公开(公告)号：WO2022265826A1

公开(公告)日：2022-12-22

申请号：PCT/US2022/030549

申请日：2022-05-23

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： WEWALA GONNAGAHADENIYAGE, Shiyan Akalanka Jayanath ,  CHOCKALINGAM, Ashwin ,  FUNG, Jason G. ,  KAKIREDDY, Veera Raghava Reddy ,  BARADANAHALLI KENCHAPPA, Nandan ,  JAWALI, Puneet Narendra ,  BAJAJ, Rajeev

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/26 ,  H01L21/67

Abstract: Embodiments herein generally relate to polishing pads and methods of forming polishing pads. A polishing pad includes a plurality of polishing elements and a plurality of grooves disposed between the polishing elements. Each polishing element includes a plurality of individual posts. Each post includes an individual surface that forms a portion of a polishing surface of the polishing pad and one or more sidewalls extending downwardly from the individual surface. The sidewalls of the plurality of individual posts define a plurality of pores disposed between the posts.

公开(公告)号：WO2022238618A1

公开(公告)日：2022-11-17

申请号：PCT/FI2022/050303

申请日：2022-05-06

Applicant: CONCRIA OY

Inventor： AHONEN, Mika

IPC: B24B37/04 ,  C04B41/50 ,  C04B41/53 ,  B24B37/24 ,  E04F21/24 ,  C04B2111/60 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5089 ,  C04B41/68 ,  E04F21/245

Abstract: The invention relates to a method for a mechanical treatment of a concrete floor, such as troweling and blade finishing, using a hand-operated, a walk-behind or a ride-on actuator, such as a concrete power trowel machine, a floor treatment machine or the like. The actuator has one or more operating heads comprising a rotor consisting of two or more attachment arms. The floor surface is treated by means of concrete troweling elements, such as circular trowel pans or elongated trowel blades attached to the rotor attachment arms, made substantially of plastic material, that are detachably coupled to the rotor of the actuator, in particular to prevent discoloration of the treated floor surface during treatment. Before the concrete floor is treated with plastic- based concrete troweling elements, a water-soluble silica-based medium (V) is applied on it.

公开(公告)号：WO2022210264A1

公开(公告)日：2022-10-06

申请号：PCT/JP2022/014016

申请日：2022-03-24

Applicant: 富士紡ホールディングス株式会社

Inventor： 立野　哲平 ,  糸山　光紀 ,  関谷　仁志 ,  小池　堅一 ,  栗原　浩 ,  山口　さつき ,  ▲高▼見沢　大和

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/013 ,  C08G18/73 ,  C08G18/75 ,  H01L21/304

Abstract: 研磨層となるポリウレタンシートと、該ポリウレタンシートの開口に設けられた終点検出窓と、を有し、引張モード、周波数１．０Ｈｚ、１０～１００℃の条件で行う前記終点検出窓の動的粘弾性測定において、９０℃における貯蔵弾性率Ｅ'W90が、１．０×１０7Ｐａ以上であり、前記終点検出窓の８０℃におけるＤ硬度（ＤW80）が、４０以上であり、前記終点検出窓の２０℃におけるＤ硬度（ＤW20）が、４０～９０である、研磨パッド。

公开(公告)号：WO2022209389A1

公开(公告)日：2022-10-06

申请号：PCT/JP2022/006388

申请日：2022-02-17

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 並木　計介

IPC: B24B37/22 ,  B24B37/24 ,  B24B37/30 ,  H01L21/304

Abstract: 本発明は、ウェーハなどの基板の研磨に用いられる研磨パッドおよび研磨装置に関する。また、本発明は、ウェーハなどの基板を研磨する方法に関する。研磨パッド（３０）は、少なくとも一部が光透過性材料（３４）と、光透過性材料（３４）に混入された光反応性材料（３５）から構成されている。

公开(公告)号：WO2022201254A1

公开(公告)日：2022-09-29

申请号：PCT/JP2021/011762

申请日：2021-03-22

Applicant: 富士紡ホールディングス株式会社

Inventor： 立野　哲平 ,  松岡　立馬 ,  栗原　浩 ,  山口　さつき ,  ▲高▼見沢　大和

IPC: B24B37/24 ,  H01L21/304

Abstract: 研磨層としてポリウレタンシートを備え、該ポリウレタンシートは、周波数１．６Ｈｚの引張モード条件で行う動的粘弾性測定における４０℃の貯蔵弾性率Ｅ'Ｔ４０に対する、周波数１．６Ｈｚの曲げモード条件で行う動的粘弾性測定における４０℃の貯蔵弾性率Ｅ'Ｂ４０の比（Ｅ'Ｂ４０／Ｅ'Ｔ４０）が、０．６０～１．６０である、研磨パッド。

公开(公告)号：WO2022181787A1

公开(公告)日：2022-09-01

申请号：PCT/JP2022/008014

申请日：2022-02-25

Applicant: 株式会社フジミインコーポレーテッド

Inventor： 天▲高▼　恭祐 ,  片山　浩二 ,  安井　大祐 ,  長谷　英治 ,  菱田　翔太

IPC: B24B37/26 ,  B24B27/00 ,  B24B37/00 ,  B24B37/22 ,  B24B37/24

Abstract: 被研磨面が曲面であっても高い追従性を有する研磨パッドを提供する。本発明の一態様の研磨パッド（１）は、研磨面（２１）を有する研磨層（２）と、研磨層（２）より軟らかい材料からなり、研磨層（２）の研磨面（２１）とは反対側の面（２２）に固定された支持層（３）と、を備え、支持層（３）の硬さはＦ硬度で３０以上７０未満である。

公开(公告)号：WO2022140345A1

公开(公告)日：2022-06-30

申请号：PCT/US2021/064547

申请日：2021-12-21

Applicant: CMC MATERIALS, INC.

Inventor： MILLER, Dustin ,  LEFEVRE, Paul Andre ,  PETERSON, Aaron ,  TSAI, Chen-Chih

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/22 ,  B24B37/26

Abstract: A subpad for a chemical-mechanical polishing pad, the subpad having porogens with polymeric shells. Methods of fabricating the subpad and polishing pads with a polishing surface layer bonded to the subpad layer are also described.

公开(公告)号：WO2022138958A1

公开(公告)日：2022-06-30

申请号：PCT/JP2021/048381

申请日：2021-12-24

Applicant: 富士紡ホールディングス株式会社

Inventor： 河野　哲也

IPC: B24B37/24 ,  C08J5/14 ,  C08J9/02 ,  C08J9/04 ,  H01L21/304

Abstract: 被研磨物に良好な平坦性を付与することができ、かつ、スラリーとの親和性に優れる研磨パッド等を提供する。すなわち、細孔を有する樹脂シートを備える、研磨パッドであって、接触角１３０°、水銀表面張力４８５ｄｙｎ／ｃｍとした水銀圧入法により測定した前記樹脂シートの細孔分布において、０．０１０μｍ以上１．０μｍ以下の細孔径の範囲での積算細孔容積Ｖが０．２１ｃｍ３／ｇ以上１．００ｃｍ３／ｇ以下であり、前記樹脂シートの密度が０．３ｇ／ｃｍ３以上０．９ｇ／ｃｍ３以下である、研磨パッド等を提供する。

公开(公告)号：WO2022045018A1

公开(公告)日：2022-03-03

申请号：PCT/JP2021/030643

申请日：2021-08-20

Applicant: 株式会社トクヤマ

Inventor： 清水　康智 ,  川崎　剛美

IPC: B24B37/24 ,  H01L21/304 ,  B01J13/16

Abstract: 本発明のマイクロバルーンは、イソ（チオ）シアネート基との反応性を有する重合性官能基をマイクロバルーンの表層に有し、該マイクロバルーンの粒径が１０～２００μｍである。本発明のマイクロバルーンをＣＭＰ用研磨パッドに用いることで、優れた研磨特性と研磨パッドの優れた耐久性を発現することが可能となる。

公开(公告)号：WO2021253589A1

公开(公告)日：2021-12-23

申请号：PCT/CN2020/106855

申请日：2020-08-04

Applicant: 齐鲁工业大学 ,  山东省科学院新材料研究所

Inventor： 王旭平 ,  吴丰年 ,  陈芙迪 ,  邱程程 ,  刘冰 ,  张飞 ,  杨程凯

IPC: B28D5/00 ,  B28D5/04 ,  B28D5/02 ,  B28D7/00 ,  B24B1/00 ,  B24B37/24 ,  C30B29/30 ,  C30B33/00 ,  B28D5/0011 ,  B28D5/0058 ,  B28D5/0082 ,  B28D5/028 ,  B28D5/045 ,  H01S3/10

Abstract: 一种可定制高精度钽铌酸钾（KTa1-xNbxO3；0＜x＜1，简称KTN）单晶基片元件的加工制作方法，属于人工晶体及玻璃材料的加工制备领域，方法主要包括针对KTN系列晶体的定向、切割、组方、研磨、抛光及卸盘。该方法为KTN单晶基片元件制作提供完备方案，可为KTN晶体用作光波导、光开关、偏转器等电光调制元件，以及衬底基片材料提供样品基础。