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    LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    2.
    发明申请
    LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
    LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法

    公开(公告)号：WO2016012174A1

    公开(公告)日：2016-01-28

    申请号：PCT/EP2015/064106

    申请日：2015-06-23

    Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

    Inventor： HUANG, Yang-Shan ,  VAN BERKEL, Koos ,  VAN DIJSSELDONK, Antonius, Johannes, Josephus ,  VAN EIJK, Jan ,  VAN SCHOOT, Jan, Bernard, Plechelmus ,  VERMEULEN, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus

    IPC: G03F7/20 ,  G03F1/00

    CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70716

    Abstract: A lithographic apparatus is described, the apparatus comprising: n illumination system configured to condition a radiation beam; otary drive adapted to move a flexible patterning device along a closed loop trajectory, the closed loop trajectory having a straight portion and a curved portion, a curvature of the flexible patterning device substantially corresponding to a curvature of the closed loop trajectory; a substrate table constructed to hold a substrate; wherein the rotary drive comprises a pulley assembly configured to: engage, during use, the flexible patterning device, and maintain, during use, a portion of the flexible patterning device that is situated along the straight portion of the trajectory substantially flat, the substantially flat portion of the patterning device being configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, and; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.

    Abstract translation: 描述了一种光刻设备，该设备包括：n个照明系统，被配置为调节辐射束; 适于沿着闭环轨迹移动柔性图案形成装置的闭合驱动装置，闭环轨迹具有直线部分和弯曲部分，柔性图案形成装置的曲率基本上对应于闭环轨迹的曲率; 构造成保持基板的基板台; 其中所述旋转驱动器包括滑轮组件，所述滑轮组件构造成：在使用期间，所述柔性图案形成装置接合并且在使用期间保持所述柔性图案形成装置的沿所述轨迹的直线部分基本上平坦的部分， 所述图案形成装置的一部分被配置为使辐射束在其横截面上具有图案以形成图案化的辐射束， 投影系统，被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上。

    フォトマスク、フォトマスクの製造方法及び露光装置
    3.
    发明申请
    フォトマスク、フォトマスクの製造方法及び露光装置 审中-公开
    照相机，制造光电子的方法和曝光装置

    公开(公告)号：WO2014123030A1

    公开(公告)日：2014-08-14

    申请号：PCT/JP2014/051763

    申请日：2014-01-28

    Applicant: 堺ディスプレイプロダクト株式会社

    Inventor： 加藤　真裕

    IPC: G03F1/42 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F1/42 ,  G03F1/38 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70783

    Abstract: 　露光処理の際に変形した場合であっても、露光不良の発生を抑制することが可能なフォトマスク、フォトマスクの製造方法及び露光装置を提供する。露光処理に用いるフォトマスクに、遮光部材にて所定のパターンが形成してあるパターン領域が複数設けてあり、各パターン領域の少なくとも対向する二辺にそれぞれ対応する位置にキャリブレーションマークが形成してある。露光処理の際、フォトマスクに形成してあるキャリブレーションマークと、基板ステージに形成してあるマークとに基づいて、フォトマスクの変形状態を検出し、検出結果に基づいて、フォトマスクに形成してあるパターンを基板に投影する際の投影条件を補正する。

    Abstract translation: 提供了即使在曝光处理期间发生变形也能够抑制曝光缺陷的发生的光掩模，制造光掩模的方法和曝光装置。 使用遮光部件在其上形成规定图案的图案区域通过曝光处理多次设置在光掩模上，校准标记形成在与每个图案区域的至少两个相对侧相对应的位置。 在曝光处理期间，基于形成在光掩模上的校准标记和形成在基板台上的标记，以及将形成在光掩模上的图案投影在基板上的投影条件基于在基板上投影的投影条件来检测光掩模的变形， 检测结果的基础。

    EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    4.
    发明申请
    EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
    曝光装置和曝光方法及装置制造方法

    公开(公告)号：WO2014073120A1

    公开(公告)日：2014-05-15

    申请号：PCT/JP2012/084312

    申请日：2012-12-28

    Applicant: NIKON CORPORATION

    Inventor： YODA, Yasushi

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70133 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

    Abstract: An exposure apparatus is equipped with two stages (WST1, WST2) that are movable independently from each other and each have a table (WTB) at which a grating (RG) is provided at a position under a surface where a wafer (W) is mounted, and a measurement stage (MST)that is movable independently from the two stages and performs a measurement related to exposure based on a light-receiving result of the energy beam received via an optical system. In an exposure station (200) and a measurement station (300), a first measurement system and a second measurement system are respectively provided which measure the position of the table that the stage has, by irradiating the grating of the stage from below with a measurement beam.

    Abstract translation: 曝光装置具有能够彼此独立移动的两个阶段（WST1，WST2），并且每个具有台（WTB），在该台（WTB）处，在晶片（W）为 以及可以独立于两级移动的测量级（MST），并且基于经由光学系统接收的能量束的光接收结果执行与曝光有关的测量。 在曝光站（200）和测量站（300）中，分别设置第一测量系统和第二测量系统，其通过从下方照射台的光栅来测量台的位置 测量光束。

    露光装置及び露光方法
    6.
    发明申请
    露光装置及び露光方法 审中-公开
    曝光装置和曝光方法

    公开(公告)号：WO2013151146A1

    公开(公告)日：2013-10-10

    申请号：PCT/JP2013/060400

    申请日：2013-04-04

    Applicant: NSKテクノロジー株式会社 ,  鈴木 幹育 ,  西川 貴洋

    Inventor： 鈴木　幹育 ,  西川　貴洋

    IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/70733 ,  H01L21/67225

    Abstract: 　タクトタイムの短縮を図ることができる露光装置及び露光方法を提供する。　露光装置ＰＥは、マスクＭ１，Ｍ２を保持するマスクステージ１０と、被露光材としての基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ載置する複数の基板保持部２１と、複数の基板保持部を載置する基板ステージ２０と、前記複数の基板保持部２１に保持された前記基板Ｗ１，Ｗ２がマスクステージ１１に保持された前記マスクＭ１，Ｍ２と対向するように、前記複数の基板保持部２１を同期して回転移動可能な回転テーブル２２と、前記マスクを介して前記基板Ｗ１，Ｗ２に対して、露光光を照射する照明光学系３０を備え、第１及び第２の基板保持部２１ａ，２１ｂに載置した基板Ｗ１，Ｗ２に対して、同期して露光光を照射することができる。

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够降低打印时间的曝光装置和曝光方法。 曝光装置（PE）包括：用于保持掩模（M1，M2）的掩模台（10）; 多个用于分别在其上放置衬底（W1，W2）作为待曝光材料的衬底保持部分（21） 用于将多个基板保持部放置在其上的基板台（20） 旋转台（22），其可以彼此同步地旋转地转印所述多个基板保持部（21），使得由所述多个基板保持部（21）保持的所述基板（W1，W2）面对所述掩模（M1， M2）; 以及照射光学系统（30），用于通过所述掩模用曝光光照射所述基板（W1，W2），从而同步地将曝光光发射到放置在第一和第二基板保持部分（21a）上的基板（W1，W2） ，21b）。

    마스크
    8.
    发明申请
    마스크 审中-公开
    面具

    公开(公告)号：WO2013081439A1

    公开(公告)日：2013-06-06

    申请号：PCT/KR2012/010393

    申请日：2012-12-03

    Applicant: 주식회사 엘지화학

    Inventor： 신부건

    IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/13

    CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F1/00 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F7/24 ,  G03F7/70691

    Abstract: 본 출원은, 마스크, 마스크의 제조 방법, 광 조사 장치, 광 조사 방법 및 정렬된 광배향막의 제조 방법에 관한 것이다. 본 출원의 마스크를 사용하면, 피조사체의 표면에 직진성이 우수한 광을 균일한 조도로 조사할 수 있다. 또한, 본 출원의 마스크는, 예를 들면, 피조사체가 곡면인 경우에도 효율적으로 광을 조사할 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及掩模，掩模的制造方法，光照射装置，光照射方法以及有序光电转换膜的制造方法。 当使用本发明的掩模时，可以用具有优异的线性和均匀照明的光来照射被照射物体的表面。 此外，即使例如被照射物体具有曲面，本发明的掩模也可以有效地照射光。

    APPARATUS FOR TRANSFERRING A SUBSTRATE IN A LITHOGRAPHY SYSTEM
    9.
    发明申请
    APPARATUS FOR TRANSFERRING A SUBSTRATE IN A LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
    用于在地平线系统中传输基板的装置

    公开(公告)号：WO2012146789A1

    公开(公告)日：2012-11-01

    申请号：PCT/EP2012/057959

    申请日：2012-05-01

    Applicant: MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. ,  KUIPER, Vincent Sylvester ,  SLOT, Erwin ,  VAN KERVINCK, Marcel Nicolaas Jacobus ,  DE BOER, Guido ,  DE JONG, Hendrik Jan

    Inventor： KUIPER, Vincent Sylvester ,  SLOT, Erwin ,  VAN KERVINCK, Marcel Nicolaas Jacobus ,  DE BOER, Guido ,  DE JONG, Hendrik Jan

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/7075 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67745

    Abstract: An apparatus (401) for transferring substrates (405) within a lithography system (300), the lithography system comprising a substrate preparation unit (360a-d) for clamping a substrate onto a substrate support structure to form a clamped substrate, and an interface with a substrate supply system (315) for receiving unclamped substrates. The apparatus comprises a body (680) provided with a first set of fingers (684a, b) for carrying an undamped substrate and a second set of fingers (685a, b) for carrying a substrate support structure (403), and the first set of fingers is located below the second set of fingers, and fingers of the first set of fingers have a different shape than the fingers of the second set of fingers.

    Abstract translation: 一种用于在光刻系统（300）内传送衬底（405）的设备（401），所述光刻系统包括用于将衬底夹持到衬底支撑结构上以形成夹持衬底的衬底制备单元（360a-d） 具有用于接收未夹紧衬底的衬底供应系统（315）。 该设备包括：主体（680），其设置有用于承载无阻尼基板的第一组指状物（684a，b）和用于承载基板支撑结构（403）的第二组指状物（685a，b），第一组 的手指位于第二组手指之下，并且第一组手指的手指具有与第二组手指的手指不同的形状。

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