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    VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM TEMPERIEREN VON ELEMENTEN IN MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGEN
    1.
    发明申请
    VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM TEMPERIEREN VON ELEMENTEN IN MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGEN 审中-公开

    公开(公告)号：WO2021239299A1

    公开(公告)日：2021-12-02

    申请号：PCT/EP2021/058218

    申请日：2021-03-30

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： MONZ, Thomas ,  KEMP, Alexandre ,  LIPPERT, Johannes

    IPC: G03F7/20

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine mikrolithographi sehe Proj ektionsbelichtungsanlage, insbesondere für den DUV-Bereich (400) oder für den EUV-Bereich (100), aufweisend eine Beleuchtungseinrichtung (102; 402) und ein Proj ektionsobj ektiv (104, 340, 640; 404) mit mindestens einem Element (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014), das zu seiner Temperierung zumindest bereichsweise von mindestens einer zum Leiten eines Temperierfluids vorgesehenen Temperi erflui dl eitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) durchzogen ist, wobei die Temperierfluidleitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) mit mindestens einem T emperi erflui dvorratsb ehälter (470, 480, 615, 515, 516, 519, 460, 920, 1020) verbunden ist und wobei mindestens ein Temperierelement (702, 704, 706, 906, 916, 1006) zum Temperieren des Temperierfluids an oder in der T emperi erflui dl eitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) vorgesehen ist, wobei - mindestens zwei der Elemente (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014) unabhängig voneinander mit jeweils mindestens einer separaten der T emperi erflui dl eitungen (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) oder - mindestens zwei verschiedene Bereiche des mindestens einen Elements (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014) unabhängig voneinander mit jeweils mindestens einer separaten der Temperierfluidleitungen (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) oder - mindestens zwei der Elemente (370, 372, 380, 382, 390, 396, 397, 399, 391, 392, 393, 394, 398, 451, 930, 1010, 1012, 1014) mit der Temperierfluidleitung (302, 304, 306, 308, 310, 452, 476, 486, 602, 919, 921, 1007) durchzogen sind. Die Erfindung betrifft zudem ein Verfahren zur Temperierung mindestens eines Elements einer mikrolithographi sehen Proj ektionsbelichtungsanlage (300, 400).

    OPTISCHE BAUGRUPPE, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN
    2.
    发明申请
    OPTISCHE BAUGRUPPE, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022029062A1

    公开(公告)日：2022-02-10

    申请号：PCT/EP2021/071540

    申请日：2021-08-02

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： RABA, Andreas ,  LIPPERT, Johannes ,  RAAB, Markus ,  MANGER, Matthias

    IPC: G03F7/20 ,  G02B26/00

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine optische Baugruppe (20) umfassend ein optisches Element (21) mit einer optischen Wirkfläche (22), mindestens einer Deformationsvorrichtung (24,25) und einem Basiselement (27), wobei die Deformationsvorrichtung (24,25) zwischen dem optischen Element (21) und dem Basiselement (27) angeordnet ist und dazu eingerichtet ist, das optische Element (21) und das Basiselement (27) zu deformieren. Erfindungsgemäß umfasst die optische Baugruppe (20) mindestens einen Sensor (30,33) zur Bestimmung einer Deformation der optischen Wirkfläche (22). Weiterhin umfasst die Erfindung eine mit der optischen Baugruppe (20) ausgestattete Projektionsbelichtungsanlage (1,101) sowie ein Verfahren zur Bestimmung von Deformationen optischer Wirkflächen (22).

    PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT FELDNAHEM MANIPULATOR
    4.
    发明申请
    PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT FELDNAHEM MANIPULATOR 审中-公开
    与现场近机械臂投射曝光系统，

    公开(公告)号：WO2015173363A1

    公开(公告)日：2015-11-19

    申请号：PCT/EP2015/060702

    申请日：2015-05-13

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： DEUFEL, Peter ,  LIPPERT, Johannes ,  MARSOLLEK, Pascal ,  WESSELINGH, Jasper ,  KWAN, Yim-Bun Patrick

    IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

    CPC classification number: G03F7/706 ,  G02B27/0025 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/7095

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (100) für die Halbleiterlithographie mit einem Projektionsobjektiv (107) und mit einem Manipulator (200) zur Korrektur von Wellenfrontfehlern optischer Nutzstrahlung, welche ein optisches Element (9) des Manipulators (200) während des Betriebes des Projektionsobjektives durchtreten, wobei das optische Element beispielsweise als planparalleles Element ausgebildet ist und der Manipulator (200) in Richtung der optischen Nutzstrahlung unmittelbar nach einem Reticle der Projektionsbelichtungsanlage angeordnet ist. Dabei ist mindestens ein auf einem Sensorrahmen angeordneter Sensor zur Messung der Deformation bzw. der Auslenkung des optischen Elementes vorhanden, wobei der thermische Ausdehnungskoeffizient des Sensorrahmens (5) an denjenigen eines Grundrahmens (4) angepasst ist, auf welchem der Sensorrahmen (5) angeordnet ist.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于与投影透镜（107）和用于波阵面误差光学有效辐射，其中（9）的机械手（200）的投影物镜的操作期间通过的光学元件的校正的机械手（200）的半导体光刻的投射曝光设备（100）， 其中，所述光学元件被例如形成为平面平行的元件和所述操纵器（200）的投影曝光装置的掩模版之后立即设置在光学有效辐射的方向。 在这种情况下，设置在传感器框架传感器，用于测量变形或提供的光学元件的位移，其中，所述传感器框架（5）的那些的基架（4）被适配的热膨胀系数，配置该传感器框架上的至少一个（5） ，

    OPTISCHE BAUGRUPPE, VERFAHREN ZUR ANSTEUERUNG EINER OPTISCHEN BAUGRUPPE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
    6.
    发明申请
    OPTISCHE BAUGRUPPE, VERFAHREN ZUR ANSTEUERUNG EINER OPTISCHEN BAUGRUPPE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022043004A1

    公开(公告)日：2022-03-03

    申请号：PCT/EP2021/071538

    申请日：2021-08-02

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： RAAB, Markus ,  RABA, Andreas ,  LIPPERT, Johannes ,  MANGER, Matthias

    IPC: G03F7/20 ,  G02B26/06

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine optische Baugruppe (20) für die Halbleiterlithographie mit einem optischen Element (21) und einem Aktuator (26.4) zur Deformation des optischen Elementes (21), wobei der Aktuator (26.4) abschnittsweise aus mindestens drei Abschnitten (27) aufgebaut ist. Dabei ist mindestens eine erste (31) und eine zweite (32) Gruppe von jeweils mittels einer Ansteuerung ansteuerbaren Abschnitten (27) vorhanden, wobei die erste Gruppe (31) zu einer Grobaktuierung und die zweite Gruppe (32) zu einer Feinaktuierung dient. Die Ansteuerung (29) ist dazu eingerichtet, die Gruppen (31,32) unabhängig voneinander und die Abschnitte (27) einer Gruppe (31,32) gemeinsam anzusteuern. Weiterhin ist die Ansteuerung dazu eingerichtet, die Anzahl der pro Gruppe (31,32) gemeinsam angesteuerten Abschnitte (27) variabel einzustellen. Ferner betrifft die Erfindung eine mit der erfindungsgemäßen Baugruppe (20) ausgestattete Projektionsbelichtungsanlage (1,101) sowie ein Verfahren zur Ansteuerung der optischen Baugruppe (20).

    A PROJECTION OBJECTIVE INCLUDING AN OPTICAL DEVICE
    8.
    发明申请
    A PROJECTION OBJECTIVE INCLUDING AN OPTICAL DEVICE 审中-公开

    公开(公告)号：WO2022023313A1

    公开(公告)日：2022-02-03

    申请号：PCT/EP2021/070949

    申请日：2021-07-27

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  LIPPERT, Johannes ,  STIEPAN, Hans Michael ,  POLLAK, Thilo ,  CAVACO, Jeffrey

    IPC: G03F7/20 ,  G02B26/00 ,  H01L41/08

    Abstract: The invention relates to a projection exposure apparatus (400, 100) comprising a projection objective (408, 107, 200), the projection objective (408, 107, 200) comprising an optical device (1), the optical device (1) comprising an optical element (2) having an optically effective surface (2a) and at least one electrostrictive actuator (3), which is deformable by a control voltage being applied, wherein the electrostrictive actuator (3) is functionally connected to the optical element (2) in order to influence the surface shape of the optically effective surface (2a). A control device (4) is provided in order to supply the electrostrictive actuator (3) with the control voltage, wherein a measuring device (5) is provided, which is configured, at least at times while the electrostrictive actuator (3) influences the optically effective surface (2a) of the optical element (2), to measure directly and/or to determine indirectly the temperature and/or a temperature change of the electrostrictive actuator (3) and/or the surroundings thereof in order to take account of a temperature-dependent influence during driving of the electrostrictive actuator (3) by the control device (4).

    SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
    9.
    发明申请
    SPIEGEL, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开

    公开(公告)号：WO2018177649A1

    公开(公告)日：2018-10-04

    申请号：PCT/EP2018/053769

    申请日：2018-02-15

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  LIPPERT, Johannes ,  GRUNER, Toralf ,  HILD, Kerstin

    Inventor： LIPPERT, Johannes ,  GRUNER, Toralf ,  HILD, Kerstin

    IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06

    Abstract: Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei der Spiegel eine optische Wirkfläche aufweist, mit einem Substrat (11, 61, 71, 81, 91), einem Reflexionsschichtsystem (16, 66, 76, 86, 96) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (10a, 60a, 70a, 80a, 90a) auftreffender elektromagnetischer Strahlung, einer auf dem Substrat (11, 61, 71, 81, 91) vorgesehenen Elektrodenanordnung (13, 63, 73, 83) aus einem ersten Material mit einer ersten elektrischen Leitfähigkeit und einer Vermittlerschicht (12, 62, 72, 82, 92) aus einem zweiten Material mit einer zweiten elektrischen Leitfähigkeit, wobei das Verhältnis zwischen der ersten und der zweiten elektrischen Leitfähigkeit wenigstens 100 beträgt, wobei der Spiegel wenigstens eine Kompensationsschicht (88) aufweist, welche den Einfluss einer thermischen Ausdehnung der Elektrodenanordnung (83) auf die Deformation der optischen Wirkfläche (80a) wenigstens teilweise kompensiert.

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