VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER BEDRUCKTEN BESCHICHTETEN SCHEIBE

    公开(公告)号:WO2019105713A1

    公开(公告)日:2019-06-06

    申请号:PCT/EP2018/080705

    申请日:2018-11-09

    Abstract: Verfahren zur Herstellung einer beschichteten und bedruckten Glasscheibe (1), mindestens umfassend die Schritte: a) Bereitstellen eines Glassubstrats (2) mit einer metallhaltigen Beschichtung (4) auf mindestens einer ersten Oberfläche (3.1) und einer auf dieser metallhaltigen Beschichtung (4) angeordneten polymeren Schutzschicht (5) mit einer Dicke (d), b) Entfernen der polymeren Schutzschicht (5) in einem ersten Bereich (6) durch einen Kohlenstoffdioxidlaser, c) Entfernen der metallhaltigen Beschichtung (4) innerhalb des ersten Bereichs (6) nur in einem zweiten Bereich (9) durch einen Festkörperlaser, sodass ein Randbereich (10) entsteht, in dem die metallhaltige Beschichtung (4) intakt ist und in dem die polymere Schutzschicht (5) in Schritt b) entfernt wurde, d) Aufbringen einer keramischen Farbe (7) nur im ersten Bereich (6), e) Temperaturbehandlung der Glasscheibe (1) bei > 600 °C, wobei - die polymere Schutzschicht (5) auf der gesamten ersten Oberfläche (3.1) entfernt wird, - im Randbereich (10) die metallhaltige Beschichtung (4) durch die darüber liegende keramische Farbe (7) gelöst wird und - die keramische Farbe (7) eingebrannt wird.

    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER BEDRUCKTEN BESCHICHTETEN SCHEIBE

    公开(公告)号:WO2019105712A1

    公开(公告)日:2019-06-06

    申请号:PCT/EP2018/080704

    申请日:2018-11-09

    Abstract: Verfahren zur Herstellung einer beschichteten und bedruckten Glasscheibe (1), mindestens umfassend die Schritte: a) Bereitstellen eines Glassubstrats (2) mit einer metallhaltigen Beschichtung (4) auf mindestens einer ersten Oberfläche (3.1) und einer auf dieser metallhaltigen Beschichtung (4) angeordneten polymeren Schutzschicht (5), b) Entfernen der temporären polymeren Schutzschicht (5) und der metallhaltigen Beschichtung (4) nur in einem festgelegten Bereich (6), c) Aufbringen einer keramischen Farbe (7) in dem festgelegten Bereich (6), wobei Schritt b) mit einem Laser (8) durchgeführt wird und die polymere Schutzschicht (5) und die metallhaltige Beschichtung (4) außerhalb des festgelegten Bereichs (6) nach Schritt c) intakt sind.

    透明導電膜付基板
    5.
    发明申请
    透明導電膜付基板 审中-公开
    带有透明导电膜的基底

    公开(公告)号:WO2016157930A1

    公开(公告)日:2016-10-06

    申请号:PCT/JP2016/050754

    申请日:2016-01-13

    Abstract: 透明導電膜が除去された部分に設けられる絶縁膜が剥離しにくい透明導電膜付基板を提供する。 基板1と、基板1上に設けられ、パターニングされた透明導電膜2とを備える透明導電膜付基板10であって、基板1の上に、透明導電膜2がパターニングにより除去された除去領域A1と、透明導電膜2が除去されていない非除去領域A2と、除去領域A1と非除去領域A2の間に設けられた境界領域A3とが形成されてなり、境界領域A3において、透明導電膜2が島状に形成された島状部分2bが形成されてなることを特徴としている。

    Abstract translation: 提供一种设置有透明导电膜的基板,其中设置在已经从其去除透明导电膜的部分上的绝缘膜不太可能与基板分离。 设置有透明导电膜的基板10具有:基板1和设置在基板1上的图案化的透明导电膜2,其中去除了透明导电膜2的去除区域A1,去除区域A2 透明导电膜2不会被除去,并且在基板1上形成分别设置在去除区域A1和非去除区域A2之间的边界区域A3,其中透明导电膜2为岛状部分2b 在边界区域A3中形成岛状形状。

    マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法
    10.
    发明申请
    マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 审中-公开
    掩模布,转印掩模,生产掩模布的方法,生产转印掩模的方法和制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:WO2014080840A1

    公开(公告)日:2014-05-30

    申请号:PCT/JP2013/080874

    申请日:2013-11-15

    Abstract:  平坦度が悪化することを抑制したマスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびこの転写用マスクを用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。 ガラス基板の主表面上に薄膜を備えるマスクブランクであって、前記ガラス基板は、水素含有量が7.4×10 18 分子数/cm 3 未満であり、前記薄膜は、タンタルを含有し、かつ水素を実質的に含有しない材料からなり、前記ガラス基板の主表面に接して形成されていることを特徴とする。

    Abstract translation: 提供:在平坦度降低时抑制的掩模坯料; 传输掩码; 掩模毛坯的制造方法; 一种生产转印掩模的方法; 以及使用该转印掩模制造半导体器件的方法。 一种掩模坯料,其在玻璃基板的主表面上具有薄膜,其特征在于,所述玻璃基板的氢含量小于7.4×1018分/ cm 3; 并且所述薄膜形成为与所述玻璃基板的主表面接触,并且由包含钽但不基本上含有氢的材料形成。

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