VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR STRAHLUNGSHEIZUNG FÜR EIN MEHRKAMMER VAKUUM-LÖTSYSTEM
    1.
    发明申请
    VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR STRAHLUNGSHEIZUNG FÜR EIN MEHRKAMMER VAKUUM-LÖTSYSTEM 审中-公开
    方法和系统辐射采暖一个更加室真空钎

    公开(公告)号:WO2003039799A1

    公开(公告)日:2003-05-15

    申请号:PCT/DE2002/004118

    申请日:2002-11-06

    CPC classification number: B23K1/0053

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur Strahlungsheizung für ein Mehrkammer Vakuum-Lötsystem zum Vakuumlöten von Bauelementen auf Substraten in einer Vakuumkammer mit einer Heizeinrichtung und einer Einrichtung zum Transport des Substratträgers. Es wird zunächst eine kurzwellige Strahlung erzeugt, die anschliessend in der Vakuumkammer (1) in langwellige Strahlung zur Heizung der Bauelemente/Substrate umgewandelt wird. Die erfindungsgemässe Heizeinrichtung besteht aus einem Strahler (14) zur Erzeugung einer kurzwelligen Primärstrahlung, der auf einen schwarzen Strahler, eine Graphitplatte (10) in der Vakuumkammer (1) strahlt, der die kurzwellige Primärstrahlung in eine langwellige Sekundärstrahlung umwandelt und unmittelbar unter dem Substratträger (7) angeordnet ist.

    Abstract translation: 本发明涉及一种方法和用于在衬底上在真空室中有加热装置和用于输送基板载体的装置用于真空钎焊的部件的多室真空焊接系统的辐射加热的布置。 短波辐射被首先产生,其然后在真空室(1)转化为长波辐射的部件/基板的加热。 根据本发明的加热装置包括用于产生短波初级辐射的散热器(14)中,照射到黑体,在真空室(1)的石墨板(10),其中所述短波初级辐射在长波长的次级辐射,直接(下基板承载转换 7)布置。

    GASDICHTES VERBINDUNGSELEMENT MIT BAJONETTVERSCHLUSS
    2.
    发明申请
    GASDICHTES VERBINDUNGSELEMENT MIT BAJONETTVERSCHLUSS 审中-公开
    卡口式气密连接元件

    公开(公告)号:WO2006094824A1

    公开(公告)日:2006-09-14

    申请号:PCT/EP2006/002232

    申请日:2006-03-10

    CPC classification number: B01J4/001 B01J19/0053 F16L37/248 H01L21/67017

    Abstract: Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Führung oder zum Transport gasförmiger Medien, umfassend mindestens ein zwei Verbindungsstücke aufweisendes Verbindungselement welches zum Verbinden gasführender Elemente geeignet ist, wobei eines der Verbindungsstücke des Verbindungselements einen Vorsprung, vorzugsweise einen Stift, aufweist und dass das andere Verbindungsstück des Verbindungselements entsprechend hierzu eine Aufnahme, vorzugsweise eine Führungsnut oder einen Schlitz, aufweist, beispielsweise eine gasdichte Durchführung (1) für ein Prozessrohr (2) in eine innerhalb des Prozessrohrs (2) befindliche Prozesskammer (5) zur Zu- oder Ableitung von Prozessgasen, umfassend eine damit verbundene, insbesondere sich zumindest teilweise längs des Prozessrohrs (2) innerhalb der Prozesskammer (5) erstreckende Gaslanze (3), ein Leitungsrohr (4) und ein Verbindungselement (7), welches an dem Leitungsrohr (4) und an der Gaslanze (3) befestigbar ist. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass eine gasdichte Durchführung von Prozessgasen in und aus einem Prozessrohr mit hoher Dichtigkeit selbst unter hohen thermischen Belastungen des Prozessrohrs realisiert werden kann.

    Abstract translation: 本发明涉及一种装置,用于导引或气体介质中,两个显示连接元件,其适用于连接引导气体的元件包括:在所述连接元件的连接器的突出部,优选的销,其中一个连接片的至少一个的传输,并且在于,所述另一连接件 根据该接合件,插座,优选的导向凹槽或狭槽具有,例如,在处理管的内部的气密通道(1)的处理管(2)(2)位于处理室(5),用于供给或工艺气体的排放,包括 相关联的,特别是至少部分地沿着所述工艺管道(2)的处理室(3)内,一个管道(4)和连接元件(7)附接到所述导管(4)(5)延伸的气体喷枪和(在气体喷枪 3)能够被紧固。 本发明的特征在于,处理气体的气密通道可以和移出处理管与即使在处理管的高的热负荷的高密度来实现。

    VERFAHREN UND VORRICHTUNG FÜR DIE THERMISCHE ABGASREINIGUNG
    3.
    发明申请
    VERFAHREN UND VORRICHTUNG FÜR DIE THERMISCHE ABGASREINIGUNG 审中-公开
    方法和设备的热发射

    公开(公告)号:WO2005026616A1

    公开(公告)日:2005-03-24

    申请号:PCT/DE2004/001990

    申请日:2004-09-06

    Inventor: HARTUNG, Rolf

    CPC classification number: F23D14/22 F23C6/047 F23G7/065

    Abstract: Verfahren für die thermische Abgasreinigung, wobei Brenngas und Brennluft der Brennkammer (7) räumlich getrennt und direkt derart zugeführt und durch Verwirbelung der Gasströme gemischt werden, dass zwei, sich gegenüberliegende Flammenfronten entstehen, und dass die Abgase zwischen den Flammenfronten zugeführt werden sowie anordnungsgemäß dadurch, dass die Zuführungen für Brenngas (4) und Brennluft (1, 2) als Düsen (10, 14, 16) direkt in die Brennkammer (7) münden, dass für Brenngas und für Brennluft jeweils mehrere Düsen (10, 16) in einer Reihe und dabei die beiden Düsenreihen nah beieinander angeordnet sind, dass für zumindest einen der beiden Reaktionspartner eine zweite, gegenüber der ersten liegende Düsenreihen angeordnet ist und dass die Abgaszuführung zwischen diesen gegenüberliegenden Reihen in die Brennkammer (7) mündet.

    Abstract translation: 一种用于热排气净化,由此,燃料气体和燃烧空气到燃烧室(7)在空间通过气体的湍流分离,并直接提供给这样的混合过程流形成两个相对的火焰前缘,并且所述废气按照事实火焰锋面和装置之间供给 该入口用于燃料气体(4)和燃烧用空气(1,2)的喷嘴(10,14,16)直接进入所述燃烧室(7)打开,即在每种情况下在一排的多个喷嘴对燃料气体和燃烧用空气(10,16)的 对于两种反应物,第二,相反的喷嘴的第一躺在行中的至少一个被布置,并且(7)打开,同时两个喷嘴行被布置靠近在一起在燃烧室这些相对行之间的废气进料。

    CONTINUOUS FURNACE
    4.
    发明申请
    CONTINUOUS FURNACE 审中-公开
    连续炉

    公开(公告)号:WO1990014184A2

    公开(公告)日:1990-11-29

    申请号:PCT/DE1990000376

    申请日:1990-05-22

    CPC classification number: F27B9/243 F27B9/10 F27B9/24 F27B21/06 H05K3/227

    Abstract: A continuous furnace for sintering both sides of sintered disks on substrates simultaneously has a muffle (3), a belt conveyor which runs alongside the muffle and carries the substrate (1), and a pair of synchronously driven, mutually parallel single belts (2) the surfaces of which form mutually inclined planes inside the muffle (3). The substrates (1) are free-supporting between two parallel side edges (1'); one side edge rests on the surface of one single belt and the second side edge rests on the surface of the other single belt, so that the lower surface of the substrate does not touch the single belts (2).

    Abstract translation: 用于同时烧结基板上的烧结盘两面的连续炉具有马弗管(3),沿马弗管并带有基板(1)的带式输送机,以及一对同步驱动的相互平行的单个带(2) 其表面在马弗炉(3)内形成相互倾斜的平面。 基板(1)在两个平行的侧边缘(1')之间自由支撑; 一个侧边缘搁置在一个单一带的表面上,而第二侧边缘搁置在另一个单个带的表面上,使得基底的下表面不接触单个带(2)。

    ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR REINIGUNG VON ABGASEN
    5.
    发明申请
    ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR REINIGUNG VON ABGASEN 审中-公开
    清理排气的装置和方法

    公开(公告)号:WO2002076583A2

    公开(公告)日:2002-10-03

    申请号:PCT/DE2002/001118

    申请日:2002-03-27

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Reinigung von Abgasen, vorzugsweise aus Prozessen der Halbleitertechnik, mit einem Reaktionsraum, der mit mindestens einem Einlass für das zu reinigende Abgas versehen ist, wobei weiterhin mindestens ein Einlass für gasförmige Reaktionspartner und ein Auslass für die Reaktionsprodukte vorgesehen sind und bei der dem Reaktionsraum ein Wäscher zum Auswaschen von gasförmigen Schadstoffen, Aerosolen und Feststoffpartikeln nachgeordnet ist, sowie ein Verfahren zur Reinigung von Abgasen. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Anordnung und ein Verfahren zu schaffen, mit dem die Abgasreinigung deutlich kostengünstiger betrieben werden kann. Erfindungsgemäss ist am oberen Ende des Reaktionsraumes (4) eine Plasmaquelle (3) angekoppelt ist, wobei die Plasmaquelle (3) mit einem Magnetron (1) zur Einleitung von Mikrowellenergie in das Plasmas der Plasmaquelle (3) verbunden ist. Der Einlass (6) für die gasförmigen Reaktionspartner befindet sich an der Plasmaquelle (3). Der Reaktionsraum (4) und die Plasmaquelle (3) sind zumindest kurzzeitig zum Zünden des Plasmas in der Plasmaquelle (3) auf einen vorgegebenen Wert evakuierbar. Ein Wäscher (12) zum Auswaschen von gasförmigen Schadstoffen, Aerosolen und Feststoffen schliesst sich unmittelbar an den Reaktionsraum (4) an.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于净化废气的装置,优选地来自半导体技术的工艺,具有反应空间,该反应空间设置有至少一个待净化的废气的入口,其中还具有至少一个入口。 为反应产物提供g个反应物和出口,并且其中用于浸出气态污染物,气溶胶和固体颗粒的Wisch剪切机设置在反应室的下游,以及用于净化废气的方法。 发明内容本发明的目的是提供一种装置和方法,利用该装置和方法可以使排气净化更加经济有效地运行。 发明Ä ss是在反应室(4),等离子源(3)耦合的上端,其特征在于,所述等离子体源(3)包括一磁控管(1)相连接,以便将微波能量引入所述等离子体源(3)的等离子体。 气态反应物的入口(6)位于等离子体源(3)处。 至少对于等离子体源(3)中的等离子体的点燃来说,反应空间(4)和等离子体源(3)可以被排空至预定值。 用于清洗气态污染物,气溶胶和固体的垫圈(12)紧邻反应空间(4)。

    WASTE GAS PURIFICATION DEVICE
    6.
    发明申请
    WASTE GAS PURIFICATION DEVICE 审中-公开
    设备技术废气清理

    公开(公告)号:WO1996023173A1

    公开(公告)日:1996-08-01

    申请号:PCT/DE1996000076

    申请日:1996-01-19

    Abstract: The invention concerns a waste gas purification device, in particular for purifying waste gases from CVD, plasma etching or similar processes. The device comprises at least one combustion chamber vertically disposed inside an outer tube delimited at the top by an umbrella-like covering. The device further comprises an inwardly mixing or outwardly mixing burner whose fuel gas nozzles project into the combustion chamber, fuel gas, oxygen or air and waste gas being fed to the burner. The device finally comprises means for feeding and removing oxidizing agents and/or sorbents to and from a scrubbing chamber above the combustion chamber. The object of the invention is to provide a waste gas purification device which can be produced economically and avoids the disadvantages of the prior art. The invention is characterized in that the burner (12) is secured centrally in the covering (5) and comprises fuel gas nozzles (13) and at least one waste gas nozzle (14) which is directed vertically downwards into the combustion chamber (6). The reaction products generated during the combustion process are guided along the inner side of the outer tube (1) into the scrubbing chamber (7).

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于外管,其由伞状盖界定了内垂直布置净化废气,在从CVD,等离子蚀刻或类似工艺特定的废气,具有至少一个燃烧室和一个内部或外部混合 布伦纳,突出的燃烧气体的喷嘴进入燃烧室,其中,所述燃烧器燃料气体,氧气或空气和废气被供给的装置,以及用于供应和氧化和/或吸附剂的在洗涤室内的燃烧室的上方除去。 本发明提供用于清洁排气的设备将被提供,其制造成本低,并且其中避免了现有技术的缺点。 本发明的特征在于,所述燃烧器(12)设置在所述盖的中央固定(5),即燃烧器燃料气体喷嘴(13)和至少一个排气口(14)(12),所述竖直向下(在燃烧室6 )被寻址,而)期间沿着在洗涤腔室(7外管(1)的内部的燃烧过程所形成的反应产物通过。

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