公开(公告)号：WO2017108993A1

公开(公告)日：2017-06-29

申请号：PCT/EP2016/082239

申请日：2016-12-21

Applicant: DUBLIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY

Inventor： NAYDENOVA, Izabela ,  ZAWADZKA, Monika ,  MARTIN, Suzanne ,  CODY, Dervil ,  TOAL, Vincent ,  MIKULCHYK, Tatsiana

IPC: G03H1/02 ,  G03H1/20

CPC classification number: G03H1/20 ,  G03F7/001 ,  G03F7/2002 ,  G03H1/0248 ,  G03H1/0404 ,  G03H1/16 ,  G03H1/182 ,  G03H2001/0016 ,  G03H2001/0022 ,  G03H2001/0224 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2001/185 ,  G03H2001/207 ,  G03H2001/2675 ,  G03H2225/60 ,  G03H2250/42 ,  G03H2260/12

Abstract: The invention optical device comprising a self-processing photopolymer material configured to produce a variable two- or three- dimensional diffraction pattern when said material is illuminated by a light source. The invention provides a new material science and process technology which produces a serialisable anti-counterfeit optical device, based on a self-processing photopolymer.

Abstract translation: 本发明的光学装置包括自处理光敏聚合物材料，其被配置为当所述材料被光源照射时产生可变的二维或三维衍射图案。 本发明提供了一种新的材料科学和工艺技术，该技术基于自加工光敏聚合物生产可串行化的防伪光学装置。

公开(公告)号：WO2004084414A3

公开(公告)日：2005-03-24

申请号：PCT/US0337867

申请日：2003-11-24

Applicant: THOR GAUTAM ,  SIDDIQI MANSOOR

Inventor： THOR GAUTAM ,  SIDDIQI MANSOOR

IPC: G03H1/08 ,  G02B5/32

CPC classification number: G03H1/0841 ,  G03H1/0276 ,  G03H1/0891 ,  G03H1/30 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2001/0825 ,  G03H2001/2292 ,  G03H2210/20 ,  G03H2210/441 ,  G03H2270/23

Abstract: Methods and apparatus for making, encoding, and encrypting binary patterns for storing recorded information. One of the methods includes the steps of providing an original image, framenting the original image into at least two parts including a first part and a second part, forming a mirror image of one of the at least two parts, inverting the first and second parts, forming a binary pattern of the first part and the second part, and forming a mirror image of the binary pattern of the one of the at least two parts. In this method the binary pattern in each of the parts includes information representing a respective portion of the original image.

Abstract translation: 用于制作，编码和加密用于存储记录信息的二进制模式的方法和装置。 其中一种方法包括以下步骤：提供原始图像，将原始图像扯成至少包括第一部分和第二部分的两个部分，形成至少两个部分中的一个的镜像，将第一和第二部分 形成第一部分和第二部分的二进制图案，以及形成至少两个部分之一的二进制图案的镜像。 在该方法中，每个部分中的二进制图案包括表示原始图像的相应部分的信息。

公开(公告)号：WO1992001973A2

公开(公告)日：1992-02-06

申请号：PCT/US1991005085

申请日：1991-07-18

Applicant: McGREW, Stephen, P.

IPC: G03F07/00

CPC classification number: G03H1/0276 ,  G03F7/00 ,  G03H1/028 ,  G03H1/04 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2001/0296 ,  G03H2001/043 ,  G03H2001/0482 ,  G03H2223/14 ,  G03H2224/04 ,  G03H2225/11 ,  G03H2260/14 ,  G03H2260/63 ,  G03H2270/13 ,  G03H2270/21

Abstract: A method and apparatus for producing durable embossing tools is disclosed. An anisotropic etching process, such as ion etching, is used to etch a relief pattern into a hard substrate. A transfer layer is formed overlaying a generally smooth, seamless surface region of a substrate. A desired relief pattern is formed in the transfer layer, by exposing a photoresist, embossing, or the like. The substrate having the photoresist thereon is subjected to an anisotropic etch. The anisotropic etch continues until the transfer layer is completely removed and the relief pattern is formed in the upper surface of the embossing tool. The relative etch rates between the transfer layer and the surface region of the embossing tool are selected to provide the desired depth modulation in the surface of the embossing tool. An embossing tool produced according to the invention has a relatively hard surface and may thus be used for the mass production of holographic images without significant degradation of the pattern. Because the embossing tool can be made from an extremely hard material such as chromium or hardened steel, materials which previously could not be economically embossed with holograms, such as aluminum or steel, may now be embossed by an embossing tool made according to this invention.

Abstract translation: 公开了一种生产耐用压花工具的方法和设备。 使用诸如离子蚀刻的各向异性蚀刻工艺将浮雕图案蚀刻成硬质衬底。 形成覆盖基板的大致光滑，无缝的表面区域的转印层。 通过曝光光致抗蚀剂，压花等，在转印层中形成所需的浮雕图案。 对其上具有光致抗蚀剂的基板进行各向异性蚀刻。 各向异性蚀刻继续，直到转印层被完全去除，并且浮雕图案形成在压花工具的上表面中。 选择转印层和压花工具的表面区域之间的相对蚀刻速率以在压花工具的表面中提供期望的深度调制。 根据本发明制造的压花工具具有相对较硬的表面，因此可用于大量生产全息图像而不会显着降低图案。 由于压花工具可以由诸如铬或硬化钢之类的非常硬的材料制成，所以以前不能经济地压印全息图的材料，例如铝或钢，现在可以通过根据本发明制造的压花工具来压花。

公开(公告)号：WO2010128891A1

公开(公告)日：2010-11-11

申请号：PCT/RU2010/000166

申请日：2010-04-07

Applicant: НИЗИЕНКО, Юрий Константинович

Inventor： НИЗИЕНКО, Юрий Константинович

IPC: G09F3/00 ,  G03H1/00 ,  A44C17/00

CPC classification number: G03H1/0011 ,  G03H1/0244 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2001/2231 ,  G03H2224/04

Abstract: Поверхность метки полируют и наносят на нее технологический слой, через который на поверхности создают оптически визуализируемое в отраженном свете под углом дифракции изображение метки в виде дифракционной структуры. Структуру организуют по типу отражательной фазовой дифракционной решетки и формируют посредством ионного травления поверхности совместно со структурой технологического слоя. Перед образованием на поверхности метки в технологическом слое формируют дифракционную структуру в виде регулярного микрорельефа синусоидального профиля, путем обеспечения абляции материала слоя посредством импульса интерферируемых пучков когерентного лазерного излучения. В результате в технологическом слое образуют дифракционную структуру с голографической точностью. Структуру формируют путем частичного удаления толщины материала технологического слоя. Изображения метки в виде дифракционной структуры на маркируемой поверхности также образуют с голографической точностью посредством интерферируемых когерентных лазерных пучков. Осуществляют экспонирование ионным пучком сформированной в технологическом слое дифракционной структуры.

Abstract translation: 抛光表面，对其施加处理层，通过该层，以衍射结构的形式在上述表面上形成能够以衍射角在反射光中可光学可见的标记的图像。 该结构以反射相位衍射光栅的方式布置，并且通过与处理层的结构离子蚀刻该表面而形成。 在表面上形成标记之前，通过用相干激光辐射的干涉光束的脉冲对其材料进行烧蚀，在处理层中形成具有正弦曲线的规则微结构形式的衍射结构。 结果，衍射结构以全息精度形成在处理层中。 该结构通过部分去除处理层材料的厚度而形成。 在要标记的表面上的衍射结构形式的标记的图像也通过干涉相干激光束以全息精度形成。 在处理层中形成的衍射结构暴露于离子束。

公开(公告)号：WO2006007635A1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：PCT/AU2005/001041

申请日：2005-07-15

Applicant: SECURENCY PTY LIMITED ,  NEMETH, Joshua, Robert ,  POWER, Gary, Fairless

Inventor： NEMETH, Joshua, Robert ,  POWER, Gary, Fairless

IPC: B42D15/10

CPC classification number: B42D25/435 ,  B41M3/14 ,  B41M5/24 ,  B42D25/00 ,  B42D25/23 ,  B42D25/309 ,  B42D25/313 ,  B42D25/328 ,  G03H1/0011 ,  G03H1/02 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2001/0478 ,  G03H2224/06 ,  G03H2250/33 ,  G03H2260/62 ,  Y10S430/146

Abstract: A method of producing a security document or article including a substrate (100), which is transparent at least to visible light, and a diffractive optical microstructure (112). The method includes applying an opacifying layer (102) to at least one surface of the transparent substrate (100). An area of the opacifying layer (102) is exposed to laser radiation (108) to a~ ate apertures (110) in selected portions of the opacifying layer (102), thereby forming a diffractive optical microstructure (112) on the surface of the substrate (100). The laser radiation may be patterned prior to exposing the opacifying layer (102), for example by passing the radiation through a mask (104). Alternatively, a focussed or collimated laser beam (206) may be directed onto the selected portions of the opacifying layer (102). Laser radiation may be directed onto the opacifying layer (102) either directly, or through the transparent substrate (100). Security documents or articles made in accordance with the method are also provided.

Abstract translation: 一种制造安全文件或物品的方法，包括至少对可见光透明的基板（100）和衍射光学微结构（112）。 该方法包括将不透明层（102）施加到透明基板（100）的至少一个表面上。 不透明层（102）的区域在不透明层（102）的选定部分中暴露于激光辐射（108）到达孔（110），从而在所述不透明层（102）的表面上形成衍射光学微结构（112） 基板（100）。 在暴露不透明层（102）之前，可以将激光辐射图案化，例如通过使辐射通过掩模（104）。 或者，聚焦或准直的激光束（206）可以被引导到不透明层（102）的选定部分上。 激光辐射可以直接或通过透明基底（100）引导到遮光层（102）上。 还提供了按照该方法制作的安全文件或物品。

公开(公告)号：WO2004084414A2

公开(公告)日：2004-09-30

申请号：PCT/US2003/037867

申请日：2003-11-24

Applicant: THOR, Gautam ,  SIDDIQI, Mansoor

Inventor： THOR, Gautam ,  SIDDIQI, Mansoor

IPC: H03M

CPC classification number: G03H1/0841 ,  G03H1/0276 ,  G03H1/0891 ,  G03H1/30 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2001/0825 ,  G03H2001/2292 ,  G03H2210/20 ,  G03H2210/441 ,  G03H2270/23

Abstract: Methods for incorporating information, within the same or in distinct physical locations, in the form of patterns represented by visual, audio or electronic formats, that originate from a single source but that carry encrypted, complementary 5 information, and such patterns upon appropriate interrogation, regenerate the original. Covert images are created using inverse functions like Fourier transformations of one or more sets of complementary patterns from the original. Covert or hidden images are prepared by methods including converting the spatial domains to the frequency domain of at least a portion of the original image that has been sampled or generated by the computer. Techniques based on phase contrast modulation are also provided. Binary patterns transform the amplitude/phase values of a signal into encoded messages. These are invisible to the naked eye unless viewed using limited-extent sources of light. Methods and apparatus for making, encoding, and encrypting binary patterns for storing recorded information are also provided. One method includes the steps of providing an original image, fragmenting the original image into at least first and second parts, forming a mirror image of one of the a least two parts, inverting the first and second parts, forming a binary pattern of the first part and the second part, and forming a mirror image of the binary pattern of the one of the a least two parts. In this method the binary pattern in each of the parts includes information representing a respective portion of the original image.

Abstract translation: 在相同或不同的物理位置内以以视觉，音频或电子格式表示的图案形式的信息的信息的方法，其源于单个来源，但是在适当询问时携带加密的，补充的5个信息以及这些模式， 再生原来的。 使用从原始的一组或多组互补模式的傅里叶变换的逆函数创建隐蔽图像。 通过包括将空间域转换为由计算机采样或生成的原始图像的至少一部分的频域的方法来准备隐蔽或隐藏的图像。 还提供了基于相位调制技术。 二进制模式将信号的振幅/相位值转换成编码信息。 除非使用有限的光源来观察，否则这些肉眼看不见。 还提供了用于制作，编码和加密用于存储记录信息的二进制模式的方法和装置。 一种方法包括以下步骤：提供原始图像，将原始图像分段成至少第一和第二部分，形成至少两个部分之一的镜像，反转第一和第二部分，形成第一和第二部分的二进制图案 部分和第二部分，并形成至少两个部分之一的二进制图案的镜像。 在该方法中，每个部分中的二进制图案包括表示原始图像的相应部分的信息。

公开(公告)号：WO2016181253A1

公开(公告)日：2016-11-17

申请号：PCT/IB2016/052499

申请日：2016-05-03

Applicant: MORPHOTONIX SARL

Inventor： AUZELYTE, Vaida ,  SAVU, Veronica

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G03H1/02 ,  G03H1/0244 ,  G03H1/0276 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2260/63 ,  G03H2270/31

Abstract: Method of patterning a surface of an object or a tool with nano and/or micro structure elements having dimensions in a range of 1 nanometer to 1 millimeter, comprising the steps of producing a flexible mask with said nano or micro structure pattern formed on a surface of said flexible mask, chemically activating said surface of the flexible mask and/or said surface to be patterned of the tool, placing said patterned surface of the flexible mask in contact with said surface to be patterned of the object or tool, promoting a covalent bonding reaction between said patterned surface of the flexible mask in contact with said surface to be patterned, removing the flexible mask from the tool whereby a layer of said flexible mask remains bonded to said surface to be patterned of the tool, etching said surface to be patterned of the tool whereby the bonded layer of flexible mask material resists etching. An anti-activation mask defining a periphery of the surface area to be patterned, or peripheries of the surface area to be patterned if there are a plurality of separate portions of surface area to be patterned, is deposited on the flexible mask prior to placing the patterned surface of the flexible mask on the surface to be patterned. The anti-activation mask prevents bonding of the flexible mask to the surface of the object or tool in areas where the anti-activation mask is present.

Abstract translation: 图案化具有尺寸在1纳米至1毫米范围内的纳米和/或微结构元件的物体或工具的表面的方法，包括以下步骤：制备具有形成在表面上的所述纳米或微结构图案的柔性掩模 的所述柔性掩模，化学活化所述柔性掩模的所述表面和/或所述工具的图案化表面，将所述柔性掩模的所述图案化表面与要被图案化的物体或工具的表面接触，促进共价 所述柔性掩模的所述图案化表面与待图案化的所述表面接触，从而将所述柔性掩模从所述工具移除，由此所述柔性掩模的层保持结合到所述要被图案化的工具的表面上，将所述表面蚀刻为 图案化的工具，由此柔性掩模材料的粘合层抵抗蚀刻。 如果存在要被图案化的表面区域的多个分开的部分，则定义要被图案化的表面区域的周边或要被图案化的表面区域的周边的抗激活掩模被放置在柔性掩模之前， 在要图案化的表面上的柔性掩模的图案化表面。 抗激活掩模防止柔性掩模在存在抗激活掩模的区域中与物体或工具的表面接合。

公开(公告)号：WO2016068091A1

公开(公告)日：2016-05-06

申请号：PCT/JP2015/080141

申请日：2015-10-26

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 佐藤　知枝 ,  北村　満 ,  衛藤　浩司 ,  山内　豪 ,  老川　伸子

IPC: G03H1/02 ,  B42D25/328 ,  E06B9/24 ,  F21S6/00 ,  F21V1/00 ,  G03H1/04 ,  F21Y115/10

CPC classification number: G03H1/024 ,  B42D25/328 ,  E06B7/28 ,  E06B9/24 ,  F21S6/00 ,  F21S6/002 ,  F21V1/00 ,  G03H1/0011 ,  G03H1/02 ,  G03H1/0236 ,  G03H1/04 ,  G03H1/08 ,  G03H1/16 ,  G03H1/2249 ,  G03H1/2286 ,  G03H1/30 ,  G03H2001/0055 ,  G03H2001/0216 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2001/261 ,  G03H2240/22 ,  G03H2240/43 ,  G03H2260/14 ,  G09F9/30 ,  G09F19/12 ,  G09F23/00 ,  G09F23/04

Abstract: 　表示物（１０）は、複数の表示領域（１２、１３ａ～１３ｃ）を備えている。互いに隣り合う表示領域は、平均色相、平均明度、および平均彩度のうち少なくとも１つが異なり、複数の表示領域（１２、１３ａ～１３ｃ）の組み合わせで第１表示対象（２１）が形成されるようになっている。少なくとも１つの表示領域（１２、１３ａ～１３ｃ）は、点光源から入射する光を第２表示対象の光像へ変換するフーリエ変換ホログラム（２０Ｒ、２０Ｙ）を含む。

Abstract translation: 该显示对象（10）具有多个显示区域（12,13a-13c）。 相邻的显示区域在平均颜色，平均亮度和平均色度中的至少一个方面是不同的，并且要显示的第一被摄体（21）由多个显示区域（12,13a- 13C）。 显示区域（12,13a-13c）中的至少一个包括用于将从点光源入射的光变换为要显示的第二被摄体的光图像的傅里叶变换全息图（20R，20Y）。

公开(公告)号：WO01000418A1

公开(公告)日：2001-01-04

申请号：PCT/AU2000/000726

申请日：2000-06-27

IPC: G02B5/18 ,  B23K26/00 ,  B41M3/14 ,  B41M5/24 ,  B42D15/00 ,  B42D15/10 ,  B42D25/00 ,  B42D25/29 ,  B42D25/328 ,  B42D25/41 ,  B42D25/42 ,  B44F1/12 ,  G08B13/187

CPC classification number: G03H1/02 ,  B41M3/14 ,  B41M5/24 ,  B41M5/36 ,  B42D25/00 ,  B42D25/29 ,  B42D25/328 ,  B42D25/41 ,  B42D25/42 ,  B42D2035/20 ,  B42D2035/26 ,  G03H1/0011 ,  G03H1/0244 ,  G03H1/0276 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2260/62

Abstract: A method of producing a security document or device comprising a substrate and an optically diffractive device, the method comprising the step of: irradiating an area of the substrate (2) on one surface with patterned laser radiation to ablate selected portions of the surface and thereby form an optically diffractive structure in said one surface. A method of producing a security document or device comprising a substrate and an optically variable device, such as a means for creating polarisation patterns, the method comprising the step of: exposing an area of the substrate on one surface to a light source which causes photo-polymerisation of the substrate which in turn produces a polarisation state or pattern.

Abstract translation: 一种制造包括基板和光学衍射装置的安全文件或装置的方法，所述方法包括以下步骤：用图案化的激光辐射在一个表面上照射基板（2）的区域以消除所述表面的选定部分，从而 在所述一个表面中形成光学衍射结构。 一种制造安全文件或装置的方法，包括基板和光学可变装置，例如用于产生偏振图案的装置，该方法包括以下步骤：将一个表面上的基板的区域曝光到引起照片的光源 基底的聚合反过来又产生极化状态或图案。

公开(公告)号：WO9201973A3

公开(公告)日：1992-03-19

申请号：PCT/US9105085

申请日：1991-07-18

Applicant: MCGREW STEPHEN P

Inventor： MCGREW STEPHEN P

IPC: G03F7/00 ,  G03H1/02 ,  G03H1/04 ,  G02B5/32 ,  G03H1/18

CPC classification number: G03H1/0276 ,  G03F7/00 ,  G03H1/028 ,  G03H1/04 ,  G03H2001/0292 ,  G03H2001/0296 ,  G03H2001/043 ,  G03H2001/0482 ,  G03H2223/14 ,  G03H2224/04 ,  G03H2225/11 ,  G03H2260/14 ,  G03H2260/63 ,  G03H2270/13 ,  G03H2270/21

Abstract: A method and apparatus for producing durable embossing tools is disclosed. An anisotropic etching process, such as ion etching, is used to etch a relief pattern into a hard substrate. A transfer layer is formed overlaying a generally smooth, seamless surface region of a substrate. A desired relief pattern is formed in the transfer layer, by exposing a photoresist, embossing, or the like. The substrate having the photoresist thereon is subjected to an anisotropic etch. The anisotropic etch continues until the transfer layer is completely removed and the relief pattern is formed in the upper surface of the embossing tool. The relative etch rates between the transfer layer and the surface region of the embossing tool are selected to provide the desired depth modulation in the surface of the embossing tool. An embossing tool produced according to the invention has a relatively hard surface and may thus be used for the mass production of holographic images without significant degradation of the pattern. Because the embossing tool can be made from an extremely hard material such as chromium or hardened steel, materials which previously could not be economically embossed with holograms, such as aluminum or steel, may now be embossed by an embossing tool made according to this invention.