公开(公告)号：WO2006112436A1

公开(公告)日：2006-10-26

申请号：PCT/JP2006/308040

申请日：2006-04-17

Applicant: 株式会社ニコン ,  長坂 博之 ,  白石 健一 ,  藤原 朋春 ,  大和 壮一 ,  三輪 晃弘

Inventor： 長坂 博之 ,  白石 健一 ,  藤原 朋春 ,  大和 壮一 ,  三輪 晃弘

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70891

Abstract: 　露光装置は、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を第１液体（ＬＱ）で満たして液浸空間を形成する液浸空間形成部材（７０）と、液浸空間の形成の解除に伴う液浸空間形成部材（７０）の温度変化を抑制する温度調整機構（６０）とを備える。

Abstract translation: 曝光装置包括：通过用第一液体（LQ）填充曝光光（EL）的光路空间（K1）来形成液浸空间的液浸空间形成部件（70） 以及用于抑制伴随液浸空间的形成的释放的液浸空间形成部件（70）的温度变化的温度调节机构（60）。

公开(公告)号：WO2003030229A1

公开(公告)日：2003-04-10

申请号：PCT/JP2002/009954

申请日：2002-09-26

Applicant: 株式会社ニコン ,  大和 壮一 ,  長坂 博之

Inventor： 大和 壮一 ,  長坂 博之

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70883

Abstract: An aligner in which light absorbing substances can be removed appropriately from the space between a projection optical system and a substrate without having any effect on the peripheral apparatus. The aligner has a gas supply port for supplying an energy-beam-permeable gas to the space between the projection optical system and the substrate, and an exhaust port provided on the outside of the gas supply port while being directed toward the space and discharging a gas containing the permeable gas from the space at a rate higher than the supply rate of the permeable gas.

Abstract translation: 可以从投影光学系统和基板之间的空间适当地去除光吸收物质而不对外围设备产生任何影响的对准器。 对准器具有用于向投影光学系统和基板之间的空间提供能量透过性气体的气体供给口，以及设置在气体供给口的外侧并朝向该空间排出的排气口 以比可渗透气体的供给速率高的速度从空间容纳可渗透气体的气体。

公开(公告)号：WO2006013806A1

公开(公告)日：2006-02-09

申请号：PCT/JP2005/014011

申请日：2005-08-01

Applicant: 株式会社ニコン ,  大和 壮一 ,  長坂 博之 ,  菅原 龍

Inventor： 大和 壮一 ,  長坂 博之 ,  菅原 龍

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

Abstract: 　露光装置ＥＸは投影光学系ＰＬを備えており、投影光学系ＰＬは投影光学系ＰＬの像面に最も近い第１光学素子ＬＳ１を有している。露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬの像面側に設けられた透明部材６４の上面６５と第１光学素子ＬＳ１との間に第１液体ＬＱ１の第１液浸領域ＬＲ１を形成する第１液浸機構１と、第１液浸領域ＬＲ１の状態を観察する観察装置６０とを備えている。液体の液浸領域の状態を把握して、最適な液浸露光を実行することができる。

Abstract translation: 曝光设备（EX）设置有投影光学系统（PL），并且投影光学系统（PL）具有最靠近投影光学系统（PL）的图像表面的第一光学元件（LS1）。 曝光设备（EX）设置有第一浸液机构（1），该第一浸液机构（1）在设置在透明构件（64）的上平面（65）之间形成第一液体（LQ1）的第一浸液区域（LR1） 在投影光学系统（PL）和第一光学元件（LS1）的像面侧，设置有用于观察第一液浸区域（LR1）的状态的观察装置（60）。 可以通过掌握液体的液浸区域的状态来进行最佳的浸没曝光。

公开(公告)号：WO2005024921A1

公开(公告)日：2005-03-17

申请号：PCT/JP2004/013190

申请日：2004-09-03

Applicant: 株式会社ニコン ,  長坂 博之 ,  大和 壮一

Inventor： 長坂 博之 ,  大和 壮一

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/709

Abstract: ステージに保持された基板Wにマスクの像を投影する投影光学系を有し、この投影光学系と上記ステージとの間に特定ガス雰囲気を形成するための雰囲気形成機構70,71を備える露光装置において、上記雰囲気形成機構70,71は、上記ステージもしくは上記基板Wと接触したことに起因する力をやわらげ、この力が上記投影光学系PLに伝達するのを抑制する緩衝部71a,71bを有する。このような構成により、ステージもしくは基板Wと雰囲気形成機構70,71とが接触することに起因する力が投影光学系PLに伝達されることによって生じる投影光学系PLの損傷を防止することができる。

Abstract translation: 曝光装置具有投影光学系统，用于在保持在平台上的基板（W）和用于在投影光学系统和平台之间形成特定气体气氛的气氛形成机构（70,71）之间投影掩模的图像。 气氛形成机构（70,71）具有缓冲由台阶或基板（W）与气氛形成机构（70,71）之间的接触引起的力的缓冲部（71a，71b），并且限制力被传递到 投影光学系统（PL）。 上述结构能够防止投影光学系统（PL）的损坏，由于由台架或基板（W）与气氛形成机构（70,71）之间的接触引起的力产生的损坏。

公开(公告)号：WO2004086468A1

公开(公告)日：2004-10-07

申请号：PCT/JP2004/002295

申请日：2004-02-26

Applicant: 株式会社ニコン ,  長坂 博之 ,  大和 壮一 ,  西井 康文

Inventor： 長坂 博之 ,  大和 壮一 ,  西井 康文

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/708 ,  G03F7/7095

Abstract: An exposure apparatus (EX) exposes a substrate (P) by projecting an image of a predetermined pattern on the substrate through a liquid (1). The exposure apparatus has a projection optical system for the projection and a liquid-feeding mechanism (10) for feeding a liquid on to the substrate to form a liquid-immersed region (AR2) on part of the substrate. The liquid-feeding mechanism feeds the liquid (1) on to the substrate (P). The feeding is simultaneously made at positions away to different directions from a projection region (AR1). The exposure apparatus has capability of stably forming the liquid-immersed region and of excellently recovering the liquid, so that outflow of the liquid to the periphery of the region is prevented and accurate exposure is performed.

Abstract translation: 曝光装置（EX）通过液体（1）将预定图案的图像投影到基板上来曝光基板（P）。 曝光装置具有用于投影的投影光学系统和用于将液体供给到基板上的液体供给机构（10），以在基板的一部分上形成液浸区域（AR2）。 液体供给机构将液体（1）送入基板（P）。 在距离投影区域（AR1）不同方向的位置同时进行进给。 曝光装置具有稳定地形成液浸区域并且良好地回收液体的能力，从而防止液体流出到该区域的周边并进行精确的曝光。

公开(公告)号：WO2005124833A1

公开(公告)日：2005-12-29

申请号：PCT/JP2005/011305

申请日：2005-06-21

Applicant: 株式会社ニコン ,  長坂 博之 ,  白石 健一 ,  大和 壮一 ,  蛭川 茂

Inventor： 長坂 博之 ,  白石 健一 ,  大和 壮一 ,  蛭川 茂

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70925

Abstract: 　露光装置ＥＸＳは、投影光学系ＰＬの像面側に液体ＬＱの液浸領域ＡＲ２を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域ＡＲ２の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸＳが有する光洗浄装置８０は、液浸領域ＡＲ２を形成するための液体ＬＱに接触する基板ステージＰＳＴの上面３１などに光洗浄効果を有する所定の照射光Ｌｕを照射する。液浸領域の液体に接触する部材の汚染に起因する露光精度及び計測精度の劣化を防止できる。

Abstract translation: 曝光装置EXS在投影光学系统PL的像面侧形成液体LQ的浸渍区域AR2，经由投影光学系统PL和浸渍区域AR2的液体LQ进行基板P的曝光。 曝光装置EXS具有光学清洁装置（80），该光学清洁装置（80）将用于衬底载台PST的上表面（31）的具有光学清洁效果的预定照射光Lu施加到用于形成浸没区域AR2的液体LQ。 因此，可以防止由于与浸没区域中的液体接触的部件的污染而引起的曝光精度和测量精度的劣化。

公开(公告)号：WO2004112108A1

公开(公告)日：2004-12-23

申请号：PCT/JP2004/008578

申请日：2004-06-11

Applicant: 株式会社ニコン ,  大和 壮一 ,  馬込 伸貴 ,  蛭川 茂 ,  工藤 芳彦 ,  井上 次郎 ,  河野 博高 ,  根井 正洋 ,  今井 基勝 ,  長坂 博之 ,  白石 健一 ,  西井 康文 ,  高岩 宏明

Inventor： 大和 壮一 ,  馬込 伸貴 ,  蛭川 茂 ,  工藤 芳彦 ,  井上 次郎 ,  河野 博高 ,  根井 正洋 ,  今井 基勝 ,  長坂 博之 ,  白石 健一 ,  西井 康文 ,  高岩 宏明

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03B27/58 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716

Abstract: 投影光学系PLと液体1とを介してパターンの像を基板P上に投影することによって基板Pを露光する際、基板Pの側面PB、裏面PCを撥液処理する。このような構成により基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成し、液体の基板ステージ外部への流出を抑えた状態で露光できる露光方法を提供する。

Abstract translation: 公开了一种曝光方法，其中当基板（P）的曝光通过将图案图像投影到基板（P）上进行曝光时，基板（P）的侧表面（PB）和背面（PC） 基板（P）通过投影光学系统（PL）和液体（1）。 因此，在基板的边缘部进行浸渍曝光的情况下，能够充分地形成浸渍区域并进行曝光，同时防止液体从基板台流出。