公开(公告)号：WO2015016492A1

公开(公告)日：2015-02-05

申请号：PCT/KR2014/005882

申请日：2014-07-02

Applicant: 주식회사 유진테크

Inventor： 송병규 ,  김용기 ,  김경훈 ,  김창돌 ,  신양식 ,  양일광 ,  신창훈 ,  김은덕

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/45559 ,  C23C16/45504

Abstract: 본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는, 일측에 형성된 통로를 통해 기판이 이송되며, 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 내부공간을 제공하는, 그리고 상기 내부공간에 가스를 공급하는 공급포트가 상기 통로의 반대측에 형성된 챔버; 상기 내부공간에 설치되며, 상기 기판이 상부에 놓여지는 서셉터; 그리고 상기 공급포트에 인접하도록 상기 서셉터와 상기 챔버의 측벽 사이에 설치되며, 상기 공급포트를 통해 공급된 상기 가스를 확산하는 복수의 확산홀들을 가지는 확산부재를 포함한다.

Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，一种基板处理装置包括：一个室，其中基板通过一侧形成的路径被转移，提供内部空间，在该内部空间中执行基板的处理，并且具有供给端口 其向形成在路径的相对侧的内部空间供给气体; 设置在内部空间中并且其中基板位于其上部的基座; 以及扩散构件，其设置在所述基座和所述腔室的侧壁之间，以便邻近所述供给口并且具有多个用于扩散通过所述供应口供应的气体的扩散孔。

公开(公告)号：WO2015178687A1

公开(公告)日：2015-11-26

申请号：PCT/KR2015/005066

申请日：2015-05-20

Applicant: 주식회사 유진테크

Inventor： 현준진 ,  김해원 ,  신창훈 ,  송병규 ,  김경훈 ,  김용기 ,  신양식 ,  김창돌 ,  김은덕

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/205 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02 ,  H01L21/205 ,  H01L21/683

Abstract: 본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리장치는, 일측에 형성된 통로를 통해 기판이 이송되며, 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 내부공간을 제공하는, 그리고 상기 기판을 향해 가스를 공급하는 공급포트가 상기 통로의 반대측에 형성된 챔버; 상기 내부공간에 설치되어 상기 내부공간과 대응되는 형상을 가지며, 개구가 형성되는 보조서셉터; 및 상기 개구에 삽입설치되어 상기 기판이 놓여진 상태에서 회전가능하며, 상기 기판을 가열하는 메인서셉터를 포함한다.

Abstract translation: 根据本发明的实施例，基板处理装置包括：用于通过形成在其一侧的通道传送基板的室，所述室提供内部空间，在该内部空间中进行与基板相关的工艺，并且所述室 具有形成在所述通道的相对侧上的供应口，以向所述基底供应气体; 辅助基座，其安装在内部空间中，其具有与内部空间相对应的形状，并且其中形成有开口; 以及主基座，其插入/安装在开口中，其可以在衬底放置在其上的同时旋转，并且加热衬底。

公开(公告)号：WO2015057023A1

公开(公告)日：2015-04-23

申请号：PCT/KR2014/009807

申请日：2014-10-17

Applicant: 주식회사 유진테크

Inventor： 현준진 ,  송병규 ,  김경훈 ,  김용기 ,  신양식 ,  김창돌

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67109 ,  F27B1/02 ,  F27B1/10 ,  F27B1/20 ,  F27B1/21 ,  F27B3/02 ,  F27B5/04 ,  F27B5/06 ,  F27B5/14 ,  F27B5/16 ,  F27B5/18 ,  F27D3/0084 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/67757

Abstract: 본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리장치는, 일측에 형성된 통로를 통해 기판이 이송되며, 상부 및 하부가 개방된 챔버본체; 상기 챔버본체의 상부에 설치되어 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 공정공간을 제공하며, 하부가 개방된 형상을 가지는 내부반응튜브; 상기 챔버의 개방된 하부에 배치되어 상기 통로를 통해 이송된 상기 기판을 상하방향을 따라 적재하는 적재위치 및 상기 공정공간을 향해 상승하여 적재된 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 공정위치로 전환가능한 기판홀더; 상기 기판홀더의 하부에 연결되어 상기 기판홀더와 함께 승강하며, 상기 공정위치에서 상기 내부반응튜브의 개방된 하부를 폐쇄하는 차단플레이트; 상기 차단플레이트의 하부에 기립설치되어 상기 차단플레이트와 함께 승강하는 연결실린더; 상기 챔버본체의 개방된 하부면과 상기 연결실린더 사이에 연결되며, 개방된 상기 챔버본체의 하부를 외부로부터 격리하는 차단부재를 포함한다.

Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，一种基板处理装置包括：主室主体，其中基板通过一侧形成的通道传送，主室主体的上部和下部打开; 提供处理空间的内部反应管，其中执行基板的处理并且具有开放的下部; 衬底保持器，其布置在腔室的敞开的下部中，并且当衬底通过通道传送到衬底沿垂直方向堆叠的堆叠位置时，可以将衬底运送到处理位置， 执行向处理位置提升的堆叠的基板; 屏蔽板，其连接到所述衬底保持器的下部并与所述衬底保持器一起提升，并且将所述内部反应管的所述开放的下部屏蔽在所述处理位置; 连接圆筒，其竖立地安装在屏蔽板的下部并与屏蔽板一起提升; 连接在主室主体的敞开的下部与连接筒之间并将主室主体的开口下部与外部隔开的遮蔽部件。