公开(公告)号：WO2018075248A1

公开(公告)日：2018-04-26

申请号：PCT/US2017/055182

申请日：2017-10-04

Applicant: CYMER, LLC

Inventor： CONLEY, Willard Earl ,  MASON, Eric Anders ,  THORNES, Joshua Jon

IPC: H01S3/136 ,  H01S3/11 ,  H01S3/00 ,  H01S3/08 ,  H01S3/106 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/66 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01S3/136 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/7085 ,  H01L21/3065 ,  H01L22/20 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/10046 ,  H01S3/106 ,  H01S3/11 ,  H01S3/137 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

Abstract: A spectral feature of a pulsed light beam produced by an optical source is controlled by a method. The method includes producing a pulsed light beam at a pulse repetition rate; directing the pulsed light beam toward a substrate received in a lithography exposure apparatus to expose the substrate to the pulsed light beam; modifying a pulse repetition rate of the pulsed light beam as it is exposing the substrate. The method includes determining an amount of adjustment to a spectral feature of the pulsed light beam, the adjustment amount compensating for a variation in the spectral feature of the pulsed light beam that correlates to the modification of the pulse repetition rate of the pulsed light beam. The method includes changing the spectral feature of the poised light beam by the determined adjustment amount as the substrate is exposed to thereby compensate for the variation in the spectral feature.

Abstract translation: 由光源产生的脉冲光束的光谱特征由方法控制。 该方法包括以脉冲重复率产生脉冲光束; 朝向在光刻曝光设备中接收的衬底引导脉冲光束以将衬底暴露于脉冲光束; 修改脉冲光束在曝光衬底时的脉冲重复率。 该方法包括确定对脉冲光束的光谱特征的调整量，该调整量补偿与脉冲光束的脉冲重复率的修改相关的脉冲光束的光谱特征的变化。 该方法包括在曝光衬底时将稳定光束的光谱特征改变确定的调整量，从而补偿光谱特征的变化。

公开(公告)号：WO2017112060A1

公开(公告)日：2017-06-29

申请号：PCT/US2016/057552

申请日：2016-10-18

Applicant: CYMER, LLC ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： THORNES, Joshua, Jon ,  AGGARWAL, Tanuj ,  O'BRIEN, Kevin, Michael ,  EVERTS, Frank ,  GODFRIED, Herman, Phillip ,  BURDT, Russell, Allen

IPC: G01J1/42 ,  G01J3/28 ,  G03F7/20 ,  H01S3/13

CPC classification number: G01J11/00 ,  G01J1/0228 ,  G01J1/0448 ,  G01J1/4257 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0014 ,  H01S3/10046 ,  H01S3/10069

Abstract: Online calibration of laser performance as a function of the repetition rate at which the laser is operated is disclosed. The calibration can be periodic and carried out during a scheduled during a non-exposure period. Various criteria can be used to automatically select the repetition rates that result in reliable in-spec performance. The reliable values of repetition rates are then made available to the scanner as allowed values and the laser/scanner system is then permitted to use those allowed repetition rates.

Abstract translation: 公开了作为激光器工作重复频率的函数的在线校准激光器性能。 校准可以是周期性的，并且在非暴露期间的计划期间进行。 可以使用各种标准来自动选择导致可靠规格性能的重复率。 重复频率的可靠值然后被提供给扫描仪，因为允许的值和激光/扫描仪系统然后被允许使用那些允许的重复率。

公开(公告)号：WO2017074794A1

公开(公告)日：2017-05-04

申请号：PCT/US2016/057981

申请日：2016-10-20

Applicant: CYMER, LLC (A NEVADA COMPANY)

Inventor： AGGARWAL, Tanuj

IPC: F16L35/00 ,  G02B21/00 ,  G02F1/35 ,  G03B27/54 ,  G03F7/20 ,  G05F1/40 ,  G06F17/10

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70558

Abstract: A lithography system includes an optical source configured to emit a pulsed light beam; a lithography apparatus including an optical system, the optical system being positioned to receive the pulsed light beam from the optical source at a first side of the optical system and to emit the pulsed light beam at a second side of the optical system; and a control system coupled to the optical source and the optical lithography apparatus, the control system configured to: receive an indication of an amount of energy in the pulsed light beam at the second side of the optical system, determine an energy error, access art initial control sequence, the initial control sequence being associated with the optical source, determine a second control sequence based on the determined energy error and the initial control sequence, and apply the second control sequence to the optical source.

Abstract translation: 光刻系统包括被配置为发射脉冲光束的光源; 光刻设备，其包括光学系统，所述光学系统被定位成在所述光学系统的第一侧接收来自所述光源的所述脉冲光束并且在所述光学系统的第二侧处发射所述脉冲光束; 以及耦合到所述光源和所述光刻设备的控制系统，所述控制系统被配置为：接收所述光学系统的所述第二侧处的所述脉冲光束中的能量的量的指示，确定能量误差，存取艺术 初始控制序列，初始控制序列与光源相关联，基于所确定的能量误差和初始控制序列确定第二控制序列，并将第二控制序列应用于光源。

公开(公告)号：WO2016051518A1

公开(公告)日：2016-04-07

申请号：PCT/JP2014/076119

申请日：2014-09-30

Applicant: ギガフォトン株式会社

Inventor： 若林　理 ,  岡崎　信次 ,  鈴木　章義

IPC: H01S3/13 ,  H01L21/027 ,  H01S3/30

CPC classification number: H01S3/08009 ,  G02B17/0621 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/70558 ,  H01L21/027 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/0903 ,  H01S3/11

Abstract: 　本開示による光源システムは、露光装置に向けてパルスレーザ光を出力する自由電子レーザ装置と、自由電子レーザ装置と露光装置との間の光路上に配置され、パルスレーザ光をビーム断面内の位置に応じて遅延量が変化するように遅延させる遅延光学系とを備えてもよい。

Abstract translation: 该光源系统可以设置有：朝向曝光装置输出脉冲激光的自由电子激光装置; 以及延迟光学系统，其设置在自由电子激光装置和曝光装置之间的光路上，并延迟脉冲激光，使得延迟量对应于光束横截面内的位置而变化。

公开(公告)号：WO2015125827A1

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：PCT/JP2015/054451

申请日：2015-02-18

Applicant: 株式会社ニコン

Inventor： 稲葉　直人 ,  徳久　章

IPC: G02F1/03 ,  G02F1/37 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01S3/00 ,  H01S3/10

CPC classification number: H01S3/0085 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041

Abstract: 　パルス光の発生方法は、レーザ光源から出力されたレーザ光を強度変調型の電気光学変調器により切り出してパルス光を発生させるパルス光の発生方法であって、電気光学変調器に印加する電圧を、電気光学変調器を透過するレーザ光の透過率が極大となるときの電気光学変調器への印加電圧を基準電圧として、基準電圧より低い電圧と高い電圧との間で変化させる駆動信号を用いて電気光学変調器を駆動して、パルス光を発生させる。

Abstract translation: 一种脉冲光产生方法，其通过使用强度调制电光调制器来产生脉冲光，以切割从激光光源输出的激光。 脉冲光产生方法通过使用驱动信号驱动电光调制器来产生脉冲光，该驱动信号使施加到电光调制器的电压在低于参考电压的电压和高于参考电压的电压 参考电压是当通过电光调制器透射的激光的透射率最大时施加到电光调制器的电压。

公开(公告)号：WO2015124270A1

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：PCT/EP2015/000273

申请日：2015-02-10

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： DEGÜNTHER, Markus ,  DAVYDENKO, Vladimir ,  KORB, Thomas ,  EISENMENGER, Johannes

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116

Abstract: Ein Beleuchtungssystem einer lithographischen Projektionsbelichtungsanlage (12) umfasst eine Lichtquelle (LS; LS 1, LS 2), die zur Erzeugung einer Abfolge von Lichtpulsen (42-1 bis 42-3; 42-1, 42-2, 52-1, 52-2) eingerichtet ist. Ferner umfasst das Beleuchtungssystem ein Array (28) von optischen Elementen (32), die zwischen zwei Schaltstellungen digital umschaltbar sind. Eine Steuereinrichtung (34) steuert die optischen Elemente (32) so an, dass sie nur zwischen zwei aufeinander folgenden Lichtpulsen ihre Schaltstellung ändern und während der Lichtpulse ihre Schaltstellung beibehalten.

Abstract translation: 光刻投射曝光设备（12）的一种照明系统，包括光源（LS; LS 1，LS 2）（用于产生光脉冲的42-1到42-3的序列; 52-1 42-1，42-2，52 -2）被设置。 此外，该照明系统包括光学元件（32），其被两个切换位置之间切换的数字的阵列（28）。 控制器（34）控制所述光学元件（32）以这样的方式使得它们仅改变两个连续的光脉冲和光脉冲之间它们的开关位置，同时保持他们的切换位置。

公开(公告)号：WO2015045102A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：PCT/JP2013/076286

申请日：2013-09-27

Applicant: ギガフォトン株式会社

Inventor： 黒澤　義明 ,  川筋　康文

IPC: H01S3/23 ,  H01L21/027 ,  H05G2/00

CPC classification number: H01S3/2316 ,  G03F7/70041 ,  H01S3/005 ,  H01S3/034 ,  H01S3/10061 ,  H01S3/107 ,  H01S3/2232 ,  H01S2301/02 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: 　本開示の一例は、レーザ装置である。レーザ装置は、パルスレーザ光を出力するマスタオシレータと、マスタオシレータから出力されたパルスレーザ光の光路上に配置され、パルスレーザ光を順次増幅する複数の光増幅器とを含んでもよい。レーザ装置は、さらに、パルスレーザ光を通過させ複数の光増幅器のいずれかで発生した自励発振光を反射する光反射体と、光反射体によって反射された自励発振光を受光し吸収する光吸収体と、を含んでもよい。

Abstract translation: 本发明的一个实例是激光装置。 激光装置可以包含发射脉冲激光束的主振荡器和设置在由主振荡器发射的脉冲激光束的光路中并顺序地放大脉冲激光束的多个光放大器。 激光装置可以另外包含光反射器，其允许脉冲激光束通过其并且反射在多个光放大器中的任一个处产生的自激光;以及光吸收器，其接收和吸收由所述多个光放大器反射的自振荡光 光反射器。

公开(公告)号：WO2009150871A1

公开(公告)日：2009-12-17

申请号：PCT/JP2009/053632

申请日：2009-02-27

Applicant: 株式会社ニコン ,  谷津 修

Inventor： 谷津 修

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/70041

Abstract: 　瞳強度分布のむらの影響を軽減する。パルス光を供給する光源装置からの複数のパルス光ＩＬを用いてパターンを照明し、このパターンを介した前記複数のパルス光で基板を露光する露光装置は、二次元的に配列されて個別に制御される複数の光学要素３を有し、入射した光に空間的な光変調を付与して射出する空間光変調器１３と；空間光変調器１３を介した光に基づいて所定面に瞳強度分布を形成する瞳強度分布形成光学系１４と；複数の光学要素３の状態を個別に制御駆動する光学要素駆動部（４，３１）と；を備える。光学要素駆動部（４，３１）は、基板Ｗ上の被露光領域の各点に露光される複数のパルス光の最小パルス数が発光される間に、複数の光学要素３の状態を変化させる。

Abstract translation: 瞳孔强度分布不均匀的影响减小。 一种用于通过使用来自用于提供脉冲光的光源装置的多个脉冲光束（IL）照射图案并将衬底暴露于通过该图案入射的多个脉冲光束的曝光装置配备有多个光学元件（3） 是二维排列和单独控制的。 该曝光装置设置有用于对入射光进行空间光调制并发射所得光的空间光调制器（13），用于在基础上在预定表面上形成瞳孔强度分布的瞳孔强度分布形成光学系统（14） 通过空间光调制器（13）入射的光;以及光学元件驱动单元（4,31），用于分别控制和驱动多个光学元件（3）的状态。 光学元件驱动单元（3,41）在发光期间改变多个光学元件（3）的状态，所述多个脉冲光束的最小数量的脉冲将被暴露于基板上的区域的各个点（ W）暴露。

公开(公告)号：WO2009104059A1

公开(公告)日：2009-08-27

申请号：PCT/IB2008/051798

申请日：2008-02-19

Applicant: NANO-UV ,  CHOI, Peter

Inventor： CHOI, Peter

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00 ,  G21K1/00

CPC classification number: G03F7/70391 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70208

Abstract: The invention concerns a device (10) for generating an output radiation through an output aperture (5), said device (10) comprising a plurality of radiation sources (11-14) and a temporal multiplexer (15) for temporally- multiplexing the radiation sources (11-14). Each radiation source comprises a plasma (211) in which an elementary radiation is generated and in which rays of this elementary radiation are selectively deviated as a function of their wavelength. Such sources have a small size and a small etendue. The device can comprise for example one hundred or more radiation sources. Each radiation source can be used to generate a dynamically modified radiation pattern (24, 25, 26), or as a reserve source that replaces a broken down source, or as a supportive source that generates a radiation only if the power of the output radiation is lower than a minimum threshold value. The invention also relates to a process implemented by said device, and to a photolithography apparatus comprising said device.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于通过输出孔（5）产生输出辐射的装置（10），所述装置（10）包括多个辐射源（11-14）和时间多路复用器（15），用于对辐射进行时间复用 来源（11-14）。 每个辐射源包括等离子体（211），其中产生基本辐射，并且其中该基本辐射的光线被选择性地偏离其作为其波长的函数。 这些来源具有体积小，硬度小的特点。 该装置可以包括例如一百个或更多个辐射源。 每个辐射源可以用于生成动态修改的辐射图（24,25,26），或者作为替代分解源的备用源，或者作为仅在输出辐射的功率产生辐射的支持源 低于最小阈值。 本发明还涉及由所述装置实现的方法以及包括所述装置的光刻装置。

公开(公告)号：WO2006060361A3

公开(公告)日：2009-04-16

申请号：PCT/US2005043059

申请日：2005-11-28

Applicant: CYMER INC ,  TRINTCHOUK FEDOR B ,  JACQUES ROBERT N

Inventor： TRINTCHOUK FEDOR B ,  JACQUES ROBERT N

IPC: H01S3/22 ,  H01S3/223

CPC classification number: H01S3/1055 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70041 ,  H01S3/08072 ,  H01S3/097 ,  H01S3/10069 ,  H01S3/225

Abstract: A gas discharge laser system bandwidth control mechanism and method of operation for controlling bandwidth in a laser output light pulse generated in the gas discharge laser system is disclosed which may comprise a bandwidth controller which may comprise an active bandwidth adjustment mechanism; a controller actively controlling the active bandwidth adjustment mechanism utilizing an algorithm implementing bandwidth thermal transient correction based upon a model of the impact of laser system operation on the wavefront of the laser light pulse being generated and line narrowed in the laser system as it is incident on the bandwidth adjustment mechanism. The controller algorithm may comprises a function of the power deposition history in at least a portion of an optical train of the gas discharge laser system, e.g., a linear function, e.g., a combination of a plurality of decay functions each comprising a respective decay time constant and a respective coefficient.

Abstract translation: 公开了一种气体放电激光器系统带宽控制机构和用于控制在气体放电激光器系统中产生的激光输出光脉冲中的带宽的操作方法，其可以包括带宽控制器，其可以包括有源带宽调整机构; 控制器主动地控制有源带宽调整机制，利用实现带宽热瞬变校正的算法，该算法基于激光系统操作对激光系统中产生的激光光脉冲的波前的影响的模型，并且在激光系统中入射时产生线窄 带宽调整机制。 控制器算法可以包括在气体放电激光系统的光学系列的至少一部分中的功率沉积历史的功能，例如线性函数，例如多个衰减函数的组合，每个衰减函数包括相应的衰减时间 常数和相应的系数。