公开(公告)号：WO2010051890A8

公开(公告)日：2010-05-14

申请号：PCT/EP2009/007130

申请日：2009-10-06

Applicant: CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED ,  HILL, Michael ,  KRAUSE, Werner ,  SICKEN, Martin

Inventor： HILL, Michael ,  KRAUSE, Werner ,  SICKEN, Martin

IPC: C07F9/30 ,  C07F9/48 ,  C08K5/53 ,  C09K21/12

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von mono-vinylfunktionalisierten Dialkylphosphinsäuren, -estern und -salzen, dadurch gekennzeichnet, dass man a) eine Phosphinsäurequelle (I) mit Olefinen (IV) in Gegenwart eines Katalysators A zu einer Alkylphosphonigsäure, deren Salz oder Ester (II) umsetzt, b) die so entstandene Alkylphosphonigsäure, deren Salz oder Ester (II) mit acetylenischen Verbindungen der Formel (V) in Gegenwart eines Katalysators B zu einem mono-vinylfunktionalisierten Dialkylphosphinsäurederivat (III) umsetzt, wobei R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 gleich oder verschieden sind und unabhängig voneinander u.a. H, C 1 -C- 18 -Alkyl, C 6 -C 18 -Aryl, C 6 -C 18 -Aralkyl, C 6 -C 18 - Alkylaryl und X für H, C 1 -C- 18 -Alkyl, C 6 -C 18 -Aryl, C 6 -C 18 -Aralkyl, C 6 -C 18 -Alkylaryl, Mg, Ca, Al, Sb, Sn, Ge, Ti, Fe, Zr, Zn, Ce, Bi, Sr, Mn, Cu, Ni, Li, Na, K und/oder eine protonierte Stickstoffbase steht und es sich bei den Katalysatoren A und B um Übergangsmetalle und/oder Übergangsmetallverbindungen und/oder Katalysatorsysteme handelt, die sich aus einem Übergangsmetall und/oder einer Übergangsmetallverbindung und mindestens einem Liganden zusammensetzen.

公开(公告)号：WO2010015314A3

公开(公告)日：2010-02-11

申请号：PCT/EP2009/005134

申请日：2009-07-15

Applicant: CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED ,  FRANKE, Oliver ,  STANKOWIAK, Achim ,  KUPFER, Rainer ,  PRÜβE, Ulf ,  DECKER, Nadine ,  VORLOP, Klaus-Dieter

Inventor： FRANKE, Oliver ,  STANKOWIAK, Achim ,  KUPFER, Rainer ,  PRÜβE, Ulf ,  DECKER, Nadine ,  VORLOP, Klaus-Dieter

IPC: C07C51/235

Abstract: Verfahren zur Herstellung von Arylpolyglykolcarbonsäuren mittels Direktoxidation Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Verbindungen der Formel (I) R 1 eine aromatische Gruppe mit 6 bis 200 Kohienstoffatomen R 2 Wasserstoff, einen linearen oder verzweigten Alkylrest mit 1 bis 22 Kohlenstoffatomen, einen ein- oder mehrfach ungesättigten linearen oder verzweigten Alkenylrest mit 2 bis 22 Kohlenstoffatomen, oder einen Arylrest mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen, X ein Alkylenrest mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen, n eine Zahl zwischen 0 und 100, B ein Kation oder Wasserstoff bedeuten, und/oder der entsprechenden protonierten Carbonsäuren, indem ein oder mehrere Verbindungen der Formel (II) worin R 1 , R 2 , X und n die oben angegebene Bedeutung besitzen, mit Sauerstoff oder Sauerstoff enthaltenden Gasen in Gegenwart eines goldhaltigen Katalysators und mindestens einer alkalischen Verbindung oxidiert werden.

公开(公告)号：WO2008125271A3

公开(公告)日：2008-10-23

申请号：PCT/EP2008/002833

申请日：2008-04-10

Applicant: CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED ,  ROESCH, Norbert

Inventor： ROESCH, Norbert

IPC: D01F9/08

Abstract: Es wird eine Spinnmasse zur Herstellung von oxidischen Keramikfasern beansprucht. Diese Spinnmasse enthält eine kolloidale Suspension von Metalloxidpartikeln. Diese Suspensionen dienen als Kristallisationskeime und bewirken eine Erniedrigung der für die Ausbildung der gewünschten Kristallphase erforderlichen Temperatur.

公开(公告)号：WO2005073323A1

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：PCT/IB2004/004292

申请日：2004-12-29

Applicant: CLARIANT INTERNATIONAL LTD ,  CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED ,  HASEMANN, Ludwig

Inventor： HASEMANN, Ludwig

IPC: C09B29/30

CPC classification number: C09D11/328 ,  C09B29/30 ,  C09B43/16 ,  C09D11/40

Abstract: Disclosed are novel dyestuff of the formula (I), wherein all substituents are defined in the claims. These dyestuffs are useful for printing or dyeing subtrates, especially textile fibre materials, paper and papery substrates and plastic films and plastic transparencies.

Abstract translation: 公开了式（I）的新型染料，其中所有取代基均在权利要求书中定义。 这些染料适用于印刷或染色基材，特别是纺织纤维材料，纸张和纸质基材以及塑料薄膜和塑料透明胶片。

公开(公告)号：WO2003040826A1

公开(公告)日：2003-05-15

申请号：PCT/EP2002/011977

申请日：2002-10-25

Applicant: CLARIANT INTERNATIONAL LTD ,  CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED

Inventor： KUDO, Takanori ,  DAMMEL, Ralph, R. ,  PADMANABAN, Munirathna

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106

Abstract: The present invention relates to a photoresist composition sensitive to radiation in the deep ultraviolet, particularly a positive working photoresist sensitive in the range of 100-200 nanometers(nm). The photoresist composition comprises a) a polymer that is insoluble in an aqueous alkaline solution and comprises at least one acid labile group, and furthermore where the polymer is essentially nonphenolic, b) a compound capable of producing an acid upon radiation, and c) an additive that reduces the effect of electrons and ions on the photoresist image.

Abstract translation: 本发明涉及对深紫外线辐射敏感的光致抗蚀剂组合物，特别是在100-200纳米（nm）范围内敏感的正性工作光致抗蚀剂。 光致抗蚀剂组合物包含：a）不溶于碱性水溶液并包含至少一种酸不稳定基团的聚合物，此外，聚合物基本上是非酚类的，b）能够在辐射时产生酸的化合物，和c） 减少电子和离子对光致抗蚀剂图像的影响的添加剂。

公开(公告)号：WO2002093263A1

公开(公告)日：2002-11-21

申请号：PCT/EP2002/004558

申请日：2002-04-25

Applicant: CLARIANT INTERNATIONAL LTD ,  CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED

Inventor： DAMMEL, Ralph, R. ,  SAKAMURI, Raj

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: The present invention relates to a novel photoresist composition sensitive in the deep ultraviolet region and a method of processing the novel photoresist, where the photoresist comprises a novel copolymer, a photoactive component, and a solvent. The novel copolymer comprises a unit derived from an ethylenically unsaturated compound containing at least one cyano functionality and a unit derived from an unsaturated cyclic non aromatic compound.

Abstract translation: 本发明涉及在深紫外区域敏感的新型光致抗蚀剂组合物和加工新型光刻胶的方法，其中光致抗蚀剂包含新型共聚物，光活性组分和溶剂。 新型共聚物包含衍生自含有至少一个氰基官能团的烯键式不饱和化合物的单元和衍生自不饱和环非芳族化合物的单元。

公开(公告)号：WO2002084402A2

公开(公告)日：2002-10-24

申请号：PCT/EP2002/002997

申请日：2002-03-19

Applicant: CLARIANT INTERNATIONAL LTD ,  CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED

Inventor： RAHMAN, M., Dalil ,  MCKENZIE, Douglas ,  KUDO, Takanori ,  PADMANABAN, Munirathna

IPC: G03F7/039

CPC classification number: B01J20/28033 ,  B01J20/28004 ,  B01J20/28028 ,  B01J20/2803 ,  B01J20/28085 ,  B01J47/018 ,  B01J47/133 ,  C08F6/02 ,  C08F6/16 ,  G03F7/0395

Abstract: The present invention provides a method for producing a film forming resin suitable for use in a photoresist composition, involving the following steps: (a) providing a solution of a film forming resin in a solvent, the film forming resin made by polymerizing at least one monomer containing a cycloolefin or an acid labile acrylate or a methacrylate; (b) providing at least one of the following two filter sheets: (i) a filter sheet containing a self-supporting fibrous matrix having immobilized therein a particulate filter aid (which has preferably been acid-washed) and particulate ion exchange resin particles having an average particle size of from about 2 to about 10 microns, where the particulate filter aid and ion exchange resin particulates are distributed substantially uniformly throughout a cross-section of said matrix; and/or (ii) a filter sheet containing a self-supporting matrix of fibers (preferably cellulose) having immobilized therein particulate filter aid and binder resin, the filter sheet preferably not containing any ion exchange resin embedded therein, and having an average pore size of 0.05 to 0.5 µm; (c) rinsing the filter sheet of step (b) with the solvent of step (a); and (d) passing the solution of the film forming resin through the rinsed filter sheet of step (c). The present invention also provides a method for producing a phtoresist composition by providing an admixture of: (1) a film forming resin prepared by the foregoing method; (2) a photosensitive component in an amount sufficient to photosensitize a photoresist composition; and optionally (3) an additional suitable photoresist solvent. The present invention also provides a method for producing a microelectronic device by forming an image on a substrate, by (a) providing the photoresist composition prepared by the foregoing method; (b) thereafter, coating a suitable substrate with the photoresist composition from step (a); (c) thereafter, heat treating the coated substrate until substantially all of the photoresist solvent is removed; and (d) imagewise exposing the photoresist composition and removing the imagewise exposed areas of the photoresist composition with a suitable developer.

Abstract translation: 本发明提供一种适用于光致抗蚀剂组合物的成膜树脂的制造方法，包括以下步骤：（a）将成膜树脂在溶剂中的溶液提供，所述成膜树脂通过聚合至少一种 含有环烯烃或酸不稳定丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的单体; （b）提供以下两个过滤片中的至少一个：（i）包含其中固定有微粒过滤助剂（优选被酸洗）的自支撑纤维基质的过滤片和具有颗粒状离子交换树脂颗粒的颗粒， 平均粒度为约2至约10微米，其中颗粒助滤剂和离子交换树脂微粒基本均匀地分布在所述基质的横截面上; 和/或（ii）含有固定有颗粒助滤剂和粘合剂树脂的自支撑纤维基质（优选纤维素）的过滤片，所述过滤片优选不含嵌入其中的任何离子交换树脂，并且具有平均孔径 为0.05〜0.5μm; （c）用步骤（a）的溶剂冲洗步骤（b）的过滤片; 和（d）使成膜树脂的溶液通过步骤（c）的冲洗过的滤纸。 本发明还提供一种通过提供以下成分的混合物来制备抗蚀剂组合物的方法：（1）通过上述方法制备的成膜树脂; （2）光敏组分，其量足以使光致抗蚀剂组合物光敏; 和（3）另外合适的光刻胶溶剂。 本发明还提供了一种通过在（a）提供通过上述方法制备的光致抗蚀剂组合物在基底上形成图像来生产微电子器件的方法; （b）此后，用来自步骤（a）的光致抗蚀剂组合物涂覆合适的基材; （c）此后，对涂覆的基材进行热处理，直到基本上所有的光致抗蚀剂溶剂被除去; 和（d）成像曝光光致抗蚀剂组合物并用合适的显影剂去除光刻胶组合物的成像曝光区域。

公开(公告)号：WO1997002315A1

公开(公告)日：1997-01-23

申请号：PCT/EP1996002945

申请日：1996-07-04

Applicant: CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED ,  LENZING AKTIENGESELLSCHAFT ,  SANDOZ-PATENT-GMBH ,  SANDOZ-ERFINDUNGEN VERWALTUNGSGESELLSCHAFT MBH ,  WOLF, Rainer ,  RÜF, Hartmut

Inventor： CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED ,  LENZING AKTIENGESELLSCHAFT ,  SANDOZ-PATENT-GMBH ,  SANDOZ-ERFINDUNGEN VERWALTUNGSGESELLSCHAFT MBH

IPC: C08K05/5398

CPC classification number: C08K5/5397 ,  C07F9/65685 ,  C08K5/5398 ,  D01F1/07 ,  D01F2/00 ,  D01F2/10 ,  C08L1/06

Abstract: The invention concerns regenerated celluloses which are made flame-retardant and contain at least one compound of formula (I). The invention also pertains to the use of compounds of formula I as flame retardants specifically for regenerated cellulose and a process for modifying regenerated cellulose characterised by the addition of compounds of formula (I) or a dispersion containing these compounds.

Abstract translation: 本发明涉及含有式（I）的至少一种化合物的阻燃再生纤维素。 本发明还提供了含有式（I）分散的化合物的特征在于特定的再生纤维素和由式（I）或这些化合物的化合物的掺入得到的再生纤维素的阻燃整理的方法的阻燃剂。

公开(公告)号：WO2009121485A8

公开(公告)日：2009-10-08

申请号：PCT/EP2009/001985

申请日：2009-03-18

Applicant: CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED ,  KRULL, Matthias ,  MORSCHHÄUSER, Roman

Inventor： KRULL, Matthias ,  MORSCHHÄUSER, Roman

IPC: C07C231/02 ,  C07C233/18

Abstract: Gegenstand der Erfindung ist ein kontinuierliches Verfahren zur Herstellung von Fettsäurealkanolamiden, indem mindestens eine Fettsäure der Formel (I) R 3 -COOH, worin R 3 für einen gegebenenfalls substituierten aliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit 5 bis 50 C-Atomen steht, mit mindestens einem Alkanolamin der Formel (Il) HNR 1 R 2 , worin R 1 für einen mindestens eine Hydroxylgruppe tragenden Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 50 Kohlenstoffatomen und R 2 für Wasserstoff, R 1 oder einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 50 C-Atomen stehen, zu einem Ammoniumsalz umgesetzt wird und dieses Ammoniumsalz nachfolgend unter Mikrowellenbestrahlung in einem Reaktionsrohr, dessen Längsachse sich in der Ausbreitungsrichtung der Mikrowellen eines Monomode-Mikrowellenapplikators befindet, zum Fettsäurealkanolamid umgesetzt wird.

公开(公告)号：WO2003058345A3

公开(公告)日：2003-07-17

申请号：PCT/EP2003/000067

申请日：2003-01-07

Applicant: CLARIANT INTERNATIONAL LTD ,  CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED

Inventor： OBERLANDER, Joseph, E. ,  DAMMEL, Ralph, R. ,  DING-LEE, Shuji ,  NEISSER, Mark, O. ,  TOUKHY, Medhat, A.

IPC: G03F7/09

Abstract: The present invention relates to novel negative-working, photoimageable, and aqueous developable antireflective coating compositions and their use in image processing by forming a thin layer of the novel antireflective coating composition between a reflective substrate and a photoresist coating. The negative bottom photoimageable antireflective coating composition is capable of being developed in an alkaline developer and is coated below a negative photoresist.