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    画像表示装置
    1.
    发明申请
    画像表示装置 审中-公开
    图像显示设备

    公开(公告)号：WO2018034131A1

    公开(公告)日：2018-02-22

    申请号：PCT/JP2017/027605

    申请日：2017-07-31

    Applicant: コニカミノルタ株式会社

    Inventor： 稲垣　義弘

    IPC: G02B27/02 ,  B81B7/02 ,  G09G3/02 ,  G09G3/20 ,  H02N2/12 ,  H04N5/64 ,  G02B26/08 ,  G02B26/10

    CPC classification number: B81B7/02 ,  G02B5/32 ,  G02B26/0833 ,  G02B26/105 ,  G02B27/0103 ,  G02B27/0172 ,  G02B2027/0174 ,  G03H1/0248 ,  G03H1/265 ,  G03H1/30 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2001/043 ,  G03H2260/54 ,  G09G3/001 ,  G09G3/003 ,  G09G3/025 ,  G09G3/20 ,  G09G2320/0233 ,  G09G2320/064 ,  H02N2/12 ,  H04N5/64

    Abstract: 安価でありながら、小型でありながらホログラムを用いて適切な画像を表示できる画像表示装置を提供する。単独露光ホログラムと多重露光ホログラムとを並べて配置した表示部と、前記単独露光ホログラムと前記多重露光ホログラムに向かって光を出射する複数の光学ユニットと、前記光学ユニットから出射される光の量を少なくとも部分的に制御する制御部とを有する画像表示装置において、前記制御部は、前記単独露光ホログラムと前記多重露光ホログラムとの境界を挟んで、前記単独露光ホログラム側から出射されて前記観察者の目に入射する回折光の強度と、前記多重露光ホログラム側から出射されて前記観察者の目に入射する回折光の強度とが近づくように、前記光学ユニットから出射される光の量を制御する。

    Abstract translation: 而

    便宜的，提供一种能够使用全息图，但紧凑显示相应的图像的图像显示装置。 显示单元并排设置并独立曝光全息图和多次曝光的全息图，用于朝向所述多个曝光全息图和独立曝光的全息图，光从光学单元发出的光量发光的多个光学单元中的至少 在图像显示装置和控制单元，用于部分地控制，所述控制单元，所述单夹心曝光全息图和多重曝光的全息图之间的边界时，观察者的眼睛从独立曝光全息侧射出 和衍射光入射到这样复用和强度的衍射光曝光的强度发射从全息侧进入观察者的方法的眼中，控制光从光学单元发出的光量。

    TRANSFLECTIVE HOLOGRAPHIC FILM FOR HEAD WORN DISPLAY
    3.
    发明申请
    TRANSFLECTIVE HOLOGRAPHIC FILM FOR HEAD WORN DISPLAY 审中-公开
    用于头部显示的透射全息膜

    公开(公告)号：WO2014115095A2

    公开(公告)日：2014-07-31

    申请号：PCT/IB2014/058487

    申请日：2014-01-23

    Applicant: ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE (EPFL)

    Inventor： MOSER, Christophe ,  GUILLAUMÉE, Mickael ,  TREMBLAY, Eric ,  BRUGGER, Juergen ,  CADARSO, Victor ,  GROSSENBACHER, Jonas

    IPC: G02B27/01

    CPC classification number: G02B27/0172 ,  G02B3/0006 ,  G02B5/32 ,  G02B2027/0118 ,  G02B2027/0174 ,  G02C7/044 ,  G03H1/0248 ,  G03H1/0252 ,  G03H1/0402 ,  G03H1/041 ,  G03H1/0465 ,  G03H1/181 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2001/0415 ,  G03H2001/043 ,  G03H2001/0439 ,  G03H2222/18 ,  G03H2223/19 ,  G03H2270/21

    Abstract: A display panel assembly comprises a transflective holographic screen, i.e., a transparent screen that reflects light from a projection system, comprising at least a volume hologram, a first protective element and a second protective element, each arranged in contact with the volume hologram such that the volume hologram is sandwiched between the first protective element and the second protective element. The display panel assembly further comprises a projection system focusing an image on the volume hologram comprising at least projection optics, mounting means arranged to fixedly mount the projection system relatively to the transflective holographic screen. The volume hologram comprises a plurality of diffractive patterns disposed in sequence across the volume hologram, each of the plurality of diffractive patterns being configured to diffuse the light rays from the projection system in a determined direction corresponding to the specific diffractive pattern and oriented towards a position of an intended eye of a user wearing the display panel assembly.

    Abstract translation: 显示面板组件包括半透反射全息屏幕，即反射来自投影系统的光的透明屏幕，该透明屏幕包括至少一个体积全息图，第一保护元件和第二保护元件，每个被布置 与体积全息图接触，使得体积全息图夹在第一保护元件和第二保护元件之间。 显示面板组件还包括将图像聚焦在体积全息图上的投影系统，所述体积全息图至少包括投影光学器件，安装装置被设置为将投影系统相对于半透射全息屏幕固定地安装。 体积全息图包括沿体积全息图顺序布置的多个衍射图案，多个衍射图案中的每一个被配置为在对应于特定衍射图案的确定方向上漫射来自投影系统的光线并且朝向位置 佩戴显示面板组件的用户的预期眼睛的一部分。

    SEAMLESS HOLOGRAPHIC EMBOSSING SUBSTRATE PRODUCED BY LASER ABLATION
    4.
    发明申请
    SEAMLESS HOLOGRAPHIC EMBOSSING SUBSTRATE PRODUCED BY LASER ABLATION 审中-公开
    由激光雷射产生的无缝全息雕刻基板

    公开(公告)号：WO2005053115A3

    公开(公告)日：2006-01-05

    申请号：PCT/US2004034814

    申请日：2004-10-20

    Applicant: ILLINOIS TOOL WORKS ,  KUTSCH WILHELM P ,  HEATH ANTHONY W ,  GAGNON JEFFREY S

    Inventor： KUTSCH WILHELM P ,  HEATH ANTHONY W ,  GAGNON JEFFREY S

    IPC: G03H1/30 ,  G03H1/04

    CPC classification number: G03H1/028 ,  G03H1/30 ,  G03H2001/0296 ,  G03H2001/043 ,  G03H2001/0482 ,  G03H2001/0497 ,  G03H2260/62 ,  G03H2270/21

    Abstract: Laser ablation to direct write dot matrix holographic patterns onto the surface of polymeric coatings deposited on an embossing cylinder is described. The desired holographic pattern is ablated by interfering at least two laser beams directly onto the polymeric coating of the embossing cylinder in the pixel-by-pixel manner. The direct write laser ablation technique eliminates the size limitations of the holographic pattern created on the surface of the embossing cylinder, the need to combine smaller images to create a larger shim and the very need to use the shims, since large seamless embossing cylinders can be directly pixel-by-pixel ablated with larger sized images of great variety. The polymeric coatings for further direct write laser ablation can be deposited onto the embossing cylinder by various methods, including, but not limited to, molding or coating.

    Abstract translation: 描述了激光烧蚀以将写入点阵全息图案直接写在沉积在压花圆筒上的聚合物涂层的表面上。 通过以逐像素的方式将至少两个激光束直接干涉到压花圆筒的聚合物涂层上来消除所需的全息图案。 直接写入激光烧蚀技术消除了在压花圆筒表面上产生的全息图案的尺寸限制，需要组合更小的图像以产生更大的垫片，并且非常需要使用垫片，因为大的无缝压花圆筒可以是 直接逐个像素地消除与大尺寸的图像的大品种。 用于进一步直接写入激光烧蚀的聚合物涂层可以通过各种方法沉积到压花滚筒上，包括但不限于模制或涂覆。

    TECHNIQUE FOR MICROSTRUCTURING REPLICATION MOULDS
    5.
    发明申请
    TECHNIQUE FOR MICROSTRUCTURING REPLICATION MOULDS 审中-公开
    微结构复制技术的技术

    公开(公告)号：WO01074560A3

    公开(公告)日：2001-12-20

    申请号：PCT/GB2001/001485

    申请日：2001-04-02

    IPC: B29C33/38 ,  B29C33/42 ,  B29C45/37 ,  G02B5/18 ,  G03H1/04

    CPC classification number: G02B5/1866 ,  B29C33/3842 ,  B29C33/424 ,  B29C45/372 ,  B29L2011/0016 ,  G02B5/008 ,  G03H1/04 ,  G03H2001/0284 ,  G03H2001/043 ,  G03H2260/14 ,  G03H2260/63

    Abstract: A surface microstructure is superimposed on the surface of a replication mould such as an injection moulding tool insert by laser interference exposure of a mask pattern and etching or electroplating the additional microstructure. The technique enables the post-processing of planar and non-planar replication moulds with additional microstructure to improve the functionality and value of the moulded components. A major area of application is an anti-reflection surface for injection moulded polymer optical components, achieved by the superposition of submicrometer anti-reflection grating structure onto injection moulding tool inserts.

    Abstract translation: 通过掩模图案的激光干涉曝光和蚀刻或电镀附加微结构，将表面微结构叠加在复制模具的表面上，例如注模工具插入物。 该技术使得具有附加微结构的平面和非平面复制模具的后处理能够改善模制部件的功能和价值。 主要的应用领域是注射聚合物光学部件的抗反射表面，其通过将亚微米防反射光栅结构叠加到注塑成型工具插入件上实现。

    DIFFRACTION GRATING AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
    9.
    发明申请
    DIFFRACTION GRATING AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME 审中-公开
    衍射光栅及其制造方法

    公开(公告)号：WO2006108539A2

    公开(公告)日：2006-10-19

    申请号：PCT/EP2006003078

    申请日：2006-04-05

    Applicant: GIESECKE & DEVRIENT GMBH ,  KAULE WITTICH

    Inventor： KAULE WITTICH

    IPC: G03H1/30 ,  B42D15/10 ,  G02B5/18 ,  G07D7/12

    CPC classification number: G07D7/128 ,  G02B5/1842 ,  G02B5/1847 ,  G03H1/0808 ,  G03H1/2249 ,  G03H1/30 ,  G03H2001/0016 ,  G03H2001/043 ,  G03H2001/0482 ,  G03H2210/20 ,  G07D7/0032

    Abstract: The invention relates to a method for producing a diffraction grating (20) for a diffractive optical element having one or more subareas (22) which comprises respective grating patterns defined by a grating constant and an angular orientation. The inventive method is characterized by setting the position of at least one source (12) from which radiation is incident on the diffraction grating (20) and the position of at least one target (18) towards which the diffraction grating (20) is intended to deflect the radiation. The spatial position and orientation of the subareas (22) and the grating constant and the angular orientation of the grating patterns required to deflect the radiation incident from the source (12) on the diffraction grating (20) towards the target (18) is determined using a local vector relation which correlates the orientation of the grating in a three-dimensional space with the incident and emergent radiation and the position and orientation of the grating patterns.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于衍射光学元件的衍射光栅（20）的制造方法，该衍射光学元件具有一个或多个子区域（22），每个子区域包含由晶格常数和角度取向限定的晶格图案。 在该方法中，所述至少一个源（12）从放射线的入射到所述衍射光栅（20）的位置，和至少一个目标（18），朝向所述衍射光栅（20）的位置到偏转给出的辐射。 子区域的空间位置和方向（22）与晶格常数和所需要的从源（12）到所述衍射光栅上的目标（20）入射的辐射（18）向下转移格栅图案的角取向，可以 使用局部矢量关系确定哪些链接三维空间中的网格的方向，入射和出射辐射以及网格图案的位置和方向。

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