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公开(公告)号：WO2010013331A1
公开(公告)日：2010-02-04
申请号：PCT/JP2008/063690
申请日：2008-07-30
Inventor： 小林 正規
IPC: G11B7/26 , G03F7/20 , H01J37/04 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC classification number: G11B7/261 , G11B5/855 , H01J37/3023 , H01J37/304 , H01J2237/30455
Abstract: 描画データの描画実行時において、基板への非照射時における電子ビームの照射位置の変動を検出するビーム電流検出器と、当該照射位置の変動に基づいて電子ビームのビーム位置誤差を検出するビーム位置誤差検出器と、描画データの描画実行時におけるステージの回転及び並進駆動による駆動位置誤差を検出する駆動位置誤差検出器と、当該ビーム位置誤差及び当該駆動位置誤差に基づいて描画時の当該電子ビームの照射位置を補正する補正器と、を有する。
Abstract translation: 电子束装置具有：束电流检测器，用于在执行绘图数据绘制时检测在不照射到衬底期间电子束照射的位置的变化;光束位置误差检测器，用于检测光束位置误差 基于照射电子束的位置的变化的电子束，用于在执行绘图数据的绘制时检测由平台的旋转和平移驱动引起的驱动位置误差的驱动位置误差检测器， 以及校正器，用于根据光束位置误差和驱动位置误差校正在绘制期间电子束照射的位置。
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公开(公告)号：WO2008117358A1
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：PCT/JP2007/055897
申请日：2007-03-22
Inventor： 小林 正規
IPC: G03F7/20 , H01J37/04 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B7/00456 , G11B7/261 , H01J37/3045 , H01J2237/043 , H01J2237/24507 , H01J2237/3045 , H01J2237/30455
Abstract: 描画の実行時において、基板への非照射時における電子ビームのビーム電流を検出するビーム電流検出器と、上記ビーム電流に基づいて電子ビームの変動値を算出する変動値算出器と、上記変動値に基づいて描画時の電子ビーム変動を補正する補正器と、を有している。
Abstract translation: 一种电子束装置，其特征在于，具有用于当进行绘制时检测未照射衬底的电子束的束电流的光束电流检测器，用于根据束电流计算电子束波动值的波动值计算器， 以及校正器，用于根据波动值修正进行绘图时的电子束波动。
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公开(公告)号：WO2008114422A1
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：PCT/JP2007/055690
申请日：2007-03-20
Inventor： 小林 正規
IPC: G03F7/20 , G11B7/09 , G11B7/26 , G21K5/04 , H01J37/04 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174
Abstract: ビームの照射位置変動を測定する照射位置測定部と、ビームの当該照射位置変動を生じさせる外乱の変動を測定する外乱測定部と、当該照射位置変動と当該外乱の変動との間の周波数伝達特性を格納する伝達特性格納部と、当該外乱の変動及び前記周波数伝達特性に基づいて当該照射位置変動を推定して照射位置変動推定値を得る照射位置推定部と、当該照射位置変動推定値に基づいてビームの照射位置を補正するビーム照射位置調整部と、を有している。
Abstract translation: 光束拉制装置设置有用于测量光束照射位置的波动的照射位置测量单元，用于测量波束照射位置的扰动波动的干扰测量单元，用于存储频率传递特性的传送特性存储单元 在干扰波动与光束照射位置的波动之间，照射位置估计单元，用于根据扰动的波动和频率传递特性估计光束照射位置的波动，以获得光束照射位置估计值;以及 光束照射位置调整单元，用于根据光束照射位置估计值校正光束照射位置。
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