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公开(公告)号:WO2010122629A1
公开(公告)日:2010-10-28
申请号:PCT/JP2009/057858
申请日:2009-04-20
Applicant: 東芝三菱電機産業システム株式会社 , 国立大学法人京都大学 , 織田 容征 , 白幡 孝洋 , 吉田 章男 , 藤田 静雄 , 亀山 直季
IPC: C23C16/40 , C23C16/448
CPC classification number: C23C16/407 , C23C16/405 , C23C16/448 , C23C16/4486
Abstract: 本発明は、成膜される金属酸化膜の低抵抗を維持しながら、生産効率をより向上することができる金属酸化膜の成膜方法を提供することを目的とする。そして、本発明に係る金属酸化膜の成膜方法では、金属元素およびアンモニア(4a)を含む溶液(4)をミスト化する。一方で、基板(2)を加熱する。そして、当該加熱中の基板(2)の第一の主面上に、ミスト化された溶液(4)を供給する。
Abstract translation: 公开了一种形成金属氧化物膜的方法,其可以进一步提高生产效率,同时保持由此形成的金属氧化物的低电阻。 在形成金属氧化物膜的方法中,将含有金属元素和氨(4a)的溶液(4)转化为雾,同时加热基板(2),然后将已经转化为 雾被供应到加热的基底(2)的第一主表面上。
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公开(公告)号:WO2010122630A1
公开(公告)日:2010-10-28
申请号:PCT/JP2009/057859
申请日:2009-04-20
Applicant: 東芝三菱電機産業システム株式会社 , 国立大学法人京都大学 , 白幡 孝洋 , 織田 容征 , 吉田 章男 , 藤田 静雄 , 亀山 直季
CPC classification number: H01C7/112 , H01C7/1006
Abstract: 本発明は、酸化亜鉛膜から成る酸化亜鉛バリスタを、簡単な工程および低製造コストにて作成することができる、酸化亜鉛バリスタの製造方法を提供することを目的とする。そして、本発明は、加熱中の基板(2)に、ミスト化された亜鉛を含む溶液(4)を供給することにより、基板(2)上に酸化亜鉛膜(9)を成膜する。そして、当該酸化亜鉛膜(9)に電極(11a,13a)を配設することにより、酸化亜鉛バリスタ(50)を作成する。
Abstract translation: 公开了一种制造氧化锌非线性电阻的方法,其可以通过简单的工艺以低生产成本生产由氧化锌膜构成的氧化锌变阻器。 具体地,通过将含有雾化锌的溶液(4)供给到加热的基板(2)上,在基板(2)上形成氧化锌膜(9)。 然后,氧化锌膜(9)设置有电极(11a,13a),由此形成氧化锌非线性电阻(50)。
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公开(公告)号:WO2010035313A1
公开(公告)日:2010-04-01
申请号:PCT/JP2008/067164
申请日:2008-09-24
IPC: C23C16/40
CPC classification number: C23C16/482 , C23C16/407 , C23C16/452 , C23C16/45523
Abstract: 本発明は、基板の加熱処理の低温化が可能であり、成膜される金属酸化膜の種類が限定されること無く、かつ抵抗値の低い金属酸化膜を成膜することができる金属酸化膜の成膜方法を提供することを目的とする。そして、本発明に係る金属酸化膜の成膜方法では、(A)金属を含む溶液(4,8)をミスト化させる工程と、(B)基板(2)を加熱する工程と、(C)加熱中の基板の第一の主面上に、ミスト化された溶液とオゾンとを供給する工程とを、備えている。
Abstract translation: 公开了一种用于制造金属氧化物膜的方法,其中可以减少用于加热基材的温度,这使得能够生产任何类型的金属氧化物膜,并且能够生产具有低电阻率的金属氧化物膜 值。 具体公开了一种金属氧化物膜的制造方法,其特征在于,包括以下工序:(A)产生含金属溶液(4,8)的雾状物。 (B)加热基材(2); 和(C)在加热基材的同时将溶液和臭氧的雾供给到基材的第一主表面上。
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4.酸化亜鉛膜(ZnO)または酸化マグネシウム亜鉛膜(ZnMgO)の成膜方法および酸化亜鉛膜または酸化マグネシウム亜鉛膜の成膜装置 审中-公开
Title translation: 氧化锌(ZnO)薄膜或氧化镁(ZnMgO)薄膜的制造方法,氧化锌薄膜或氧化镁薄膜的制造方法公开(公告)号:WO2010035312A1
公开(公告)日:2010-04-01
申请号:PCT/JP2008/067159
申请日:2008-09-24
Applicant: 東芝三菱電機産業システム株式会社 , 白幡 孝洋 , 織田 容征 , 吉田 章男 , 小倉 正久
IPC: C23C16/40
CPC classification number: C23C16/4486 , C23C16/407 , C23C16/452 , C23C16/45523 , C23C16/482 , C23C18/12 , C23C18/1216 , C23C18/1279 , C23C18/1291 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/0262 , H01L21/02628
Abstract: 本発明は、透過率の高い酸化亜鉛膜または酸化マグネシウム亜鉛膜の成膜方法を提供することを目的とする。そして、本発明に係る酸化亜鉛膜または酸化マグネシウム亜鉛膜の成膜方法では、(A)亜鉛または亜鉛とマグネシウムを含む溶液(4,8)をミスト化させる工程と、(B)基板(2)を加熱する工程と、(C)加熱中の基板の第一の主面上に、ミスト化された溶液とオゾンとを供給する工程とを、備えている。
Abstract translation: 公开了一种具有高导磁率的氧化锌膜或氧化锌镁膜的制造方法。 具体公开了一种氧化锌膜或氧化镁锌膜的制造方法,其特征在于,包括以下工序:(A)产生含有锌或锌两者的溶液(4,8)的雾状物; (B)加热基材(2); 和(C)在加热基材的同时将溶液和臭氧的雾供给到基材的第一主表面上。
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公开(公告)号:WO2004024982A1
公开(公告)日:2004-03-25
申请号:PCT/JP2003/011599
申请日:2003-09-10
Applicant: エア・ウォーター株式会社 , 稲垣 徹 , 山本 和馬 , 横山 敬志 , 白幡 孝洋
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45574
Abstract: ガス噴出ヘッドの各ノズルからのガス噴出状態が適正化された成膜装置を提供する。 処理空間1内のガス噴出ヘッド7には、被処理物5側に面するヘッド面8に各処理ガスを独立して噴出させる噴出部9がそれぞれ多数設けられ、ガス噴出ヘッド7は、各処理ガス毎の導入側流路16A,17B,18Cをそれぞれ有し、各処理ガス毎に対応して存在する流路部材10A,11B,12Cから構成されるとともに、上記各流路部材がヘッド面8に実質的に沿う方向で分離した積層構造を呈しており、各流路部材10A,11B,12Cのノズル側流路19A,20B,21Cからそれぞれの処理ガスに対応するノズルに対して処理ガスが供給されるように構成されている。これにより、各処理ガスが独立した流路を経て被処理物5に噴射され、良好な品質の成膜が形成される。
Abstract translation: 一种成膜装置,其中气体喷射头中的每个喷嘴的气体的注入状态是适当的。 处理空间(1)中的气体注入头(7)包括安装在面向处理对象(5)的头表面(8)中的多个出口部分(9),用于独立地注入单独的处理气体,流动通道(16A, 17B,18C)和对应于各个加工气体的流路部件(10A,11B,12C),所述流动通道部件提供层叠结构,其中它们在基本上沿着头部表面的方向上分离( 8),以使处理气体从流路部件(10A,11B,12C)的喷嘴侧流路(19A,20B,21C)供给到与处理气体对应的喷嘴中。 由此,各处理气体通过独立流路向处理对象物(5)注入,从而获得良好质量的成膜。
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