Abstract:
본 발명은 두 가지 이상의 특성엑스선을 동시에 발생시키거나 특정한 특성엑스선을 선택적으로 또는 두 가지 이상의 특정한 특성엑스선을 각각 연속해서 발생시킴으로써 용도에 적합한 다양한 특성엑스선을 발생시킬 수 있고, 전자빔과 다중 타겟의 충돌에 의해 회전 양극에서 발생하는 열의 방열효율을 높여 고휘도의 특성엑스선을 장시간 발생시킬 수 있는 다중타겟 및 다중전자빔을 구비한 엑스선 발생장치를 제공함에 있다. 이를 구현하기 위한 본 발명은, 음극 필라멘트(230)로부터 방출된 전자빔이 양극의 다중 타겟(330)에 충돌 및 반사되어 엑스선을 방출하도록 내부에 진공실(120)을 구비하는 케이스(100); 상기 케이스(100)의 내부 일측에 구비되며, 인가되는 전압에 의해 가열되어 전자빔을 방출하는 복수의 필라멘트(230a,230b,230c)로 구성된 다중 음극 필라멘트(230)를 구비하는 음극부(200); 상기 복수의 필라멘트(230a,230b,230c)에 각각 대응하도록 회전 양극 원통부(310)의 외주면 둘레에 축방향으로 이격되어 복수로 구비되며, 서로 다른 원소로 이루어진 타겟(330a,330b,330c)으로 구성된 다중 타겟(330)을 구비하는 양극부(300); 및 상기 전자빔의 충돌 시 상기 양극부(300)에서 발생하는 열을 상기 케이스(100)의 외부로 방열하기 위한 냉각부(400);를 포함하여 구성된다.
Abstract:
An anode (30) is formed by building a carbon, such as a carbon reinforced carbon composite, or other ceramic substrate (50). A ductile, refractory metal is electroplated on the ceramic substrate to form a refractory metal carbide layer (52) and a ductile refractory metal layer (54), at least on a focal track portion (36). A high-Z refractory metal is vacuum plasma sprayed on the ductile refractory metal layer to forma vacuum plasma sprayed high-Z refractory metal layer (56), at least on the focal track portion.
Abstract:
In one example, an x-ray target comprises a target track, a substrate, and a backing. The target track includes a base material and a grain growth inhibitor to reduce or prevent microstructure grain growth in the base material.
Abstract:
본 발명은 진공 유지를 위해 비확산 게터를 이용한 엑스선관에 관한 것으로서, 비확산 게터를 엑스선관 내부에 장착하여 엑스선관 작동시 정격전력을 즉시 인가하여도 필라멘트 및 음극 집속관에서 발생되는 가스와 타겟에서 발생되는 가스가 상존하는 잔류가스에 부가 되더라도 고압전원이 인가되는 순간부터 시작해서 인가되고 있는 동안 가스흡착이 충분히 발휘되어 안정적으로 성능 및 기능이 유지되는 비확산 게터가 장착된 고정양극 엑스선관 및 회전양극 엑스선관의 구조를 제공한다.
Abstract:
A fast dose modulation using a z-deflection in a rotating anode or a rotating frame tube, where the electron beam is deflected from a first focal spot region to a second focal spot region being formed on the anode, wherein only the electromagnetic beam generated in the first focal spot region contributes to the useful electromagnetic exposure beam, wherein the second focal spot region is designed to avoid emission of electromagnetic beams into the direction of a useful electromagnetic beam direction.
Abstract:
La présente invention concerne le domaine de l'instrumentation analytique par rayons X (RX). Elle concerne plus précisément un dispositif de délivrance d'un faisceau de rayons X à haute énergie, typiquement supérieure à 4 keV, pour des applications analytiques par rayons X.