PROCEDE DE FABRICATION D'UNE GRILLE SUBMILLIMETRIQUE ELECTROCONDUCTRICE, GRILLE SUBMILLIMETRIQUE ELECTROCONDUCTRICE
    6.
    发明申请
    PROCEDE DE FABRICATION D'UNE GRILLE SUBMILLIMETRIQUE ELECTROCONDUCTRICE, GRILLE SUBMILLIMETRIQUE ELECTROCONDUCTRICE 审中-公开
    低电导率电导网的制造方法以及次导电导电网

    公开(公告)号:WO2010034949A1

    公开(公告)日:2010-04-01

    申请号:PCT/FR2009/051821

    申请日:2009-09-25

    Abstract: L'invention porte sur la fabrication d'une grille submillimétrique comportant : la réalisation d'un masque (1) à ouvertures submillimétriques (10), dit masque à réseau, sur la face principale, à partir d'une solution de nanoparticules colloïdales avec une température de transition vitreuse Tg donnée, le séchage de la couche de masquage à une température inférieure à Tg, la formation de la grille électrocondutrice à partir du masque à réseau (1) comportant dans cet ordre: un dépôt d'au moins un matériau électroconducteur, dit de grille, de résistivité électrique inférieure à 10 - 5 ohm. cm, un enlèvement de la couche de masquage, révélant la grille mère un dépôt éventuel, par électrodéposition, d'un matériau électroconducteur, dit de surgrille (6), la surface sous jacente à la grille-mère étant alors diélectrique, un détachement, de ladite grille mère ou la surgrille, d'une épaisseur d'au moins 500 nm L'invention porte aussi sur la grille détachée.

    Abstract translation: 本发明涉及亚毫米格栅的制造,其包括:在具有给定的玻璃态转变温度Tg的胶体纳米颗粒溶液的主表面上形成具有亚毫米级(10)并称为阵列掩模的掩模(1) 掩模层在低于温度Tg的温度下干燥,从阵列掩模(1)形成导电栅格,按以下顺序包括:沉积至少一种被称为格栅材料的导电材料, 并且具有小于10“5欧姆厘米的电阻率;去除掩模层以露出母格栅;通过电沉积,可选地沉积称为过网格(6)材料的导电材料,即母体下面的表面 栅格因此是电介质;并且分离具有至少500nm的厚度的所述母格或过网格。本发明还涉及分离的栅格。

    ELECTRODE SUPPORTEE TRANSPARENTE
    10.
    发明申请
    ELECTRODE SUPPORTEE TRANSPARENTE 审中-公开
    透明支持电极

    公开(公告)号:WO2013030506A1

    公开(公告)日:2013-03-07

    申请号:PCT/FR2012/051947

    申请日:2012-08-28

    CPC classification number: C03C17/10 C03C17/002 C03C2218/34

    Abstract: La présente invention concerne une électrode supportée transparente, comprenant un substrat non conducteur transparent (1) et, sur au moins une des faces du substrat non conducteur, une couche mince essentiellement constituée d'une multitude de zones conductrices (2) non contiguës couvrant 70 % à 98 % de la zone active (3) du substrat, couverte par l'électrode, les zones conductrices étant séparées les unes des autres par un système de « joints » non conducteurs (5) et chacune desdites zones conductrices (2) étant reliée électriquement à au moins trois zones conductrices voisines au moyen de ponts électroconducteurs (4). L'invention concerne également un procédé pour fabriquer une telle électrode et un dispositif contenant une telle électrode, notamment un dispositif électrochimique, électroluminescent ou photovoltaïque.

    Abstract translation: 本发明涉及一种透明支撑电极,其包括透明非导电基底(1),并且在非导电基底的至少一个表面上形成基本上由多个不连续的导电区域(2)组成的薄膜,覆盖 由电极覆盖的衬底的有效面积(3)的70%至90%,导电区域通过非导电接头(5)的系统彼此分离,并且每个所述导电区域(2) )经由导电桥(4)电连接到至少三个相邻的导电区域。 本发明还涉及用于制造这种电极的方法以及包含这种电极,特别是电化学,电致发光或光电器件的器件。

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