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Patent Agency Ranking1.发明申请하드마스크 형성용 조성물, 이를 이용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스 审中-公开用于形成HARDMASK的组合物，形成使用其的图案的方法以及包含图案的半导体集成电路装置
公开(公告)号：WO2013100375A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/KR2012/009983
申请日：2012-11-23
Applicant: 제일모직 주식회사
IPC: G03F7/11 , G03F7/004 , G03F7/00 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/094
Abstract: 화학식 1 및 2로 표시되는 반복단위를 포함하는 공중합체 및 용매를 포함하는 하드마스크 형성용 조성물, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 그리고 상기 방법으로 형성된 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及用于形成硬掩模的组合物，其包含溶剂和包含由式1和2表示的重复单元的共聚物，涉及使用其形成图案的方法，以及包括图案的半导体集成电路器件 由该方法形成。
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公开(公告)号：WO2014065500A1
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：PCT/KR2013/007873
申请日：2013-09-02
Applicant: 제일모직 주식회사
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0035 , G03F7/094
Abstract: 화학식 1로 표현되는 중합체, 화학식 2로 표현되는 모노머, 그리고 용매를 포함하고, 상기 모노머는 상기 중합체보다 높은 함량으로 포함되어 있는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种硬掩模组合物及使用其形成图案的方法。 所述硬掩模组合物包括由式1表示的聚合物，由式2表示的单体和溶剂，其中所述单体具有比聚合物更高的含量。
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公开(公告)号：WO2014208978A1
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：PCT/KR2014/005573
申请日：2014-06-24
Applicant: 제일모직 주식회사
IPC: G02B5/04 , G02F1/13357
CPC classification number: G02B6/0053 , G02B5/0231 , G02B5/0278 , G02F2001/133507
Abstract: 본 발명은 제1 광학시트; 상기 제1 광학시트 상에 형성된 제1 프리즘 패턴 및 제2 프리즘 패턴이 형성된 제2 광학시트; 및 상기 제1 광학시트와 제2 광학시트 사이에 형성된 접착층을 포함하되, 상기 제2 광학시트는 시인부, 및 상기 시인부의 적어도 일 가장자리를 둘러싸는 미시인부를 포함하고, 상기 제1 프리즘 패턴은 상기 시인부에 형성되고, 상기 제2 프리즘 패턴은 상기 미시인부에 형성되며, 하기 식 1을 만족하는 복합광학시트에 관한 것이다: [식 1] Aa> Ab 상기 식 1에서 Aa는 제2 광학시트의 단위면적(mm 2 ) 당 제2 프리즘 패턴과 접착층의 접합면적이고, Ab는 제2 광학시트의 단위면적(mm 2 ) 당 제1프리즘 패턴과 접착층의 접합면적이다.
Abstract translation: 复合光学片技术领域本发明涉及一种复合光学片，其包括：第一光学片; 形成在第一光学片上并具有第一和第二棱镜图案的第二光学片; 以及形成在第一和第二光学片之间的粘合层，其中第二光学片包括可见部分和用于封闭可见部分的至少一个边缘的不可见部分，第一棱镜图案形成在可见部分处， 第二棱镜图案形成在不可见部分，并且复合光学片满足下面的公式1。 在式1中，Aa> Ab，Aa是第二棱镜图案和第二光学片的单位面积（mm 2）的粘合层的粘合面积，Ab是第一棱镜图案和粘合剂层的粘合面积 第二光学片的单位面积（mm 2）。
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公开(公告)号：WO2014092507A1
公开(公告)日：2014-06-19
申请号：PCT/KR2013/011604
申请日：2013-12-13
Applicant: 제일모직 주식회사
CPC classification number: G02B5/045 , G02F1/133606
Abstract: 본 발명은 일면에 접착층을 포함하는 제 1 광학시트; 및 상기 접착층의 하부에 형성되고 일면에 광학패턴을 포함하는 제 2 광학시트를 포함하고, 상기 광학패턴은 복수 개의 제 1 프리즘 및 상기 제 1 프리즘보다 높이가 낮은 복수 개의 제 2 프리즘을 포함하고, 상기 제 1 프리즘의 정점은 상기 접착층을 침투하여 상기 접착층 내부에 존재하고, 상기 제 2 프리즘의 정점은 상기 접착층을 침투하여 상기 접착층 내부에 존재하거나 또는 상기 접착층에 접하는 복합광학시트, 및 이를 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.
Abstract translation: 多光导片技术领域本发明涉及一种多导光片，其特征在于，包括：第一光学片，其一面形成有粘接层; 以及第二光学片，其形成在所述粘合剂层的下方并且具有在其一侧上形成的光学图案，其中所述光学图案包括多个第一棱镜和多个第二棱镜，所述第二棱镜的高度低于所述第一棱镜的高度， 的第一棱镜嵌入粘合剂层中，并且第二棱镜的顶点嵌入或接触粘合剂层，以及包括该粘合剂层的液晶显示装置。
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5.发明申请하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 상기 하드마스크 조성물을 사용하는 패턴형성방법 审中-公开HARDMASK组合物的单体，包括单体的HARDMASK组合物和使用HARDMASK组合物的图案形成方法
公开(公告)号：WO2013100365A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/KR2012/009870
申请日：2012-11-21
Applicant: 제일모직 주식회사
CPC classification number: C07C39/14 , B05D1/005 , B05D3/007 , B05D3/0254 , B05D3/06 , C07C39/12 , C07C2603/50 , C07C2603/54 , C09D173/00 , G03F7/004 , G03F7/0752 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/30 , G03F7/36
Abstract: 하기 화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及由化学式1表示的硬掩模组合物单体，包含该单体的硬掩模组合物和使用其的图案形成方法。
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