公开(公告)号：WO2006059377A1

公开(公告)日：2006-06-08

申请号：PCT/JP2004/017810

申请日：2004-11-30

Applicant: スパンション エルエルシー ,  Spansion Japan株式会社 ,  高原美香 ,  東亨 ,  豊田重大

Inventor： 高原美香 ,  東亨 ,  豊田重大

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F1/08

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G03F1/44

Abstract: 　本発明は、ウェハと、該ウェハ上に形成されたフォーカスモニタリングパターンとを有し、該フォーカスモニタリングパターンは、少なくとも１対の第１及び第２のパターンを有し、該第１のパターンは露光領域で囲まれた非露光領域を有し、前記第２のパターンは非露光領域で囲まれた露光領域を有する半導体装置である。また、本発明は、露光領域で囲まれた非露光領域を有する第１のパターンと、非露光領域で囲まれた露光領域を有する第２のパターンとの対を少なくとも１つ有するフォーカスモニタリングパターンをウェハ上に形成するステップと、前記形成された第１及び第２のパターンの夫々の幅を計測することで、露光のフォーカス状態をチェックするステップとを有する半導体装置の製造方法である。

Abstract translation: 半导体器件设置有晶片和形成在晶片上的聚焦监视图案。 焦点监视图案具有至少一对第一图案和第二图案，并且第一图案具有被曝光区域包围的非曝光区域，并且第二图案具有被非曝光区域包围的曝光区域。 一种半导体器件的制造方法，具备形成焦点监视图案的步骤，该图案具有至少一对第一图案，该第一图案具有被曝光区域包围的非曝光区域，并且具有曝光区域的第二图案被包围 通过非曝光区域和通过测量形成的第一和第二图案的每个宽度来检查曝光聚焦状态的步骤。