公开(公告)号：WO03037514A3

公开(公告)日：2003-09-12

申请号：PCT/US0234754

申请日：2002-10-30

Applicant: TEXAS A & M UNIV SYS

Inventor： CREMER PAUL S ,  MAO HANBI ,  YANG TINGLU

IPC: B01J19/00 ,  B01L3/00 ,  B01L7/00 ,  C30B7/00 ,  C40B60/14 ,  G01N25/14 ,  G01N27/447 ,  G01N35/00

CPC classification number: G01N27/44704 ,  B01J19/0093 ,  B01J2219/00274 ,  B01J2219/00286 ,  B01J2219/00317 ,  B01J2219/00337 ,  B01J2219/00495 ,  B01J2219/00783 ,  B01J2219/00819 ,  B01J2219/0086 ,  B01J2219/00873 ,  B01L3/5027 ,  B01L3/50851 ,  B01L7/00 ,  B01L7/54 ,  B01L2300/0627 ,  B01L2300/0829 ,  B01L2300/0864 ,  B01L2300/0867 ,  B01L2300/1805 ,  B01L2300/1822 ,  B01L2300/1827 ,  B01L2300/1838 ,  B01L2300/185 ,  C30B7/00 ,  C30B29/58 ,  C40B60/14 ,  G01N25/147

Abstract: The present invention is an apparatus for providing a linear temperature gradient to an architecture suitable for massively parallel chemical or biochemical processing. The architecture is disposed on a substrate. The apparatus uses two temperature elements disposed essentially parallel to each other and in thermal contact with the substrate. When the temperature elements are held at different temperatures, a linear temperature gradient is formed in the substrate.

Abstract translation: 本发明是一种用于向适于大规模并行化学或生物化学处理的结构提供线性温度梯度的装置。 该架构设置在基板上。 该设备使用基本上彼此平行设置并与衬底热接触的两个温度元件。 当温度元件保持在不同温度时，在衬底中形成线性温度梯度。