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1.发明申请PROCEDE D'OBTENTION D'UN MATERIAU COMPRENANT UN SUBSTRAT MUNI D'UN REVETEMENT 审中-公开用于生产包括用涂料提供的基材的材料的方法
公开(公告)号：WO2012022874A1
公开(公告)日：2012-02-23
申请号：PCT/FR2011/051733
申请日：2011-07-19
发明人： KHARCHENKO, Andriy
IPC分类号： C03C17/00
CPC分类号： B05D5/12 , B05D5/00 , C03C17/36 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C2218/32 , C03C2218/328 , C03C2218/355
摘要： L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un matériau comprenant un substrat muni sur au moins une de ses faces d'un revêtement permanent comprenant au moins une couche mince, ledit procédé comprenant les étapes suivantes: -on dépose sur au moins une des faces dudit substrat ledit revêtement permanent, puis -on dépose directement au-dessus dudit revêtement permanent un revêtement temporaire comprenant, en tant que couche la plus proche du substrat, au moins une couche mince soluble dans un solvant, surmontée par au moins une couche fonctionnelle, puis -on fait subir un traitement thermique au substrat ainsi revêtu, puis on traite ledit substrat revêtu à l'aide dudit solvant, de manière à retirer de la surface dudit substrat ledit revêtement temporaire.
摘要翻译： 本发明涉及一种用于生产材料的方法，所述材料包括具有永久性涂层的基材，所述基材在其至少一个表面上包括至少一个薄膜，所述方法包括以下步骤：至少沉积所述永久涂层 所述基板的表面之一; 然后，将临时涂层直接沉积在所述永久涂层的顶部上，所述临时涂层包括作为最接近基底的层至少一个可溶于溶剂的薄膜，所述薄膜具有涂覆在其上的至少一个功能层 ; 然后对这样涂覆的基材进行热处理，从而从所述基材的表面除去临时涂层。
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公开(公告)号：WO2010139908A1
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：PCT/FR2010/051097
申请日：2010-06-04
IPC分类号： C03C17/23 , C03C17/245 , B23K26/00 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , C23C14/58 , C03C17/34
CPC分类号： C03C17/23 , C03C17/245 , C03C17/3441 , C03C17/3678 , C03C2217/94 , C03C2218/32 , C03C2218/355 , C23C14/086 , C23C14/5813 , H01L21/26 , H01L31/022466 , Y10T428/24364
摘要： L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un substrat revêtu sur une première face d'au moins une couche mince transparente et électro-conductrice à base d'au moins un oxyde, comprenant les étapes suivantes : on dépose ladite au moins une couche mince sur ledit substrat; on soumet ladite au moins une couche mince à une étape de traitement thermique dans laquelle on irradie ladite au moins une couche à l'aide d'un rayonnement possédant une longueur d'onde comprise entre 500 et 2000 nm et focalisé sur une zone de ladite au moins une couche dont une dimension au moins n'excède pas 10 cm, ledit rayonnement étant issu d'au moins un dispositif de rayonnement placé en regard de ladite au moins une couche, un déplacement relatif étant créé entre ledit dispositif de rayonnement et ledit substrat de manière à traiter la surface souhaitée, ledit traitement thermique étant tel que la résistivité de ladite au moins une couche est diminuée lors du traitement.
摘要翻译： 本发明涉及用至少一种含有至少一种氧化物的透明和导电薄膜在第一表面上涂覆基材的方法，包括以下步骤：将所述至少一种薄膜沉积在所述基材上; 对所述至少一个薄膜进行热处理步骤，其中用波长在500和2000nm之间的辐射照射所述至少一个薄膜并聚焦在所述至少一个薄膜的面积上，至少一个维度 其不超过10cm，所述辐射由位于所述至少一个膜相对的至少一个辐射装置发射，并且在所述辐射装置和所述基板之间产生相对运动，以便处理所需表面，所述热处理为 使得在处理期间所述至少一个膜的电阻率降低。
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公开(公告)号：WO2012022876A3
公开(公告)日：2012-02-23
申请号：PCT/FR2011/051749
申请日：2011-07-20
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , DURANDEAU, Anne , KHARCHENKO, Andriy , ROY, Sébastien , GERARDIN, Hadia , LORREN, Anne
IPC分类号： C03C17/34
摘要： L'invention a pour objet un vitrage comprenant un substrat en verre (1) muni sur l'une de ses faces, destinée à former la face 1 dudit vitrage en position d'utilisation, d'un empilement de couches minces comprenant, depuis le substrat (1), une couche (2) d'un oxyde transparent électro-conducteur, une couche intermédiaire (3) d'indice de réfraction compris dans un domaine allant de 1,40 à 1,5 et d'épaisseur optique Y, et une couche photocatalytique (4) dont l'épaisseur optique X est d'au plus 50 nm, lesdites épaisseurs optiques X et Y, exprimées en nanomètres, étant telles que:
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公开(公告)号：WO2010142926A1
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：PCT/FR2010/051172
申请日：2010-06-11
CPC分类号： C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3644 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C23/0025 , C03C23/007
摘要： L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un substrat revêtu sur au moins une face d'un empilement de couches minces bas-émissif comprenant les étapes suivantes: -on dépose sur ladite au moins une face dudit substrat un empilement de couches minces comprenant au moins une couche mince d'argent entre au moins deux couches minces diélectriques, -on traite thermiquement la au moins une face revêtue à l'aide d'au moins un rayonnement laser émettant dans au moins une longueur d'onde comprise entre 500 et 2000 nm de sorte que l'émissivité et/ou la résistance carrée de l'empilement est diminuée d'au moins 5%, ledit procédé étant tel que ledit empilement avant traitement comprend au moins une couche mince absorbant au moins partiellement le rayonnement laser de sorte que l'absorption dudit empilementà au moins une longueur d'onde du rayonnement laser est telle que l'absorption d'un substrat de verre clair de 4mm d'épaisseurrevêtu dudit empilement à ladite au moins une longueur d'onde du rayonnement laser est supérieure ou égale à 10%.
摘要翻译： 本发明涉及一种用于获得在其至少一个表面上涂覆有低发射率的薄膜堆叠的衬底的方法，所述方法包括以下步骤：在衬底的至少一个表面上沉积一叠薄膜 包括在两个薄介电膜之间的至少一个薄银膜; 以及利用在至少一个波长在500和2000nm之间的至少一个激光辐射对所述至少一个涂覆面进行热处理，使得所述叠层的发射率和/或平方电阻降低至少5％。 根据本发明，在处理之前，堆叠包括至少一个至少部分地吸收激光辐射的薄膜，因此，在至少一个激光辐射波长下的堆叠的吸收使得吸收4mm- 以至少一个激光辐射波长涂覆有该叠层的厚的透明玻璃基板大于或等于10％。
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公开(公告)号：WO2009136110A2
公开(公告)日：2009-11-12
申请号：PCT/FR2009/050658
申请日：2009-04-10
IPC分类号： C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/245 , C03C17/40
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/3441 , C03C17/3482 , C03C17/36 , C03C17/3607 , C03C17/3649 , C03C17/3689 , C03C2217/71 , C03C2218/32 , C03C2218/322 , C03C2218/328
摘要： L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un matériau comprenant un substrat et au moins une couche mince à base d'oxyde de titane au moins partiellement cristallisé et déposée sur une première face dudit substrat, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : on dépose ladite au moins une couche mince à base d'oxyde de titane; on soumet ladite au moins une couche mince à base d'oxyde de titane à un traitement de cristallisation en apportant une énergie susceptible de porter chaque point de ladite au moins une couche mince à base d'oxyde de titane à une température d'au moins 300°C tout en maintenant une température inférieure ou égale à 150°C en tout point de la face dudit substrat opposée à ladite première face; ledit traitement de cristallisation étant précédé d'une étape de dépôt, au-dessus et/ou en dessous de ladite couche mince à base d'oxyde de titane, d'une couche pourvoyeuse d'énergie, susceptible d'absorber l'énergie apportée lors dudit traitement de cristallisation plus efficacement que ladite au moins une couche d'oxyde de titane et/ou de créer une énergie supplémentaire lors dudit traitement de cristallisation, et de transmettre au moins une partie de ladite énergie à ladite au moins une couche mince à base d'oxyde de titane lors dudit traitement de cristallisation.
摘要翻译： 本发明涉及一种用于获得材料的方法，所述材料包括基材和至少一个含有至少部分结晶的氧化钛并沉积在所述基材的第一表面上的薄层，其中所述方法包括以下步骤： 至少一层含有氧化钛的薄层; 通过提供能够将含有氧化钛的所述至少一个薄层的每个点加热到至少300℃的温度同时保持低于或等于的温度来对含有氧化钛的所述至少一个薄层进行结晶处理 在所述衬底的与所述第一表面相对的表面的任何点处的至少150℃，其中所述结晶过程之前是在所述含有氧化钛的所述薄层上沉积在所述薄层上和/或下面的步骤，所述薄层能够吸收 在所述结晶过程期间提供的能量比所述至少一个含有氧化钛的薄层更有效，和/或能够在所述结晶过程期间产生附加功率，并将所述能量的至少一部分传输到所述至少一个薄层 在所述结晶过程中含有氧化钛。
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公开(公告)号：WO2005102952A2
公开(公告)日：2005-11-03
申请号：PCT/FR2005/050229
申请日：2005-04-12
IPC分类号： C03C17/00
CPC分类号： C03C17/007 , C03C8/12 , C03C2217/425 , C03C2217/45 , C03C2217/479 , C03C2217/71 , Y10T428/31663
摘要： L’invention concerne un substrat à revêtement de résistance mécanique et durabilité en permettant la manipulation par un utilisateur, caractérisé en ce que le revêtement comprend en association intime un premier composé photocatalytique et un second composé présentant un saut d'énergie entre le niveau supérieur de sa bande de valence et le niveau inférieur de sa bande de conduction correspondant à une longueur d'onde dans le domaine du visible ; un vitrage comprenant ce substrat ; les applications du substrat ; ses procédés d'obtention.
摘要翻译： 本发明涉及一种具有耐机械性，耐久性的涂层，并且适合于由使用者处理的基材。 所述衬底的特征在于，所述涂层包括第一光催化化合物，其与包含其价带的较高电平和其导电带的较低电平之间的能量跳跃的第二化合物紧密相关，对应于 可见字段。 本发明还涉及包括所述基底，本发明基底的应用的玻璃窗及其生产方法。
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公开(公告)号：WO2011039488A1
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/FR2010/052073
申请日：2010-09-30
IPC分类号： C03C17/00 , C03C17/245 , C23C14/58
CPC分类号： C03C17/002 , C03C17/245 , C03C2217/71 , C03C2218/154 , C03C2218/322 , C23C14/0635 , C23C14/0641 , C23C14/14 , C23C14/185 , C23C14/541 , C23C14/5813 , C23C14/5853 , Y10S977/755 , Y10S977/891 , Y10T428/24917
摘要： L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un substrat revêtu sur au moins une partie de sa surface d' au moins une couche d'oxyde d'un métal M dont l'épaisseur physique est inférieure ou égale à 30 nm, ladite couche d'oxyde n'étant pas comprise dans un empilement de couches comprenant au moins une couche d'argent, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : on dépose par pulvérisation cathodique au moins une couche intermédiaire d'un matériau choisi parmi le métal M, un nitrure du métal M, un carbure du métal M ou un oxyde sous-stœchiométrique en oxygène du métal M, ladite couche intermédiaire n'étant pas déposée au-dessus ou en-dessous d'une couche à base d'oxyde de titane, l'épaisseur physique de ladite couche intermédiaire étant inférieure ou égale à 30 nm, on oxyde au moins une partie de la surface de ladite couche intermédiaire à l'aide d'un traitement thermique, pendant lequel ladite couche intermédiaire est en contact direct avec une atmosphère oxydante, notamment avec de l'air, la température dudit substrat pendant ledit traitement thermique ne dépassant pas 1500C.
摘要翻译： 本发明涉及一种用于通过至少一层物理厚度小于或等于30nm的金属M的氧化物获得涂覆在其表面的至少一部分上的基材的方法，所述氧化物层不包括在内 在包括至少一层银层的一叠层中。 所述方法包括以下步骤：从金属M，金属M的氮化物，金属M的碳化物或金属M的氧中亚化学计量的氧化物中选择的材料的至少一个中间层通过 阴极溅射，所述中间层不被沉积在基于氧化钛的层之上或之下，所述中间层的物理厚度小于或等于30nm; 并且所述中间层的表面的至少一部分通过热处理而被氧化，在此期间所述中间层与氧化气氛，特别是空气直接接触，所述衬底的温度在热量期间不超过150℃ 治疗。
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公开(公告)号：WO2009136110A3
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：PCT/FR2009050658
申请日：2009-04-10
IPC分类号： C03C17/34 , C03C17/245 , C03C17/36
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/3441 , C03C17/3482 , C03C17/36 , C03C17/3607 , C03C17/3649 , C03C17/3689 , C03C2217/71 , C03C2218/32 , C03C2218/322 , C03C2218/328
摘要： The invention relates to a method for obtaining a material including a substrate and at least one thin layer that contains an at least partially crystallised titanium oxide and is deposited on a first surface of said substrate, wherein said method comprises the following steps: depositing said at least one thin layer containing titanium oxide; subjecting said at least one thin layer containing titanium oxide to a crystallisation process by supplying a power capable of heating each point of said at least one thin layer containing titanium oxide to a temperature of at least 300°C while maintaining a temperature lower than or equal to 150°C at any point of the surface of said substrate opposite said first surface, wherein said crystallisation process is preceded by the step of depositing, on and/or under said thin layer containing titanium oxide, a power-providing layer capable of absorbing the energy supplied during said crystallisation process more efficiently than said at least one thin layer containing titanium oxide, and/or capable of generating an additional power during said crystallisation process and of transmitting at least a portion of said energy to said at least one thin layer containing titanium oxide during said crystallisation process.
摘要翻译： 本发明涉及一种用于获得材料的方法，所述材料包括基材和至少一个含有至少部分结晶的氧化钛并沉积在所述基材的第一表面上的薄层，其中所述方法包括以下步骤： 至少一层含有氧化钛的薄层; 通过提供能够将含有氧化钛的所述至少一个薄层的每个点加热到至少300℃的温度同时保持低于或等于的温度来对含有氧化钛的所述至少一个薄层进行结晶处理 在所述衬底的与所述第一表面相对的表面的任何点处为150℃，其中所述结晶过程之前是在所述含有氧化钛的所述薄层上和/或下方沉积能够吸收的功率提供层的步骤 在所述结晶过程期间提供的能量比所述至少一个含有氧化钛的薄层更有效，和/或能够在所述结晶过程期间产生额外的功率，并将所述能量的至少一部分传输到所述至少一个薄层 在所述结晶过程中含有氧化钛。
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公开(公告)号：WO2007045805A8
公开(公告)日：2007-07-26
申请号：PCT/FR2006051074
申请日：2006-10-20
申请人： SAINT GOBAIN , NGHIEM BERNARD , ZAGDOUN GEORGES , SONDERGARD ELIN , GARREC RONAN , ROYER EDDY , KHARCHENKO ANDRIY , LELARGE ANNE , BARTHEL ETIENNE
发明人： NGHIEM BERNARD , ZAGDOUN GEORGES , SONDERGARD ELIN , GARREC RONAN , ROYER EDDY , KHARCHENKO ANDRIY , LELARGE ANNE , BARTHEL ETIENNE
CPC分类号： C03C17/34 , C03C17/007 , C03C17/23 , C03C17/36 , C03C2217/23 , C03C2217/477 , C03C2217/71 , C03C2217/75 , C03C2217/91 , Y10T428/24562 , Y10T428/24612 , Y10T428/24992 , Y10T428/265 , Y10T428/31
摘要： The invention relates to a material comprising: (i) a substrate which is provided with a titanium oxide-based coating which is topped with a thin hydrophilic layer, said thin hydrophilic layer forming at least part of the external surface of the material and containing no titanium oxide; or (ii) a substrate which is provided with a coating based on titanium oxide and silicon oxide, whereby the titanium oxide content at the external surface of the material is non-null and the silicon oxide content is greater on the surface than inside the layer. The invention relates to the use of said material in order to prevent mineral fouling from being deposited on the external surface in the absence of water runoff.
摘要翻译： 本发明涉及一种材料，包括：（i）衬底，其具有顶部具有薄亲水层的氧化钛基涂层，所述薄亲水层形成材料的外表面的至少一部分并且不含 氧化钛; 或者（ii）具有基于氧化钛和氧化硅的涂层的基板，由此材料的外表面的氧化钛含量不为零，并且表面上的氧化硅含量比层内的含量高 。 本发明涉及所述材料的使用，以防止在没有水径流的情况下矿物污垢沉积在外表面上。
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公开(公告)号：WO2007045805A3
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/FR2006051074
申请日：2006-10-20
申请人： SAINT GOBAIN , NGHIEM BERNARD , ZAGDOUN GEORGES , SONDERGARD ELIN , GARREC RONAN , ROYER EDDY , KHARCHENKO ANDRIY , LELARGE ANNE , BARTHEL ETIENNE
发明人： NGHIEM BERNARD , ZAGDOUN GEORGES , SONDERGARD ELIN , GARREC RONAN , ROYER EDDY , KHARCHENKO ANDRIY , LELARGE ANNE , BARTHEL ETIENNE
CPC分类号： C03C17/34 , C03C17/007 , C03C17/23 , C03C17/36 , C03C2217/23 , C03C2217/477 , C03C2217/71 , C03C2217/75 , C03C2217/91 , Y10T428/24562 , Y10T428/24612 , Y10T428/24992 , Y10T428/265 , Y10T428/31
摘要： The invention relates to a material comprising a substrate which is provided with a titanium oxide-based coating which is topped with a thin hydrophilic layer. The aforementioned thin hydrophilic layer forms at least part of the external surface of the material and does not comprise titanium oxide. The invention relates to the use of said material in order to prevent mineral fouling from being deposited on the external surface in the absence of water runoff.
摘要翻译： 本发明涉及一种包含基材的材料，所述基材设置有涂覆有亲水性薄层的基于氧化钛的涂层。 前述的薄亲水层形成材料的至少一部分外表面并且不包含氧化钛。 本发明涉及所述材料的用途，以防止在没有水流失的情况下矿物结垢沉积在外表面上。
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