfahren zur Reinigung von Abgasen. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Anordnung und ein Verfahren zu schaffen, mit dem die Abgasreinigung deutlich kostengünstiger betrieben werden kann. Erfindungsgemäss ist am oberen Ende des Reaktionsraumes (4) eine Plasmaquelle (3) angekoppelt ist, wobei die Plasmaquelle (3) mit einem Magnetron (1) zur Einleitung von Mikrowellenergie in das Plasmas der Plasmaquelle (3) verbunden ist. Der Einlass (6) für die gasförmigen Reaktionspartner befindet sich an der Plasmaquelle (3). Der Reaktionsraum (4) und die Plasmaquelle (3) sind zumindest kurzzeitig zum Zünden des Plasmas in der Plasmaquelle (3) auf einen vorgegebenen Wert evakuierbar. Ein Wäscher (12) zum Auswaschen von gasförmigen Schadstoffen, Aerosolen und Feststoffen schliesst sich unmittelbar an den Reaktionsraum (4) an.
Abstract:
The invention concerns a waste gas purification device, in particular for purifying waste gases from CVD, plasma etching or similar processes. The device comprises at least one combustion chamber vertically disposed inside an outer tube delimited at the top by an umbrella-like covering. The device further comprises an inwardly mixing or outwardly mixing burner whose fuel gas nozzles project into the combustion chamber, fuel gas, oxygen or air and waste gas being fed to the burner. The device finally comprises means for feeding and removing oxidizing agents and/or sorbents to and from a scrubbing chamber above the combustion chamber. The object of the invention is to provide a waste gas purification device which can be produced economically and avoids the disadvantages of the prior art. The invention is characterized in that the burner (12) is secured centrally in the covering (5) and comprises fuel gas nozzles (13) and at least one waste gas nozzle (14) which is directed vertically downwards into the combustion chamber (6). The reaction products generated during the combustion process are guided along the inner side of the outer tube (1) into the scrubbing chamber (7).