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公开(公告)号:WO2021241903A1
公开(公告)日:2021-12-02
申请号:PCT/KR2021/005617
申请日:2021-05-04
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: H01L27/11575 , H01L27/1157 , H01L27/11573 , H01L27/11582 , G11C8/14 , H01L21/768 , G11C16/04 , H01L21/285 , H01L21/02
Abstract: 집적화를 도모하는 3차원 플래시 메모리와 그 제조 방법이 개시된다. COP(Cell on Peripheral circuit) 구조가 적용된 3차원 플래시 메모리는, 상기 COP 구조에 따라 주변 회로의 적어도 하나의 트랜지스터가 형성된 기판; 상기 적어도 하나의 트랜지스터의 상부로부터 일 방향으로 연장 형성되는 적어도 하나의 메모리 셀 스트링; 및 상기 적어도 하나의 트랜지스터 및 상기 적어도 하나의 메모리 셀 스트링에 의해 공통으로 사용되는 공통 소스 라인을 포함한다.
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公开(公告)号:WO2021246664A1
公开(公告)日:2021-12-09
申请号:PCT/KR2021/005621
申请日:2021-05-04
Applicant: 한양대학교 산학협력단
IPC: H01L27/11582 , H01L27/1157 , H01L27/11573 , H01L21/285 , H01L21/768 , H01L27/1159 , H01L27/11592 , H01L27/11597 , H01L27/11568
Abstract: 누설 전류를 개선하는 3차원 플래시 메모리 및 기판이 개시된다. 3차원 플래시 메모리는 기판 상 일 방향으로 연장 형성되는 스트링-상기 스트링은 상기 일 방향으로 연장 형성되는 채널층 및 상기 채널층을 감싸도록 상기 일 방향으로 연장 형성되는 전하 저장층을 포함함-; 상기 스트링의 상단 또는 하단에 수직으로 연결되는 적어도 하나의 선택 라인(Selection Line); 및 상기 적어도 하나의 선택 라인의 상부 또는 하부에 위치한 채 상기 스트링에 수직으로 연결되는 복수의 워드 라인들을 포함하고, 상기 채널층은, 산화물 반도체 물질로 형성되는 것을 특징으로 한다.
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