VERFAHREN ZUR THERMISCHEN SPALTUNG VON KOHLENWASSERSTOFFEN UND KORRESPONDIERENDE VORRICHTUNG
    2.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR THERMISCHEN SPALTUNG VON KOHLENWASSERSTOFFEN UND KORRESPONDIERENDE VORRICHTUNG 审中-公开
    方法烃类和相应设备的热SPLIT

    公开(公告)号:WO2017050704A1

    公开(公告)日:2017-03-30

    申请号:PCT/EP2016/072193

    申请日:2016-09-19

    发明人: FULCHERI, Laurent

    IPC分类号: C01B3/24 C01B3/34 B01J19/08

    摘要: Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur thermischen Spaltung von Kohlenwasserstoffen (10), wobei in ein Plasmagas (30) thermische Energie durch einen Lichtbogen zwischen mindestens zwei Elektroden (3) eingebracht wird. Das aufgeheizte Plasmagas (30) wird mit den zu spaltenden Kohlenwasserstoffen (10) gemischt, wobei die zu spaltenden Kohlenwasserstoffe (10) auf eine Temperatur größer als 600 °C erwärmt werden, wobei die zu spaltenden Kohlenwasserstoffe (10) zu einem Gemisch aus Kohlenstoff und Wasserstoff thermisch gespalten werden. Das Plasmagas (30) weist eine Gasmischung aus Kohlenwasserstoffen (10) und aus Reaktionsgas (20) auf, wobei die Gasmischung aus Kohlenwasserstoffen (10) des Plasmagases (30) und aus Reaktionsgas (20) des Plasmagases (30) ein bestimmtes Verhältnis aufweist. Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.

    摘要翻译: 本发明涉及一种用于烃类的热裂解(10),等离子气体(30)的热能是由电弧的至少两个电极之间引入(3)。 被加热的等离子气体(30)与所述易切断烃(10)是混合的,所述待切割的烃(10)加热至温度高于600℃,其中,所述易切断烃(10)与碳的混合物和 氢被热裂解。 等离子气体(30)包括烃的气体混合物(10)和从反应气体(20),其中等离子气体(30)和由具有一定的比例的等离子气体(30)的反应气体(20)的烃(10)的气体混合物。 本发明的另一个目的是用于执行这种方法的装置。

    STRUCTURE OF INTEGRATED PHOTOCHEMICAL REACTOR
    3.
    发明申请
    STRUCTURE OF INTEGRATED PHOTOCHEMICAL REACTOR 审中-公开
    一体化光电反应器结构

    公开(公告)号:WO2016151439A1

    公开(公告)日:2016-09-29

    申请号:PCT/IB2016/051502

    申请日:2016-03-17

    IPC分类号: B01J19/08 B01J19/12

    摘要: A structure of photochemical reactor (1) comprises a hollow container body (10) having a side wall (11) made of a material arranged to contain an excited luminous plasma with electromagnetic fields and defining a closed excitation chamber (12) in which, in use, an excitable material (15) is present in such a way to obtain a discharge of the excited luminous plasma by microwave irradiation. The hollow container body (10) is provided with at least a hollow (20) that protrudes into the excitation chamber (12) and at least a microwave radiation source positioned, in use, in the hollow (20), and arranged to emit radiations in such a way to excite the excitable material (15) producing a luminous plasma. The structure of photochemical reactor (1) comprises, furthermore, a reaction tube (30) which, in use, passes through the excitation chamber (12) in such a way to be immersed in the luminous plasma. The reaction tube (30) is arranged to contain, in use, predetermined chemical reagents (35) and is made of a material that is transparent to the predetermined optical radiation emitted by the luminous plasma, in such a way that the optical radiation is arranged to hit the chemical reagents (35) for inducing the predetermined photochemical reaction

    摘要翻译: 光化学反应器(1)的结构包括具有侧壁(11)的中空容器体(10),所述侧壁由材料构成,所述侧壁被布置成容纳具有电磁场的激发的发光等离子体并限定封闭的激发室(12),其中, 使用时,以这样的方式存在可兴奋材料(15),以通过微波照射获得激发的发光等离子体的放电。 中空容器主体(10)至少设置有一个突出到激励室(12)中的中空(20)和至少一个在使用中定位在中空(20)中的微波辐射源,并且被布置成发射辐射 以这种方式激发产生发光等离子体的可兴奋材料(15)。 此外,光化学反应器(1)的结构还包括在使用中通过激发室(12)以浸入发光等离子体的方式的反应管(30)。 反应管(30)被设置为在使用中包含预定的化学试剂(35),并且由对发光等离子体发射的预定光辐射透明的材料制成,使得光辐射被布置 击中化学试剂(35)以诱导预定的光化学反应

    PLASMA-ASSISTED METHOD AND SYSTEM FOR TREATING RAW SYNGAS COMPRISING TARS
    4.
    发明申请
    PLASMA-ASSISTED METHOD AND SYSTEM FOR TREATING RAW SYNGAS COMPRISING TARS 审中-公开
    用于处理包含TARS的原始SYNGAS的等离子体辅助方法和系统

    公开(公告)号:WO2016112460A1

    公开(公告)日:2016-07-21

    申请号:PCT/CA2016/050027

    申请日:2016-01-13

    IPC分类号: C10K1/00

    摘要: The invention provides a system and method for conversion of raw syngas and tars into refined syngas, while optionally minimizing the parasitic losses of the process and maximizing the usable energy density of the product syngas. The system includes a reactor including a refining chamber for refining syngas comprising one or more inlets configured to promote at least two flow zones: a central zone where syngas and air/process additives flow in a swirling pattern for mixing and combustion in the high temperature central zone; at least one peripheral zone within the reactor which forms a boundary layer of a buffering flow along the reactor walls, (b) plasma torches that inject plasma into the central zone, and (c) air injection patterns that create a recirculation zone to promotes mixing between the high temperature products at the core reaction zone of the vessel and the buffering layer, wherein in the central zone, syngas and air/process additives mixture are ignited in close proximity to the plasma arc, coming into contact with each other, concurrently, at the entrance to the reaction chamber and method of using the system.

    摘要翻译: 本发明提供了一种用于将原始合成气和焦油转化为精制合成气的系统和方法,同时可选地最小化该方法的寄生损耗并使产物合成气的可用能量密度最大化。 该系统包括反应器,其包括用于精炼合成气的精炼室,其包括一个或多个入口,所述入口构造成促进至少两个流动区域:中心区域,其中合成气和空气/工艺添加剂以旋转模式流动以在高温中心 区; 反应器内的至少一个外围区域沿着反应器壁形成缓冲流的边界层,(b)将等离子体注入到中心区域中的等离子体炬,以及(c)产生再循环区以促进混合的空气注入模式 在容器的核心反应区和缓冲层之间的高温产物之间,其中在中心区中,合成气和空气/工艺添加剂混合物在等离子弧附近点燃,彼此接触,同时, 在反应室的入口处和使用该系统的方法。

    PLASMA GAS THROAT ASSEMBLY AND METHOD
    5.
    发明申请
    PLASMA GAS THROAT ASSEMBLY AND METHOD 审中-公开
    等离子体气体组件和方法

    公开(公告)号:WO2015116800A1

    公开(公告)日:2015-08-06

    申请号:PCT/US2015/013487

    申请日:2015-01-29

    摘要: A method and apparatus for making carbon black having increased surface area, reduced grit and/or reduced extract levels. A plasma gas is flowed into a plasma forming region to form a plasma. The plasma then flows through a throat region which is narrower than the plasma forming section, which is connected to a separate carbon black forming region. This causes the plasma to accelerate and become turbulent prior to the exit point in the throat region. The carbon black forming feedstock is injected into the turbulence created by the throat region at a point above, at or near the exit point, resulting in the formation of a carbon black in the separate carbon black forming region. The throat region and/or injector region can be cooled, e.g., water plasma gas cooled.

    摘要翻译: 一种制备炭黑的方法和设备,其具有增加的表面积,降低的砂砾和/或降低的提取物水平。 等离子体气体流入等离子体形成区域以形成等离子体。 然后等离子体流过比等离子体形成部分窄的喉部区域,等离子体形成部分连接到单独的炭黑形成区域。 这导致等离子体在喉部区域的出口点之前加速并变得湍流。 将炭黑形成原料注入到在出口点上方,上方或附近的喉部区域产生的湍流中,导致在分开的炭黑形成区域中形成炭黑。 可以冷却喉部区域和/或喷射器区域,例如冷却水等离子体气体。

    NON-THERMAL PLASMA CLEANING OF DIRTY SYNTHESIS GAS
    6.
    发明申请
    NON-THERMAL PLASMA CLEANING OF DIRTY SYNTHESIS GAS 审中-公开
    非热合成气体的非热等离子体清洁

    公开(公告)号:WO2015105607A1

    公开(公告)日:2015-07-16

    申请号:PCT/US2014/069212

    申请日:2014-12-09

    申请人: DREXEL UNIVERSITY

    IPC分类号: B01J19/08

    摘要: The inventions described herein are directed to technologies for reforming high temperature feedstreams into clean synthesis gas, more particularly, reactor configurations and methods for reforming pyrogas using non-thermal plasmas. One embodiment provides a plasma reactor comprising: (a) a substantially cylindrical reactor wall having a first closed proximal end and a second open distal end, wherein at least a portion of said wall is configured to comprise a first electrode; and (b) a second elongated electrode electrically separated from the first electrode by an electrical insulator, said electric insulator forming either part or all of the first closed end of the reactor or positioned proximate thereto; and configured to be capable of generating and maintaining a gliding arc plasma discharge within a zone in said reactor.

    摘要翻译: 本文所述的发明涉及将高温进料流重整成清洁合成气的技术,更具体地,涉及使用非热等离子体重整焦糖的反应器构型和方法。 一个实施例提供了一种等离子体反应器,包括:(a)具有第一封闭近端和第二开放远端的基本上圆柱形的反应器壁,其中所述壁的至少一部分构造成包括第一电极; 和(b)通过电绝缘体与第一电极电分离的第二细长电极,所述电绝缘体形成反应器的第一封闭端的一部分或全部或者位于其附近; 并且被配置为能够在所述反应器的区域内产生并保持滑动电弧等离子体放电。

    ICP를 이용한 실리콘 나노입자 제조장치
    7.
    发明申请
    ICP를 이용한 실리콘 나노입자 제조장치 审中-公开
    使用ICP制造硅纳米微粒的器件

    公开(公告)号:WO2015076441A1

    公开(公告)日:2015-05-28

    申请号:PCT/KR2013/010729

    申请日:2013-11-25

    摘要: 본 발명은 플라즈마 반응부에 근접하여 제1가스 주입관를 위치시키되, 제2가스 주입관은 플라즈마 반응부로부터 멀리 위치시키고, 주입가스 별로 주입관을 교차배열시킴으로서, 제1가스 간에 혼합이 충분히 이루어질 뿐 아니라, 플라즈마 반응영역에서도 제1가스와 제2가스 간의 균일한 플라즈마 반응이 가능하며, 짧은 체류시간 동안 플라즈마 밀도를 높임으로서 플라즈마 퍼짐현상도 최소화되고, 보다 입도제어가 용이하고, 생성입자 간의 입자응집 형성을 억제하고자 한다.

    摘要翻译: 根据本发明,第一气体注入管位于等离子体反应单元附近,第二气体注入管远离等离子体反应单元,并且注射管被布置成相对于每个注入的气体相交,使得 不仅发生第一气体之间的充分混合,而且等离子体反应区域中的第一和第二气体之间的均匀等离子体反应也是可能的,并且等离子体密度在短暂停留时间内增加,从而使等离子体的扩散最小化,从而使粒度控制 更容易,并且抑制生成的颗粒之间的颗粒聚集的形成。

    殺菌用液体の生成方法および装置
    8.
    发明申请
    殺菌用液体の生成方法および装置 审中-公开
    生产杀菌剂液体的方法和装置

    公开(公告)号:WO2014188725A1

    公开(公告)日:2014-11-27

    申请号:PCT/JP2014/002704

    申请日:2014-05-22

    IPC分类号: C02F1/48 H05H1/24

    摘要:  プラズマを用いたプラズマ処理液を連続的に効率よく生成することを目的とする。 管路11と、管路に水を供給する水供給装置21,22と、管路に窒素ガスを供給する窒素ガス供給装置31,32と、管路を挟んで対向するように管路の外側に配置された高圧電極12aおよびグランド電極12bを含み、高圧電極とグランド電極との間で誘電体バリア放電を行って管路を流れる水MLに対して連続的にプラズマ処理を施すためのプラズマ発生装置と、管路を流れる水を冷却するための冷却装置RSと、管路から流出する水MLを殺菌用液体である処理液MLpとして収納する容器24とを有する。

    摘要翻译: 本发明的目的是使用等离子体连续有效地生产等离子体处理的溶液。 本发明包括以下:导管(11); 用于向管道供水的供水装置(21,22) 用于向导管供给氮气的氮气供给装置(31,32) 等离子体发生器,其包括高压电极(12a)和接地电极(12b),所述高压电极(12a)和接地电极(12b)被布置在所述导管的外部,以跨越所述导管彼此面对,并且用于通过电介质阻挡放电 在高压电极和接地电极之间流过导管的水(ML); 用于冷却流过所述导管的水的冷却装置(RS); 以及容器(24),其保持作为被杀菌液体的处理液(MLp)从所述导管流出的水(ML)。

    液体処理装置、液体処理方法及びプラズマ処理液
    9.
    发明申请
    液体処理装置、液体処理方法及びプラズマ処理液 审中-公开
    液体处理装置,液体处理方法和等离子体处理液

    公开(公告)号:WO2014185051A1

    公开(公告)日:2014-11-20

    申请号:PCT/JP2014/002500

    申请日:2014-05-12

    摘要:  プラズマを効率良く発生させ、短時間で液体の処理をすることが可能な液体処理装置、液体処理方法及びそのプラズマ処理された液体を提供する。本開示の液体処理装置は、第1の電極と、被処理液中に配置される第2の電極と、空間を介して前記第1の電極を囲むように設けられ、前記被処理液に接する位置に開口部を有する絶縁体と、前記絶縁体の前記開口部近傍でプラズマが発生するように、前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、前記電源が電圧を印加する前に、液体を前記空間に供給する供給装置と、を備える。

    摘要翻译: 提供:能够有效地产生等离子体并在短时间内处理液体的液体处理装置; 液体处理方法; 和经过等离子体处理的液体。 该液体处理装置包括:第一电极; 设置在待处理液体中的第二电极; 绝缘体,其设置在第一电极周围,其间具有空间,并且具有与待处理液体接触的位置的开口部; 电源,其在所述第一电极和所述第二电极之间施加电压,使得在所述绝缘体的开口部附近产生所述等离子体; 以及在电源施加电压之前将液体供应到空间的供应装置。

    プラズマ処理装置
    10.
    发明申请
    プラズマ処理装置 审中-公开
    等离子体加工装置

    公开(公告)号:WO2014042191A1

    公开(公告)日:2014-03-20

    申请号:PCT/JP2013/074538

    申请日:2013-09-11

    IPC分类号: H01L21/3065 B01J19/08

    摘要:  プラズマ処理装置は、処理容器、載置台、上部電極、伸縮自在な筒状の隔壁、高周波電源、給電部材、駆動フレーム、駆動機構、排気装置及びバッフル板を備える。隔壁は、載置台と処理容器の底壁とを接続する。給電部材は、隔壁に囲まれた空間内に配置され載置台に接続される。駆動フレームは、処理容器の側壁の外側から隔壁に囲まれた空間内へ延び、載置台の下部に連結される。駆動機構は、処理容器の外側に配置され、駆動フレームを上下方向に移動させる。排気空間の下部には、処理容器の底壁、側壁及び隔壁によって環状の排気路が画成されている。排気装置は、処理容器の底壁の排気口を介して排気路に連通する。

    摘要翻译: 该等离子体处理装置设置有处理容器,搬运台,顶部电极,可伸缩的管状分隔壁,高频电源,供电构件,驱动框架,驱动机构, 疏散装置和挡板。 分隔壁连接搬运台和处理容器的底壁。 供电构件设置在由分隔壁包围的空间内并连接到搬运架。 驱动框架从处理容器的侧壁的外部延伸到由分隔壁包围的空间中,并且连接到承载架的底部。 驱动机构设置在处理容器的外部,并使驱动框架垂直移动。 在排空空间的底部,通过分隔壁和处理容器的侧壁和底壁划分环形抽空通道。 抽空装置通过处理容器底壁处的抽空开口与抽空通道互连。