VORRICHTUNG ZUR PRÜFUNG VON MIKROSTRUKTURIERUNGSQUALITÄT
    2.
    发明申请
    VORRICHTUNG ZUR PRÜFUNG VON MIKROSTRUKTURIERUNGSQUALITÄT 审中-公开
    设备用于测试微结构质量

    公开(公告)号:WO2012007404A1

    公开(公告)日:2012-01-19

    申请号:PCT/EP2011/061699

    申请日:2011-07-08

    IPC分类号: G01N21/956

    摘要: Beschrieben wird eine Vorrichtung zur Prüfung von Mikrostrukturierungsqualität einer Oberfläche (2) bei bekannter Zielmikrostrukturierungsqualität, umfassend eine Strahlungsquelle (1) für kohärente Strahlung, einen ersten Detektor (10) und einen zweiten Detektor (4) undeine Maskierung, die so eingerichtet und zueinander angeordnet sind, dass (a)von der Strahlungsquelle (1) auf eine Oberfläche (2), die mit einer Mikrostrukturierung in Zielqualität versehen ist, ausgesendete Strahlung ein Beugungsmuster ergibt, (b) das Beugungsmaximum der Ordnung n des Beugungsmusters ohne die Maskierung auf den ersten Detektor (10) fallen würde, (c) die Maskierung ≥80 % der Strahlungsquanten, die dem Beugungsmaximum der Ordnung n zuzuordnen sind, am Auftreffen auf den Detektor hindert und (d) das Beugungsmaximum der Ordnung a des Beugungsmusters auf den zweiten Detektor (4) fällt, wobei n Ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 und 10 und a Ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 und 10 und a ≠ n ist. Beschrieben werden auch entsprechende Verfahren sowie Verwendungen.

    摘要翻译: 描述了一种用于表面(2)与一个已知的靶微结构化品质的微结构化质量测试的装置,包括一个辐射源(1)相干辐射的,第一检测器(10)和第二检测器(4)和掩蔽,其被构造和布置成彼此 是:(a)从设置有在目标质量的显微组织的放射线源(1)上的表面(2)中,衍射图案发射的辐射的结果,(b)在没有掩蔽所述第一检测器上的衍射图案的n阶衍射峰 (10)将下降,(c)该掩蔽=防止了被分配给衍射最大的顺序的n个照射到检测器和(d)的顺序的衍射峰的所述第二检测器上的衍射图案对辐射量子的80%(4) 瀑布,其中n选自1,2,3,4,5,6,7,8,9和10以及一组中选择从去选择 R基团由1,2,3,4,5,6,7,8,9和10,和一个? ñ。 和相应的方法和用途进行了描述。

    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR BESCHICHTUNG ODER MODIFIZIERUNG VON OBERFLÄCHEN
    4.
    发明申请
    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR BESCHICHTUNG ODER MODIFIZIERUNG VON OBERFLÄCHEN 审中-公开
    方法和装置涂层或修改曲面的

    公开(公告)号:WO2005014880A1

    公开(公告)日:2005-02-17

    申请号:PCT/EP2004/051659

    申请日:2004-07-29

    IPC分类号: C23C16/44

    摘要: Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren und einer erfindungsgemäßen Vorrichtung (2) zum Beschichten oder Modifizieren einer Oberfläche (41,42) wird eine Strömung (6) einer ersten Gasphase (10) oder eines ersten Aerosols umfassend eine oder mehrere Prekursor-Verbindungen entlang eines erhitzten Filamentes (14) geführt, so dass die PrekursorVerbindungen in reaktive Verbindungen überführt werden. Alternativ werden nicht aktivierte Teilchen entlang eines erhitzten Filamentes geführt, so dass diese aktiviert werden und dann mit einer Gasphase (10) oder einem Ae.rosol umfassend mehrere Prekursor-Verbindungen zusammengeführt werden, so dass hierdurch die Preskursor-Verbindungen in reaktive Verbindungen überführt werden. Die nach mindestens einem der beiden genannten Schritte gebildeten reaktiven Verbindungen werden auf ein Substrat geleitet, das Atmosphärendruck ausgesetzt ist, so dass sich auf diesem eine Schicht abscheidet oder dessen Oberfläche modifiziert wird.

    摘要翻译: 在根据本发明的和用于涂覆本发明的装置(2)或修改的表面(41,42),第一气体相(10)或第一气溶胶的流(6),其包括沿一个加热的灯丝的一个或多个前体的化合物的方法( 14)引导,使得该PrekursorVerbindungen被转化成反应性化合物。 可替换地,非活化的颗粒被沿一个加热的灯丝被引导,从而使它们被激活,然后用气相(10)或一个Ae.rosol多种前体化合物相结合的综合,从而使在这种方式Preskursor-化合物转化成反应性化合物。 根据两个所述步骤中的至少一个被暴露于大气压力下的基片上进行的,使得在此沉积层或其表面改性的反应性化合物形成。