公开(公告)号：WO2015043832A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：PCT/EP2014/067538

申请日：2014-08-18

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  GRUNER, Toralf ,  HILD, Kerstin

Inventor： GRUNER, Toralf ,  HILD, Kerstin

IPC: G21K1/06 ,  H01L41/08

CPC classification number: G03F7/702 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70316 ,  G21K1/062 ,  H01L41/0805 ,  H01L41/183 ,  H01L41/1876

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßer Spiegel (10) weist eine optische Wirkfläche (1 1 ), ein Spiegelsubstrat (12), einen Reflexionsschichtstapel (21 ) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (1 1 ) auftreffender elektromagnetischer Strahlung und wenigstens zwei piezoelektrische Schichten (16a, 16b, 16c), welche zwischen Spiegelsubstrat (12) und Reflexionsschichtstapel (21 ) in Stapelrichtung des Reflexionsschichtstapels (21 ) aufeinanderfolgend angeordnet und mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar sind, auf, wobei zwischen diesen piezoelektrischen Schichten (16a, 16b, 16c) wenigstens eine Zwischenschicht (22a, 22b) aus kristallinem Material angeordnet ist, wobei die Zwischenschicht (22a, 22b) derart ausgestaltet ist, dass sie ein im Bereich der in Stapelrichtung des Reflexionsschichtstapels (21 ) an die Zwischenschicht (22a, 22b) angrenzenden piezoelektrischen Schichten (16a, 16b, 16c) anliegendes elektrisches Feld im Wesentlichen unbeeinflusst lässt.

Abstract translation: 本发明涉及一种反射镜，特别是用于微光刻投射曝光设备。 根据本发明的反射镜（10）具有一个光学有效区域（11），入射电磁辐射的用于光学有效表面的反射镜基片（12），反射层堆叠（21）（11）和至少两个压电体层（16A，16B， 16C），其被布置（在连续的反射层堆叠（21）的层叠方向上的反射镜基板12）和反射层堆叠（21）之间，并通过用于产生局部可变的变形，其中，（之间的这些压电层16a，16b，16c中的电场在被加载 ）至少一个中间层（22A，22B）的结晶材料，其中所述中间层（22a的，22B）被设计为使得其具有（在的区域（中间层中的反射层堆叠21的堆叠方向）22A，22B）相邻的压电 层（16A，16B，16C）施加的电场基本上是unbeeinf lusst叶。

公开(公告)号：WO2019029990A1

公开(公告)日：2019-02-14

申请号：PCT/EP2018/070157

申请日：2018-07-25

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  WYLIE-VAN EERD, Ben ,  BIJKERK, Frederik ,  HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  SCHULTE, Stefan ,  WEYLER, Simone

Inventor： WYLIE-VAN EERD, Ben ,  BIJKERK, Frederik ,  HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  SCHULTE, Stefan ,  WEYLER, Simone

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00 ,  G21K1/06

Abstract: Ein erfindungsgemäßer Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit einem Spiegelsubstrat (12, 32, 52) weist auf: Einen Reflexionsschichtstapel (21, 41, 61) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (11, 31, 51 ) auftreffender elektromagnetischer Strahlung einer Arbeitswellenlänge, und wenigstens eine piezoelektrische Schicht (16, 36, 56), welche zwischen Spiegelsubstrat und Reflexionsschichtstapel angeordnet und über eine erste, auf der dem Reflexionsschichtstapel zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung (20, 40, 60) und eine zweite, auf der dem Spiegelsubstrat zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung (14, 34, 54) mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar ist. Gemäß einem Aspekt ist eine Verspannungsschicht (98) vorgesehen, welche ein mit der Beaufschlagung mit einem elektrischen Feld einhergehendes Einsinken der piezoelektrischen Schicht (96) in das Spiegelsubstrat (92) im Vergleich zu einem analogen Aufbau ohne die Verspannungsschicht reduziert und damit die effektive Auslenkung der piezoelektrischen Schicht (96) erhöht.

公开(公告)号：WO2017009185A1

公开(公告)日：2017-01-19

申请号：PCT/EP2016/066178

申请日：2016-07-07

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  DIER, Oliver ,  HILD, Kerstin ,  ENKISCH, Hartmut ,  KALISKY, Matus

Inventor： DIER, Oliver ,  HILD, Kerstin ,  ENKISCH, Hartmut ,  KALISKY, Matus

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei der Spiegel eine optische Wirkfläche aufweist, mit einem Spiegelsubstrat (205, 305), einer Reflexionsschicht (220, 320), welche derart ausgestaltet ist, dass der Spiegel für elektromagnetische Strahlung einer vorgegebenen Arbeitswellenlänge, welche auf die optische Wirkfläche (200a, 300a) unter einem auf die jeweilige Oberflächennormale bezogenen Einfallswinkel von wenigstens 65° auftrifft, eine Reflektivität von wenigstens 50% besitzt, und einer Substratschutzschicht (210, 310), welche zwischen dem Spiegelsubstrat (205, 305) und der Reflexionsschicht (220, 320) angeordnet ist, wobei die Substratschutzschicht (210, 310) für EUV-Strahlung eine Transmission von weniger als 0.1% aufweist.

Abstract translation: 本发明涉及一种反射镜，特别是用于微光刻投射曝光系统，其具有的光学有效表面的反射镜，利用该被设计为使得用于一个电磁辐射的反射镜预定的反射镜衬底（205，305），反射层（220，320） 工作波长，其中所述光学活性表面（200A，300A）撞击在涉及到至少65°入射的相应表面法线夹角的时间，具有至少50％的反射率，以及设置在镜基板之间的基底保护层（210,310）（205， 305）和反射层（220，320）被设置，其中，对于具有小于0.1％的透射的极紫外辐射的基板保护层（210，310）。

公开(公告)号：WO2017009005A1

公开(公告)日：2017-01-19

申请号：PCT/EP2016/064174

申请日：2016-06-20

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf

Inventor： HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B27/00

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70316 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßer Spiegel (10, 30) weist eine optische Wirkfläche (11, 31) auf, ein Spiegelsubstrat (12, 32), einen Reflexions schichtstapel (21, 41) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche auftreffender elektromagnetischer Strahlung und wenigstens eine piezoelektrische Schicht (16, 36), welche zwischen Spiegelsubstrat und Reflexionsschichtstapel angeordnet und über eine erste, auf der dem Reflexionsschichtstapel zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung (20, 40) und eine zweite, auf der dem Spiegelsubstrat zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung (14, 34) mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar ist, wobei die erste Elektrodenanordnung und/oder die zweite Elektrodenanordnung eine Mehrzahl von Elektroden (20a, 20b, 20c,..., 40a, 40b, 40c,... ) aufweist, welche jeweils über eine Zuleitung (19a, 19b, 19c,..., 39a, 39b, 39c,... ) mit einer elektrischen Spannung bezogen auf die jeweils andere Elektrodenanordnung beaufschlagbar sind, wobei ferner eine Abschirmschicht (22, 42) aus elektrisch leitendem Material der art angeordnet ist, dass sie ein von diesen Zuleitungen erzeugtes elektrisches Feld wenigstens teilweise von der piezoelektrischen Schicht abschirmt.

Abstract translation: 本发明涉及一种反射镜，特别是用于微光刻投射曝光设备。 根据本发明的反射镜（10，30）具有用于反射入射电磁辐射和至少一个压电层的光学有效区域的光学有效区域（11，31），反射镜基片（12，32），反射层堆叠（21,41） （16，36）通过一个第一设置电极组件中的反射镜基板和反射层堆叠与所述电极组件之间，在面向压电位于（20 40）层和第二的反射层堆叠侧的一侧，在面对位于该压电层的镜基板侧上的侧（14 ，34）可在与电场被加载，以产生局部可变的变形，其中，所述第一电极装置和/或所述第二电极装置，多个电极（20A，20B，20C，...，40A，40B，40C，... ），其在经由供给线每一种情况下（图19A，19B，19C，...，39A，39B，39C，...）与ELEC 陈电压施加到其他电极阵列是基于采取行动，还包括被布置为使得其至少部分地屏蔽由所述压电层的电场的这些供电线中产生的信号的导电材料构成的屏蔽层（22，42）。

公开(公告)号：WO2022023313A1

公开(公告)日：2022-02-03

申请号：PCT/EP2021/070949

申请日：2021-07-27

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  LIPPERT, Johannes ,  STIEPAN, Hans Michael ,  POLLAK, Thilo ,  CAVACO, Jeffrey

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/00 ,  H01L41/08

Abstract: The invention relates to a projection exposure apparatus (400, 100) comprising a projection objective (408, 107, 200), the projection objective (408, 107, 200) comprising an optical device (1), the optical device (1) comprising an optical element (2) having an optically effective surface (2a) and at least one electrostrictive actuator (3), which is deformable by a control voltage being applied, wherein the electrostrictive actuator (3) is functionally connected to the optical element (2) in order to influence the surface shape of the optically effective surface (2a). A control device (4) is provided in order to supply the electrostrictive actuator (3) with the control voltage, wherein a measuring device (5) is provided, which is configured, at least at times while the electrostrictive actuator (3) influences the optically effective surface (2a) of the optical element (2), to measure directly and/or to determine indirectly the temperature and/or a temperature change of the electrostrictive actuator (3) and/or the surroundings thereof in order to take account of a temperature-dependent influence during driving of the electrostrictive actuator (3) by the control device (4).

公开(公告)号：WO2021043484A1

公开(公告)日：2021-03-11

申请号：PCT/EP2020/069905

申请日：2020-07-14

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： PAZIDIS, Alexandra ,  HILD, Kerstin ,  POLLAK, Thilo

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/06

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Spiegelanordnung (30), umfassend: ein Substrat (31), welches eine Vorderseite (31a) mit einer Spiegelfläche (32a) zur Reflexion von Strahlung (5) sowie eine der Vorderseite (31a) abgewandte Rückseite (31b) aufweist, an der mindestens ein Aktuator (27) zur Erzeugung von Deformationen der Spiegelfläche (32a) angeordnet ist, wobei ein Wasserdampf (36) aufnehmendes, insbesondere organisches Material (33, 42) an der Rückseite (31b) des Substrats (31) gebildet ist, und wobei das Wasserdampf (36) aufnehmende Material bevorzugt eine Kleberschicht (33) zur Befestigung des mindestens einen Aktuators (27) an der Rückseite (31b) des Substrats (31) bildet, die sich insbesondere in Zwischenräume (35) zwischen den Aktuatoren (27) erstreckt. Eine Oberfläche (33a, 42a) des Wasserdampf (36) aufnehmenden Materials (33, 42), insbesondere eine Oberfläche (33a) der Kleberschicht (33), ist zumindest teilweise, insbesondere vollständig von einer Beschichtung (37) überdeckt, die eine Wasserdampf-Diffusionsbarriere bildet. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, insbesondere eine EUV- Lithographievorrichtung oder eine DUV-Lithographievorrichtung, die mindestens eine solche Spiegelanordnung (30) umfasst.

公开(公告)号：WO2019025162A1

公开(公告)日：2019-02-07

申请号：PCT/EP2018/069137

申请日：2018-07-13

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： LIEBAUG, Björn ,  BECKER, Moritz ,  HILD, Kerstin ,  HARTJES, Joachim ,  HAAS, Simon

IPC: G03F7/20

Abstract: Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung (1 ) für EUV-Strahlung, umfassend: mindestens ein reflektierendes optisches Element (16), das einen Grundkörper (30) mit einer EUV-Strahlung (33) reflektierenden Beschichtung (31 ) aufweist. An mindestens einem Oberflächenbereich (35) des Grundkörpers (30) ist mindestens eine Abschirmung (36) angebracht, die den mindestens einen Oberflächenbereich (35) vor einer Ätzwirkung eines das reflektierende optische Element (16) im Betrieb der optischen Anordnung (1 ) umgebenden Plasmas (H+, H*) schützt. Ein Abstand (A) zwischen der Abschirmung (36) und dem Oberflächenbereich (35) des Grundkörpers (30) ist kleiner als das Doppelte der Debye-Länge (ho), bevorzugt kleiner als die Debye-Länge (ÄD) des umgebenden Plasmas (H+, H*).

公开(公告)号：WO2018177649A1

公开(公告)日：2018-10-04

申请号：PCT/EP2018/053769

申请日：2018-02-15

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  LIPPERT, Johannes ,  GRUNER, Toralf ,  HILD, Kerstin

Inventor： LIPPERT, Johannes ,  GRUNER, Toralf ,  HILD, Kerstin

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, wobei der Spiegel eine optische Wirkfläche aufweist, mit einem Substrat (11, 61, 71, 81, 91), einem Reflexionsschichtsystem (16, 66, 76, 86, 96) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (10a, 60a, 70a, 80a, 90a) auftreffender elektromagnetischer Strahlung, einer auf dem Substrat (11, 61, 71, 81, 91) vorgesehenen Elektrodenanordnung (13, 63, 73, 83) aus einem ersten Material mit einer ersten elektrischen Leitfähigkeit und einer Vermittlerschicht (12, 62, 72, 82, 92) aus einem zweiten Material mit einer zweiten elektrischen Leitfähigkeit, wobei das Verhältnis zwischen der ersten und der zweiten elektrischen Leitfähigkeit wenigstens 100 beträgt, wobei der Spiegel wenigstens eine Kompensationsschicht (88) aufweist, welche den Einfluss einer thermischen Ausdehnung der Elektrodenanordnung (83) auf die Deformation der optischen Wirkfläche (80a) wenigstens teilweise kompensiert.

公开(公告)号：WO2021259633A1

公开(公告)日：2021-12-30

申请号：PCT/EP2021/065326

申请日：2021-06-08

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  GOLDE, Daniel ,  STIEPAN, Hans Michael ,  SHKLOVER, Vitaliy

Inventor： HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  GOLDE, Daniel ,  STIEPAN, Hans Michael ,  SHKLOVER, Vitaliy

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08 ,  G02B7/185 ,  G02B27/00 ,  G21K1/06 ,  H01L41/08 ,  G02B26/0825 ,  G02B26/0858 ,  G02B27/0068 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70316 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067 ,  H01L41/047 ,  H01L41/0805 ,  H01L41/0986

Abstract: The invention relates to a mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, comprising an optical effective surface, a mirror substrate (10, 21, 31, 41, 50, 70, 80), a reflection layer stack (28, 38, 48, 75, 85) for reflecting electromagnetic radiation that is incident on the optical effective sur¬ face, at least one first electrode arrangement (24, 34, 44), at least one second electrode arrangement (23, 33, 43), and an actuator layer system situated between the first electrode arrangement and the second electrode arrangement, wherein said actuator layer system is arranged between the mirror substrate (10, 21, 31, 41, 50, 70, 80) and the reflection layer stack (28, 38, 48, 75, 85), said actuator layer system comprising a piezoelectric layer (25, 35, 45) and, in reaction to an electrical voltage being applied between the first electrode arrangement and the second electrode arrangement, exhibiting a deformation response (11, 51) characterizing the linear deformation of the actuator layer system in a direction perpendicular to the optical effective surface for a pre¬ defined value of the electrical voltage, wherein said deformation response varies locally by at least 20% in the PV value for a predefined electrical voltage that is spatially constant across the piezoelectric layer.

公开(公告)号：WO2019214946A1

公开(公告)日：2019-11-14

申请号：PCT/EP2019/060523

申请日：2019-04-24

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  SHKLOVER, Vitaliy

Inventor： HILD, Kerstin ,  GRUNER, Toralf ,  SHKLOVER, Vitaliy

IPC: G02B5/08 ,  G02B26/08 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B27/00

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt weist ein erfindungsgemäßer Spiegel ein Spiegelsubstrat (12), einen Reflexionsschichtstapel (21) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (11) auftreffender elektromagnetischer Strahlung, und wenigstens eine piezoelektrischen Schicht (16) auf, welche zwischen Spiegelsubstrat und Reflexionsschichtstapel angeordnet und über eine erste, auf der dem Reflexionsschichtstapel zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung und eine zweite, auf der dem Spiegelsubstrat zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar ist, wobei sowohl die erste Elektrodenanordnung als auch die zweite Elektrodenanordnung eine Mehrzahl von Elektroden (20a, 20b) aufweist, welche jeweils über eine Zuleitung (19a, 19b) mit einer elektrischen Spannung bezogen auf die jeweils andere Elektrodenanordnung beaufschlagbar sind, wobei jeder dieser Elektrodenanordnungen jeweils eine separate Vermittlerschicht (17a, 17b) zur Einstellung eines kontinuierlichen Verlaufs des elektrischen Potentials entlang der jeweiligen Elektrodenanordnung zugeordnet ist, und wobei sich diese Vermittlerschichten in ihrem mittleren elektrischen Widerstand um einen Faktor von wenigstens 1.5 voneinander unterscheiden.