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公开(公告)号：WO2018062403A1
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：PCT/JP2017/035262
申请日：2017-09-28
Applicant: 花王株式会社
Inventor： 土居陽彦
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
Abstract: 研磨速度を確保しつつ、研磨選択性の向上及び研磨ムラの抑制が可能な研磨液組成物の提供。 本開示は、酸化セリウム粒子Ａと、重量平均分子量が８００以上２８００以下である多糖Ｂと、水とを含有する、研磨液組成物に関する。
Abstract translation: 提供一种抛光液组合物，其能够在确保抛光速率的同时提高抛光选择性并抑制抛光不均匀。 本发明涉及含有氧化铈粒子A，重均分子量为800以上且2800以下的多糖B和水的研磨液组合物。
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公开(公告)号：WO2012057217A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：PCT/JP2011/074694
申请日：2011-10-26
CPC classification number: C03C15/02 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , G11B5/8404
Abstract: ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。 以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法； （１）分子内に窒素原子を２～１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０～４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程； （２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０～１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。
Abstract translation: 一种玻璃硬盘基板的制造方法，其特征在于，包括用酸性研磨液研磨玻璃基板的研磨工序，以及对所得到的玻璃基板进行碱清洗后的碱洗涤工序，能够抑制玻璃基板的表面粗糙度劣化 玻璃基板，并且可以在抛光步骤中保持高抛光速率的同时获得改善的清洁度。 该方法包括：对玻璃基板进行抛光处理的步骤（1），该抛光液组合物含有分子内具有2〜10个氮原子的多胺化合物，其pH为1.0〜4.2; 以及使用pH为8.0〜13.0的清洁剂组合物对在工序（1）中研磨的基板进行清洗的工序（2）。
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公开(公告)号：WO2010053096A1
公开(公告)日：2010-05-14
申请号：PCT/JP2009/068837
申请日：2009-11-04
CPC classification number: C09G1/02 , B24B29/00 , B24B37/044 , B24B37/048 , C01B33/14 , C03C19/00 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , G11B5/8404
Abstract: 生産性を損なうことなく研磨後の基板のスクラッチ及び表面粗さを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法を提供する。本発明は、ΔＣＶ値が０～１０％であるコロイダルシリカと水とを含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物に関し、前記ΔＣＶ値は、動的光散乱法による検出角３０°における散乱強度分布に基づく標準偏差を前記散乱強度分布に基づく平均粒径で除して１００を掛けた値（ＣＶ３０）と、検出角９０°における散乱強度分布に基づく標準偏差を前記散乱強度分布に基づく平均粒径で除して１００を掛けた値（ＣＶ９０）との差の値（ΔＣＶ＝ＣＶ３０－ＣＶ９０）である。
Abstract translation: 公开了一种用于磁盘基板的抛光液体组合物，其可以在不牺牲生产率的情况下减少抛光后的基板的划痕和表面粗糙度。 还公开了使用研磨液组合物制造磁盘基片的方法。 抛光液组合物含有△CV值为0〜10％的胶体二氧化硅和水。 ΔVV值由等式νCV = CV30-CV90定义，其中CV30表示通过基于平均粒径的动态光散射法将基于30°检测角的散射强度分布的标准偏差除以 对散射强度分布乘以100; 并且CV90表示通过基于散射强度分布将基于90°的检测角度的散射强度分布的标准偏差除以平均粒径而获得的值，并将所获得的值乘以100。
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公开(公告)号：WO2016047725A1
公开(公告)日：2016-03-31
申请号：PCT/JP2015/077030
申请日：2015-09-25
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 研磨速度を向上しうる酸化珪素膜用研磨液組成物の提供。 一又は複数の実施形態において、水と、酸化セリウム粒子と、分子内に、アミノ基、並びに、スルホン酸基及びホスホン酸基から選ばれる少なくとも１種の酸基を有する化合物とを含有する酸化珪素膜用研磨液組成物である。前記研磨液組成物において、［化合物に含まれる酸基のモル数］／［酸化セリウム粒子の総表面積］が、１．６×１０ -5 ～５．０×１０ -2 モル／ｍ 2 である。
Abstract translation: 提供一种用于氧化硅膜的抛光液组合物，可以提高抛光速率。 在一个或多个实施方案中，提供了一种用于氧化硅膜的抛光液组合物，所述抛光液组合物含有水，氧化铈颗粒和具有氨基的化合物和至少一种选自磺酸的酸基 基团和膦酸基团。 在该研磨液组合物中，[化合物中所含的酸基的摩尔数] / [氧化铈粒子的总表面积]为1.6×10 -5〜5.0×10 -2 mol / m 2。
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公开(公告)号：WO2011132665A1
公开(公告)日：2011-10-27
申请号：PCT/JP2011/059605
申请日：2011-04-19
CPC classification number: G11B5/8404 , C09K3/1463
Abstract: 本発明のハードディスク用アルミノシリケートガラス基板の製造方法は、シリカ粒子と、スルホン酸基を有する重合体と、水とを含有し、前記スルホン酸基を有する重合体のアルミノシリケートガラスに対する吸着定数が１．５～５．０Ｌ／ｇである、研磨液組成物を用いて被研磨アルミノシリケートガラス基板を研磨する工程を含む。前記スルホン酸基を有する重合体は、芳香族環を有する重合体であると好ましい。前記スルホン酸基を有する重合体の重量平均分子量は、３０００～１０００００であると好ましい。
Abstract translation: 所公开的用于硬盘的铝硅酸盐玻璃基板的制造方法包括使用含有二氧化硅颗粒的液体抛光组合物，含有磺酸基的聚合物和水来抛光铝硅酸盐玻璃基板的步骤，所述聚合物的吸附常数 相对于铝硅酸盐玻璃为1.5-5.0L / g。 所述聚合物优选含有芳香环，其重均分子量优选为3,000至100,000。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2010074002A1
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：PCT/JP2009/071160
申请日：2009-12-18
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463
Abstract: 研磨後のスクラッチ、ナノ突起欠陥、及び基板表面うねりの低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物の提供。２０℃の水１００ｇに対する溶解度が２ｇ以下の単量体に由来する構成単位及びスルホン酸基を有する構成単位を有しかつ主鎖が飽和炭化水素鎖である共重合体又はその塩と、研磨材と、水とを含有する、磁気ディスク基板用研磨液組成物。
Abstract translation: 一种用于磁盘基板的抛光液组合物，其能够提供抛光的基板，减少划痕，纳米级投影缺陷和表面起伏。 用于磁盘基材的抛光液组合物包括共聚物或其盐，研磨材料和水，所述共聚物具有衍生自在100g 20g水中的溶解度为2g或更小的单体的结构单元，和 具有磺基并具有饱和烃链作为主链的结构单元。
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公开(公告)号：WO2022075185A1
公开(公告)日：2022-04-14
申请号：PCT/JP2021/036197
申请日：2021-09-30
Applicant: 花王株式会社
IPC: A61P39/06 , A61P43/00 , A61P17/16 , A61P17/18 , A61Q17/04 , A61Q19/00 , A61Q19/02 , A61K36/28 , A23L19/00 , A23L33/105 , A61K8/49 , A61K8/9789 , A61K31/352
Abstract: 一態様において、収穫後の草本植物からアピゲニンアピゲニン等のポリフェノール及び／又はスピロエーテル等の精油成分を効率よく抽出できる抽出組成物の製造方法を提供する。 本開示は、一態様において、下記工程（１）及び（２）を含む、抽出組成物の製造方法に関する。 （１）収穫された後の草本植物に酸化ストレスを付与し保存する工程。 （２）工程（１）の後の草本植物から抽出物を得る工程。
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公开(公告)号：WO2020066786A1
公开(公告)日：2020-04-02
申请号：PCT/JP2019/036554
申请日：2019-09-18
Applicant: 花王株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
Abstract: 一態様において、酸化珪素膜の研磨速度を向上可能な研磨液組成物を提供する。 本開示は、一態様において、酸化セリウム粒子（成分Ａ）と、添加剤（成分Ｂ）と、水系媒体とを含有し、成分Ｂは、成分Ｂの１０ｐｐｍ水溶液をサイクリックボルタンメトリー（Ａｇ／ＡｇＣｌ電極基準）で測定したときの還元電位が０．４５Ｖ以上となる化合物である、酸化珪素膜用研磨液組成物に関する。
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公开(公告)号：WO2018062401A1
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：PCT/JP2017/035258
申请日：2017-09-28
Applicant: 花王株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 研磨速度を確保しつつ、研磨選択性の向上及び研磨ムラの抑制が可能な研磨液組成物の提供。 本開示は、酸化セリウム粒子Ａと、オリゴ糖Ｂと、水とを含有し、前記オリゴ糖Ｂは、３個以上５個以下のグルコースが結合した糖を含み、かつ、８個以上のグルコースが結合した糖の含有量が２７質量％以下のオリゴ糖である、研磨液組成物に関する。
Abstract translation: 提供一种抛光液组合物，其能够在确保抛光速率的同时提高抛光选择性并抑制抛光不均匀。 本公开包含氧化铈粒子A，和低聚糖B，和水，其中该低聚糖B包含3个或更多5或更少的葡萄糖结合的糖，和8个或更多的葡萄糖 以及结合糖含量不超过27质量％的寡糖。
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公开(公告)号：WO2011136106A1
公开(公告)日：2011-11-03
申请号：PCT/JP2011/059740
申请日：2011-04-20
Inventor： 土居陽彦
CPC classification number: G11B5/8404 , B24B37/042 , C09K3/1463
Abstract: 高研磨速度と高清浄性の両立を実現でき、循環研磨において長時間高い研磨速度を維持できるガラスハードディスク基板用研磨液組成物を提供する。本発明は、一態様において、アミン化合物と、酸と、シリカ粒子と、水とを含有するガラスハードディスク基板用研磨液組成物であって、前記アミン化合物は、アミノアルコール並びにピペラジン及びその誘導体からなる群から選択され、分子内に窒素原子を２個又は３個有し、そのうち少なくとも１個は１級アミンもしくは２級アミンであるガラスハードディスク基板用研磨液組成物に関する。
Abstract translation: 本发明提供一种玻璃硬盘基板的研磨液组合物，其结合了高抛光率和高清洁度，并且即使在流体循环的抛光系统中使用时，也能长时间保持较高的抛光速率。 一种用于玻璃硬盘基片的抛光液组合物，其包含胺化合物，酸，二氧化硅颗粒和水，其中胺化合物选自氨基醇，哌嗪及其衍生物，并含有两个或三个氮原子 在分子中，至少一个氮原子是伯胺或仲胺的形式。
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