VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON ALKYLCHLORSILANEN AUS DEN RÜCKSTÄNDEN DER DIREKTSYNTHESE VON ALKYLCHLORSILANEN
    2.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON ALKYLCHLORSILANEN AUS DEN RÜCKSTÄNDEN DER DIREKTSYNTHESE VON ALKYLCHLORSILANEN 审中-公开
    用于从烷基氯硅烷的直接合成的残留PRODUCING烷基氯硅烷

    公开(公告)号:WO2009106447A1

    公开(公告)日:2009-09-03

    申请号:PCT/EP2009/051771

    申请日:2009-02-16

    CPC classification number: C07F7/128

    Abstract: Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Alkylchlorsilanen aus den Rückständen der Direktsynthese von Alkylchlorsilanen, welche flüssige Bestandteile mit einem Siedepunkt von mindestens 700°C bei 1013 hPa und weitere Bestandteile aufweisen, die ausgewählt werden aus Metallen und deren Verbindungen, bei dem das Reaktionsgemisch in einem Druckreaktor durch Durchleiten von Wechselstrom auf eine Reaktionstemperatur von 200 bis 5000°C aufgeheizt wird.

    Abstract translation: 本发明涉及一种方法,用于从直接合成烷基氯的,这在1013百帕斯卡和其它成分与至少700℃的沸点的液体组分被从金属和它们的化合物中选择,其中反应混合物的残余物制备烷基氯 通过使交变电流为200的反应温度下在压力反应器中加热至5000℃。

    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SILICIUM
    4.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SILICIUM 审中-公开
    用于生产硅

    公开(公告)号:WO2012150153A1

    公开(公告)日:2012-11-08

    申请号:PCT/EP2012/057501

    申请日:2012-04-25

    Abstract: Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Silicium, umfassend ein Abscheiden von Silicium in einem Reaktor auf einer Vielzahl an Füllkörpern (2), die sich im Inneren eines rohrförmigen, beheizten Trägerkörpers (1) befinden, der die Füllkörper (2) auf eine Temperatur aufheizt, bei der Silicium an den Füllkörpern (2) durch thermische Zersetzung eines Silicium enthaltenden Gases abgeschieden wird; sowie ein anschließendes Aufheizen des rohrförmigen Trägerkörpers (1), so dass die Füllkörper (2) auf eine Temperatur aufgeheizt werden, die wenigstens der Schmelztemperatur von Silicium entspricht, wobei dadurch abgeschiedenes Silicium von den Füllkörpern (2) abschmilzt und in eine Aufnahmevorrichtung (6) für flüssiges Silicium abfließt. Vorrichtung zur Herstellung von Silicium, umfassend eine rohrförmigen, aufheizbaren Trägerkörper (1), wobei sich innerhalb des Rohres Füllkörper (2), umfassend ein Material ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Graphit, SiC, Si3N und Quarz, wenigstens eine Zuleitung (7) für Reaktionsgas sowie wenigstens eine Abgasleitung, zwei elektrische Anschlusselemente (3), um ein Aufheizen des Trägerkörpers (1) zu bewerkstelligen, sowie eine Ableitung (5), geeignet um flüssiges Silicium aus der Vorrichtung in eine Aufnahmevorrichtung (6) abzuführen.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造硅,在多个填料元件(2)在管状加热的载体的内部延伸,其包括在反应器中硅的沉积(1),所述填充体(2)到 温度加热,与包装(2)由沉积在含硅气体的热分解的硅; 和筒状的运载体(1),以使填料元件(2)加热到温度至少等于硅的熔化温度,从而熔化的随后的加热和沉积的硅的填料(2)在接收装置(6) 用于液体硅流动。 用于生产硅,其包括管状加热承载体(1)的装置,其中所述管填充材料(2)包含选自石墨,碳化硅,的Si 3 N和石英,至少一个进料管线的组中选择的材料中(7),用于 反应气体和至少一个排气管,以便实现在承载体(1)的加热的两个电连接元件(3),和一个排出管线(5),适用于从所述设备的液体硅到接收设备放电(6)。

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