公开(公告)号：WO2018184934A1

公开(公告)日：2018-10-11

申请号：PCT/EP2018/057895

申请日：2018-03-28

Applicant: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.

Inventor： KUNZE, Tim ,  LASAGNI, Andrés-Fabián

IPC: G02B27/09 ,  B23K26/067 ,  G02B27/10 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B27/106 ,  G02B27/0905 ,  G03F7/70408

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung und ein Verfahren zur Laserinterferenzstrukturierung einer Probe (10). Die optische Anordnung weist eine Laserstrahlungsquelle (1) zum Emittieren eines Laserstrahls (11), ein Strahlteilerelement (4), das den Laserstrahl (11) in zwei Teilstrahlen (12, 13) derart aufteilt, dass einer der zwei Teilstrahlen (12, 13) innerhalb des Strahlteilerelements (4) einen längeren Weg durchläuft als der andere Teilstrahl (12, 13), ein Umlenkelement (5), das einen der beiden Teilstrahlen (12, 13) derart umlenkt, dass beide Teilstrahlen (12, 13) im Wesentlichen parallel zueinander verlaufen, und ein Fokussierelement (9) auf, das die beiden im Wesentlichen parallel zueinander verlaufenden Teilstrahlen (12, 13) durchlaufen, so dass die Teilstrahlen (12, 13) auf einer Oberfläche der Probe (10) interferieren.

公开(公告)号：WO2015077666A1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：PCT/US2014/066982

申请日：2014-11-22

Applicant: WASATCH PHOTONICS, INC.

Inventor： HEIDT, Gerald, L.

IPC: G03H1/04

CPC classification number: G03H1/20 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/32 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70408 ,  G03H1/0005 ,  G03H1/041 ,  G03H1/182 ,  G03H1/2249 ,  G03H2001/0094 ,  G03H2001/185 ,  G03H2223/17 ,  Y10S977/901

Abstract: A system and method may utilize holography to facilitate fabrication techniques such as 3D printing and lithography. The system may include a light source, a hologram of an original object or lithographic pattern recorded in a holographic medium, and a target such as a reservoir of photosensitive material or a photosensitive material attached to a substrate. Illuminating the hologram with the appropriate light source may cause a holographic image of the original object or lithographic pattern to form on the photosensitive material within the reservoir or on the substrate. Formation of the holographic image may result in the formation of a new object from the photosensitive material, or may facilitate removal or retention of photosensitive material as part of a lithographic process.

Abstract translation: 系统和方法可以利用全息术来促进诸如3D打印和光刻的制造技术。 该系统可以包括光源，记录在全息介质中的原始物体或光刻图案的全息图以及诸如光敏材料的储存器或附着到基底的光敏材料的目标。 用合适的光源照射全息图可以使原始物体或光刻图案的全息图像在储存器内或基底上的感光材料上形成。 全息图像的形成可能导致从光敏材料形成新物体，或者可能促进光敏材料的去除或保留作为光刻过程的一部分。

公开(公告)号：WO2012164539A4

公开(公告)日：2013-01-24

申请号：PCT/IB2012052778

申请日：2012-06-01

Applicant: EULITHA A G ,  SOLAK HARUN ,  CLUBE FRANCIS ,  DAIS CHRISTIAN

Inventor： SOLAK HARUN ,  CLUBE FRANCIS ,  DAIS CHRISTIAN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70075 ,  G03F7/70408

Abstract: A method for printing a periodic pattern (19) of features into a photosensitive layer (21), which method includes providing a mask (18) bearing a mask pattern, providing a substrate (20) bearing the layer, arranging the substrate parallel to the mask, providing a number of lasers (1) having a plurality of peak wavelengths, forming from said light a beam for illuminating the mask with a spectral distribution of exposure dose and a degree of collimation, illuminating the mask with said beam such that the light of each wavelength transmitted by the mask pattern forms a range of transversal intensity distributions between Talbot planes and exposes the photosensitive layer to an image component, wherein the separation and spectral distribution are arranged so that the superposition of said components is equivalent to an average of the range of transversal intensity distributions formed by light of one wavelength and the collimation is arranged so that the features are resolved.

Abstract translation: 一种用于将特征的周期性图案（19）印刷到感光层（21）中的方法，该方法包括提供具有掩模图案的掩模（18），提供承载该层的基底（20），将基底平行于 掩模，提供多个具有多个峰值波长的激光器（1），从所述光线形成用于以曝光剂量的光谱分布和准直程度照射所述掩模的光束，用所述光束照射所述掩模，使得所述光 由掩模图案传输的每个波长形成Talbot平面之间的横向强度分布范围，并将感光层暴露于图像分量，其中分离和光谱分布被布置成使得所述组件的叠加等价于 布置由一个波长的光和准直形成的横向强度分布的范围，使得特征被解决。

公开(公告)号：WO2012066489A3

公开(公告)日：2012-07-12

申请号：PCT/IB2011055133

申请日：2011-11-16

Applicant: EULITHA A G ,  SOLAK HARUN H ,  CLUBE FRANCIS

Inventor： SOLAK HARUN H ,  CLUBE FRANCIS

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G03F1/28 ,  G03F7/70408

Abstract: A method for printing a periodic pattern having a first symmetry and a first period into a photosensitive layer that includes providing a mask bearing a pattern of at least two overlapping sub-patterns which have a second symmetry and a second period, the features of each sub-pattern being formed in a transmissive material, providing a substrate bearing the layer, arranging the mask with a separation from the substrate, providing light having a central wavelength for illuminating the mask to generate a light-field in which light of the central wavelength forms a range of intensity distributions between Talbot planes, illuminating said mask pattern with said light whilst maintaining the separation or changing it by a distance whereby the photosensitive layer is exposed to an average of the range of intensity distributions, wherein the light transmitted by each sub-pattern is shifted in phase relative to that transmitted by another sub-pattern.

Abstract translation: 一种用于将具有第一对称性和第一周期的周期性图案印刷到光敏层中的方法，该方法包括提供承载具有第二对称性和第二周期的至少两个重叠子图案的图案的掩模，每个子图案的特征 - 图案形成为透射材料，提供承载该层的基底，将掩模与基底分离设置，提供具有中心波长的光以照射掩模以产生光场，其中中心波长的光形成 Talbot平面之间的强度分布范围，用所述光照射所述掩模图案，同时保持分离或将其改变一定距离，由此感光层暴露于强度分布范围的平均值，其中， 模式相对于由另一个子模式传输的模式相移。

公开(公告)号：WO2009029824A1

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：PCT/US2008/074840

申请日：2008-08-29

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  HENDEL, Rudolf ,  RAO, Zhilong ,  LIU, Kuo-Shih ,  MACK, Chris, A. ,  PETERSEN, John, S. ,  PALMER, Shane

Inventor： HENDEL, Rudolf ,  RAO, Zhilong ,  LIU, Kuo-Shih ,  MACK, Chris, A. ,  PETERSEN, John, S. ,  PALMER, Shane

IPC: G06F15/18 ,  G06N1/00

CPC classification number: G03F7/7045 ,  G03F7/203 ,  G03F7/70408 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70991

Abstract: Methods and systems are disclosed that provide multiple lithography exposures on a wafer, for example, using interference lithography and optical photolithography. Various embodiments may balance the dosage and exposure rates between the multiple lithography exposures to provide the needed exposure on the wafer. Other embodiments provide for assist features and/or may apply resolution enhancement to various exposures. In a specific embodiment, a wafer is first exposed using optical photolithography and then exposed using interference lithography.

Abstract translation: 公开了在晶片上提供多次光刻曝光的方法和系统，例如使用干涉光刻和光学光刻。 各种实施方案可平衡多次光刻曝光之间的剂量和曝光速率，以在晶片上提供所需的曝光。 其他实施例提供辅助特征和/或可以对各种曝光应用分辨率增强。 在具体实施例中，首先使用光学光刻曝光晶片，然后使用干涉光刻曝光。

公开(公告)号：WO2009029823A1

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：PCT/US2008/074838

申请日：2008-08-29

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  HENDEL, Rudolf ,  LIU, Kuo-Shih

Inventor： HENDEL, Rudolf ,  LIU, Kuo-Shih

IPC: G03B27/42

CPC classification number: G03F7/7045 ,  G03F7/70408 ,  G03F7/70991

Abstract: A lithography scanner and track system is provided that includes an interference lithography system according to one embodiment. The scanner provides a first optical exposure of a wafer. The track system provides pre and post-processing functions on a wafer. The interference lithography system may be included within the scanner and may expose a wafer either before or after the first optical exposure. The interference lithography system may also be included within the track system as part of the pre or post processing. The first optical exposure may include optical photolithography.

Abstract translation: 提供了一种包括根据一个实施例的干涉光刻系统的光刻扫描器和轨道系统。 扫描器提供晶片的第一光学曝光。 轨道系统在晶片上提供预处理和后处理功能。 干涉光刻系统可以包括在扫描仪内，并且可以在第一光学曝光之前或之后暴露晶片。 干涉光刻系统也可以作为前处理或后处理的一部分包括在轨道系统内。 第一光学曝光可以包括光学光刻。

公开(公告)号：WO2005083513A3

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：PCT/US2004033432

申请日：2004-10-07

Applicant: INTEL CORP

Inventor： BORODOVSKY YAN

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70433 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/203 ,  G03F7/70408 ,  H01L21/0273

Abstract: Systems and techniques for printing substrates. In one implementation, a method includes patterning a substrate with a substantially arbitrary arrangement of features by introducing irregularity into an array of repeating lines and spaces between the lines.

Abstract translation: 用于印刷基材的系统和技术。 在一个实施方案中，一种方法包括通过将不规则性引入到线之间的重复线和间隔的阵列中，以基本上任意的特征排列来图案化衬底。

公开(公告)号：WO2005083513A2

公开(公告)日：2005-09-09

申请号：PCT/US2004/033432

申请日：2004-10-07

Applicant: INTEL CORPORATION

Inventor： BORODOVSKY, Yan

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/70433 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/203 ,  G03F7/70408 ,  H01L21/0273

Abstract: Systems and techniques for printing substrates. In one implementation, a method includes patterning a substrate with a substantially arbitrary arrangement of features by introducing irregularity into an array of repeating lines and spaces between the lines.

Abstract translation: 用于印刷基材的系统和技术。 在一个实施方案中，一种方法包括通过将不规则性引入到线之间的重复线和间隔的阵列中，以基本上任意的特征排列来图案化衬底。

公开(公告)号：WO2005043249A2

公开(公告)日：2005-05-12

申请号：PCT/US2004/034599

申请日：2004-10-18

Applicant: INTEL CORPORATION ,  BORODOVSKY, Yan

Inventor： BORODOVSKY, Yan

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70408 ,  G03F7/7045

Abstract: A composite patterning technique may include two lithography processes. A first lithography process may use interference lithography to form an interference pattern of lines of substantially equal width and spaces on a photoresist. A second lithography process may use one or more non-interference lithography techniques, such as optical lithography, imprint lithography and electron-beam lithography, to break continuity of the patterned lines and form desired integrated circuit features.

Abstract translation: 复合图案化技术可以包括两个光刻工艺。 第一光刻工艺可以使用干涉光刻来在光刻胶上形成宽度基本相等的线和间隔的干涉图案。 第二光刻工艺可以使用诸如光学光刻，压印光刻和电子束光刻的一种或多种非干涉光刻技术来中断图案化线的连续性并且形成期望的集成电路特征。

公开(公告)号：WO2005040920A2

公开(公告)日：2005-05-06

申请号：PCT/US2004033434

申请日：2004-10-07

Applicant: INTEL CORP ,  BORODOVSKY YAN

Inventor： BORODOVSKY YAN

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70408 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/70433

Abstract: Systems and techniques for printing substrates. In one implementation, a method includes patterning a substrate with a substantially arbitrary arrangement of features by introducing irregularity into a repeating array of features.

Abstract translation: 用于印刷基材的系统和技术。 在一个实施方式中，一种方法包括通过将不规则性引入特征的重复阵列中，以基本上任意的特征排列图案化基板。