金属酸化膜の成膜方法および金属酸化膜の成膜装置
    3.
    发明申请
    金属酸化膜の成膜方法および金属酸化膜の成膜装置 审中-公开
    金属氧化物膜的制造方法,以及氧化铝膜的制造装置

    公开(公告)号:WO2010035313A1

    公开(公告)日:2010-04-01

    申请号:PCT/JP2008/067164

    申请日:2008-09-24

    CPC classification number: C23C16/482 C23C16/407 C23C16/452 C23C16/45523

    Abstract:  本発明は、基板の加熱処理の低温化が可能であり、成膜される金属酸化膜の種類が限定されること無く、かつ抵抗値の低い金属酸化膜を成膜することができる金属酸化膜の成膜方法を提供することを目的とする。そして、本発明に係る金属酸化膜の成膜方法では、(A)金属を含む溶液(4,8)をミスト化させる工程と、(B)基板(2)を加熱する工程と、(C)加熱中の基板の第一の主面上に、ミスト化された溶液とオゾンとを供給する工程とを、備えている。

    Abstract translation: 公开了一种用于制造金属氧化物膜的方法,其中可以减少用于加热基材的温度,这使得能够生产任何类型的金属氧化物膜,并且能够生产具有低电阻率的金属氧化物膜 值。 具体公开了一种金属氧化物膜的制造方法,其特征在于,包括以下工序:(A)产生含金属溶液(4,8)的雾状物。 (B)加热基材(2); 和(C)在加热基材的同时将溶液和臭氧的雾供给到基材的第一主表面上。

    成膜装置
    5.
    发明申请
    成膜装置 审中-公开
    电影制作装置

    公开(公告)号:WO2004024982A1

    公开(公告)日:2004-03-25

    申请号:PCT/JP2003/011599

    申请日:2003-09-10

    CPC classification number: C23C16/45574

    Abstract: ガス噴出ヘッドの各ノズルからのガス噴出状態が適正化された成膜装置を提供する。 処理空間1内のガス噴出ヘッド7には、被処理物5側に面するヘッド面8に各処理ガスを独立して噴出させる噴出部9がそれぞれ多数設けられ、ガス噴出ヘッド7は、各処理ガス毎の導入側流路16A,17B,18Cをそれぞれ有し、各処理ガス毎に対応して存在する流路部材10A,11B,12Cから構成されるとともに、上記各流路部材がヘッド面8に実質的に沿う方向で分離した積層構造を呈しており、各流路部材10A,11B,12Cのノズル側流路19A,20B,21Cからそれぞれの処理ガスに対応するノズルに対して処理ガスが供給されるように構成されている。これにより、各処理ガスが独立した流路を経て被処理物5に噴射され、良好な品質の成膜が形成される。

    Abstract translation: 一种成膜装置,其中气体喷射头中的每个喷嘴的气体的注入状态是适当的。 处理空间(1)中的气体注入头(7)包括安装在面向处理对象(5)的头表面(8)中的多个出口部分(9),用于独立地注入单独的处理气体,流动通道(16A, 17B,18C)和对应于各个加工气体的流路部件(10A,11B,12C),所述流动通道部件提供层叠结构,其中它们在基本上沿着头部表面的方向上分离( 8),以使处理气体从流路部件(10A,11B,12C)的喷嘴侧流路(19A,20B,21C)供给到与处理气体对应的喷嘴中。 由此,各处理气体通过独立流路向处理对象物(5)注入,从而获得良好质量的成膜。

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