公开(公告)号：WO2013094827A1

公开(公告)日：2013-06-27

申请号：PCT/KR2012/003891

申请日：2012-05-17

Applicant: CHEIL INDUSTRIES INC. ,  MOON, Kyung-Soo ,  KIM, Seung-Hyun ,  KIM, Jae-Hyun ,  SHIN, Myoung-Youp ,  WON, Dong-Hoon ,  CHEON, Hwan-Sung

Inventor： MOON, Kyung-Soo ,  KIM, Seung-Hyun ,  KIM, Jae-Hyun ,  SHIN, Myoung-Youp ,  WON, Dong-Hoon ,  CHEON, Hwan-Sung

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20

CPC classification number: G03F7/031 ,  G02B5/201 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/033 ,  G03F7/105

Abstract: Disclosed are a photosensitive resin composition for a color filter that includes (A) a squaraine dye including at least one selected from compounds represented by the following Chemical Formulae 1 and 2, (B) an alkali soluble resin, (C) a photopolymerizable monomer, (D) a photopolymerization initiator, and (E) a solvent, and a color filter using the same.

Abstract translation: 公开了一种滤色器用感光性树脂组合物，其包含（A）包含选自下述化学式1和2所示化合物中的至少一种的方酸菁染料，（B）碱溶性树脂，（C）光聚合性单体， （D）光聚合引发剂和（E）溶剂，以及使用其的滤色器。

公开(公告)号：WO2011081285A3

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：PCT/KR2010006948

申请日：2010-10-11

Applicant: CHEIL IND INC ,  KIM MIN-SOO ,  CHEON HWAN-SUNG ,  CHO SUNG-WOOK ,  OH SEUNG-BAE ,  SONG JEE-YUN

Inventor： KIM MIN-SOO ,  CHEON HWAN-SUNG ,  CHO SUNG-WOOK ,  OH SEUNG-BAE ,  SONG JEE-YUN

IPC: G03F7/11

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08F12/22 ,  C08F212/32 ,  C08F232/08

Abstract: Provided is a polymer containing an aromatic ring for a resist underlayer, and a resist underlayer compound including the polymer. The polymer containing an aromatic ring comprises a unit structure as expressed in chemical formula 1.

Abstract translation: 提供含有抗蚀剂底层用芳环的聚合物和含有聚合物的抗蚀剂下层化合物。 含有芳环的聚合物包含如化学式1所示的单元结构。

公开(公告)号：WO2010064829A3

公开(公告)日：2010-08-26

申请号：PCT/KR2009007120

申请日：2009-12-01

Applicant: CHEIL IND INC ,  YOON KYONG-HO ,  LEE JIN-KUK ,  CHEON HWAN-SUNG ,  KIM MIN-SOO ,  SONG JEE-YUN

Inventor： YOON KYONG-HO ,  LEE JIN-KUK ,  CHEON HWAN-SUNG ,  KIM MIN-SOO ,  SONG JEE-YUN

IPC: C08G61/02 ,  C08G61/00 ,  C08L65/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08L65/00 ,  C08G61/02 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1067 ,  C08G2261/3424 ,  C08L79/08 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094

Abstract: The present invention relates to an underlayer composition having anti-reflective properties useful in a lithographic process. The composition according to the present invention has highly outstanding optical and mechanical characteristics and a high etching selectivity ratio, while at the same time having the feature that coating can be carried out using the spin-on coating technique. Advantageously, the composition of the present invention is used in relatively short wavelength lithography and has a minimal residual acid content.

Abstract translation: 本发明涉及具有在光刻工艺中有用的抗反射特性的底层组合物。 根据本发明的组合物具有非常优异的光学和机械特性以及高蚀刻选择比，同时具有使用旋涂技术可以进行涂布的特征。 有利地，本发明的组合物用于相对较短的波长光刻并且具有最小的残留酸含量。

公开(公告)号：WO2008120855A1

公开(公告)日：2008-10-09

申请号：PCT/KR2007/007058

申请日：2007-12-31

Applicant: CHEIL INDUSTRIES INC. ,  KIM, Min Soo ,  UH, Dong Seon ,  OH, Chang Il ,  YOON, Kyong Ho ,  HYUNG, Kyung Hee ,  LEE, Jin Kuk ,  KIM, Jong Seob ,  CHEON, Hwan Sung ,  NAM, Irina ,  TOKAREVA, Nataliya

Inventor： KIM, Min Soo ,  UH, Dong Seon ,  OH, Chang Il ,  YOON, Kyong Ho ,  HYUNG, Kyung Hee ,  LEE, Jin Kuk ,  KIM, Jong Seob ,  CHEON, Hwan Sung ,  NAM, Irina ,  TOKAREVA, Nataliya

IPC: C08G61/12

CPC classification number: G03F7/091

Abstract: A hardmask composition having antireflective properties is provided. The hardmask composition is suitable for lithography, provides excellent optical and mechanical properties, and exhibits high etch selectivity. In addition, the hardmask composition can be readily applied by spin-on application techniques. Advantageously, the hardmask composition is useful for short- wavelength lithography and has a minimum residual acid content.

Abstract translation: 提供具有抗反射性能的硬掩模组合物。 硬掩模组合物适用于光刻，提供优异的光学和机械性能，并且表现出高的蚀刻选择性。 此外，硬掩模组合物可以通过旋涂应用技术容易地应用。 有利地，硬掩模组合物可用于短波长光刻并且具有最小的残留酸含量。

公开(公告)号：WO2008150058A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：PCT/KR2007/007059

申请日：2007-12-31

Applicant: CHEIL INDUSTRIES INC. ,  YOON, Kyong Ho ,  KIM, Jong Seob ,  UH, Dong Seon ,  CHEON, Hwan Sung ,  OH, Chang Il ,  KIM, Min Soo ,  LEE, Jin Kuk

Inventor： YOON, Kyong Ho ,  KIM, Jong Seob ,  UH, Dong Seon ,  CHEON, Hwan Sung ,  OH, Chang Il ,  KIM, Min Soo ,  LEE, Jin Kuk

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/091 ,  Y10S438/952

Abstract: A hardmask composition having antireflective properties is provided. The hardmask composition is suitable for lithography and provides excellent optical properties and mechanical properties. In addition, the hardmask composition can be readily applied by spin-on application techniques. Particularly, the composition is highly resistant to dry etching. Therefore, the composition can be used to provide a multilayer thin film that is capable of being patterned with a high aspect ratio. Further provided is a method for forming a pattern using the composition.

Abstract translation: 提供具有抗反射性能的硬掩模组合物。 硬掩模组合物适用于光刻，并提供优异的光学性能和机械性能。 此外，硬掩模组合物可以通过旋涂应用技术容易地应用。 特别地，组合物对干蚀刻具有高度耐受性。 因此，该组合物可用于提供能够以高纵横比进行图案化的多层薄膜。 还提供了使用该组合物形成图案的方法。

公开(公告)号：WO2013094828A1

公开(公告)日：2013-06-27

申请号：PCT/KR2012/004234

申请日：2012-05-30

Applicant: CHEIL INDUSTRIES INC. ,  KWON, Ji-Yun ,  RYU, Youn-Je ,  HAN, Gyu-Seok ,  CHEON, Hwan-Sung ,  CHO, Hyun-Yong

Inventor： KWON, Ji-Yun ,  RYU, Youn-Je ,  HAN, Gyu-Seok ,  CHEON, Hwan-Sung ,  CHO, Hyun-Yong

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  C09K11/06 ,  G02B5/20

CPC classification number: C09K11/025 ,  C09K11/06 ,  G02B5/208 ,  G02B5/223 ,  G02B2207/113 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/105

Abstract: Disclosed are a photosensitive resin composition including a composite dye that includes a red fluorescent dye re-emitting light at a 400 to 800 nm fluorescent wavelength; and a metal complex dye including at least one metal ion selected from Mg, Ni, Co, Zn, Cr, Pt, and Pd, and a color filter using the same.

Abstract translation: 公开了一种感光性树脂组合物，其包含复合染料，其包含以400〜800nm荧光波长重新发射的红色荧光染料; 以及包含选自Mg，Ni，Co，Zn，Cr，Pt和Pd中的至少一种金属离子的金属络合物染料和使用其的滤色器。

公开(公告)号：WO2013100298A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：PCT/KR2012/005691

申请日：2012-07-17

Applicant: CHEIL INDUSTRIES INC. ,  KWON, Ji-Yun ,  LEE, Jong-Hwa ,  CHO, Hyun-Yong ,  KIM, Dae-Yun ,  KIM, Sang-Kyeon ,  KIM, Sang-Kyun ,  KIM, Sang-Soo ,  YOON, Eun-Kyung ,  LEE, Jun-Ho ,  LEE, Jin-Young ,  CHEON, Hwan-Sung ,  HONG, Chung-Beom ,  HWANG, Eun-Ha

Inventor： KWON, Ji-Yun ,  LEE, Jong-Hwa ,  CHO, Hyun-Yong ,  KIM, Dae-Yun ,  KIM, Sang-Kyeon ,  KIM, Sang-Kyun ,  KIM, Sang-Soo ,  YOON, Eun-Kyung ,  LEE, Jun-Ho ,  LEE, Jin-Young ,  CHEON, Hwan-Sung ,  HONG, Chung-Beom ,  HWANG, Eun-Ha

IPC: G03F7/022 ,  G03F7/004 ,  G02F1/13

CPC classification number: G03C1/61 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/105

Abstract: Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) an alkali soluble resin selected from a polybenzoxazole precursor, a polyimide precursor, and a combination thereof, (B) a photosensitive diazoquinone compound, (C) a phenol compound, (D) an organic dye and (E) a solvent, wherein the organic dye (D) includes at least one red dye having an absorption wavelength of 590 to 700 nm, at least one yellow dye having an absorption wavelength of 550 to 590 nm, and at least one blue dye having an absorption wavelength of 450 to 500 nm.

Abstract translation: 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）选自聚苯并恶唑前体，聚酰亚胺前体及其组合的碱溶性树脂，（B）感光性重氮醌化合物，（C）酚化合物，（D） 有机染料和（E）溶剂，其中有机染料（D）包括至少一种吸收波长为590-700nm的红色染料，至少一种吸收波长为550至590nm的黄色染料，至少 一种蓝色染料，其吸收波长为450〜500nm。

公开(公告)号：WO2013100276A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：PCT/KR2012/003780

申请日：2012-05-15

Applicant: CHEIL INDUSTRIES INC. ,  KIM, Jae-Hyun ,  MOON, Kyung-Soo ,  SHIN, Myoung-Youp ,  WON, Dong-Hoon ,  KIM, Seung-Hyun ,  ATSUSHI, Endo ,  CHEON, Hwan-Sung ,  HAN, Gyu-Seok

Inventor： KIM, Jae-Hyun ,  MOON, Kyung-Soo ,  SHIN, Myoung-Youp ,  WON, Dong-Hoon ,  KIM, Seung-Hyun ,  ATSUSHI, Endo ,  CHEON, Hwan-Sung ,  HAN, Gyu-Seok

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/038 ,  G02B5/20

CPC classification number: G03F7/027 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/105

Abstract: Disclosed are a photosensitive resin composition for a color filter and a color filter using the same. The photosensitive resin composition for a color filter includes (A) a dye represented by the following Chemical Formula 1, (B) an alkali soluble resin, (C) a photopolymerizable monomer, (D) a photopolymerization initiator, and (E) a solvent.

Abstract translation: 公开了一种用于滤色器的感光性树脂组合物和使用其的滤色器。 用于滤色器的感光性树脂组合物包括（A）由以下化学式1表示的染料，（B）碱溶性树脂，（C）光聚合性单体，（D）光聚合引发剂，（E） 。

公开(公告)号：WO2010117123A2

公开(公告)日：2010-10-14

申请号：PCT/KR2009/007055

申请日：2009-11-27

Applicant: CHEIL INDUSTRIES INC. ,  LEE, Kil-Sung ,  KIM, Jae-Hyun ,  LEE, Chang-Min ,  JEONG, Eui-June ,  KIM, Min-Soo ,  CHEON, Hwan-Sung ,  CHANG, Tu-Won

Inventor： LEE, Kil-Sung ,  KIM, Jae-Hyun ,  LEE, Chang-Min ,  JEONG, Eui-June ,  KIM, Min-Soo ,  CHEON, Hwan-Sung ,  CHANG, Tu-Won

IPC: G03C5/04

CPC classification number: H01L27/14627 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/14685

Abstract: Disclosed is an image sensor including a photo-sensing device, a color filter positioned on the photo-sensing device, a microlens positioned on the color filter, and an insulation layer po¬ sitioned between the photo-sensing device and the color filter, and includes a trench exposing the photo-sensing device and a filler filled in the trench. The filler has light transmittance of about 85% or more at a visible ray region, and a higher refractive index than the insulation layer. A method of manufacturing the image sensor is also provided.

Abstract translation: 公开了一种图像传感器，其包括感光装置，位于感光装置上的滤色器，位于滤色器上的微透镜以及位于感光装置和滤色器之间的绝缘层，以及 包括暴露光敏装置的沟槽和填充在沟槽中的填充物。 填料在可见光区域的透光率为约85％以上，折射率高于绝缘层。 还提供了一种制造图像传感器的方法。

公开(公告)号：WO2010117123A3

公开(公告)日：2011-06-23

申请号：PCT/KR2009007055

申请日：2009-11-27

Applicant: CHEIL IND INC ,  LEE KIL-SUNG ,  KIM JAE-HYUN ,  LEE CHANG-MIN ,  JEONG EUI-JUNE ,  KIM MIN-SOO ,  CHEON HWAN-SUNG ,  CHANG TU-WON

Inventor： LEE KIL-SUNG ,  KIM JAE-HYUN ,  LEE CHANG-MIN ,  JEONG EUI-JUNE ,  KIM MIN-SOO ,  CHEON HWAN-SUNG ,  CHANG TU-WON

IPC: G03C5/04 ,  H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14627 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14629 ,  H01L27/14685

Abstract: Disclosed is an image sensor including a photo-sensing device, a color filter positioned on the photo-sensing device, a microlens positioned on the color filter, and an insulation layer po¬ sitioned between the photo-sensing device and the color filter, and includes a trench exposing the photo-sensing device and a filler filled in the trench. The filler has light transmittance of about 85% or more at a visible ray region, and a higher refractive index than the insulation layer. A method of manufacturing the image sensor is also provided.

Abstract translation: 公开了一种图像传感器，其包括光敏元件，位于感光元件上的滤色器，位于滤色器上的微透镜以及位于感光元件和滤色器之间的绝缘层，以及 包括暴露光敏装置的沟槽和填充在沟槽中的填充物。 填料在可见光区域的透光率约为85％以上，折射率高于绝缘层。 还提供了一种制造图像传感器的方法。