公开(公告)号：WO2021146633A1

公开(公告)日：2021-07-22

申请号：PCT/US2021/013742

申请日：2021-01-15

Applicant: QUANTUMSCAPE BATTERY, INC.

Inventor： VAN BERKEL, Kim ,  JEFFRIES, Patrick

IPC: C04B35/486 ,  C04B35/632 ,  C04B35/634 ,  C04B35/64 ,  C04B35/638 ,  H01M10/0562 ,  B32B18/00 ,  C04B2235/3203 ,  C04B2235/3205 ,  C04B2235/3208 ,  C04B2235/3213 ,  C04B2235/3215 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3227 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3251 ,  C04B2235/3256 ,  C04B2235/3258 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3294 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/5463 ,  C04B2235/6025 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/658 ,  C04B2235/6584 ,  C04B2235/764 ,  C04B2237/34 ,  C04B2237/348 ,  H01M2300/0071 ,  H01M8/0215

Abstract: Set forth herein are processes and materials for making ceramic thin green tapes by casting ceramic source powders and precursor reactants, binders, and functional additives into unsintered thin green tapes in a non-reactive environment.

公开(公告)号：WO2022013285A1

公开(公告)日：2022-01-20

申请号：PCT/EP2021/069593

申请日：2021-07-14

Applicant: SOLERAS ADVANCED COATINGS BV

Inventor： DE BOSSCHER, Wilmert ,  CARETTI GIANGASPRO, Ignacio ,  SUBRAMANIAN, Jai, Shankar ,  EDEL, Jeffrey, Dieter

IPC: C04B35/01 ,  C23C14/34 ,  H01J37/34 ,  C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C04B35/495 ,  C04B35/645 ,  C23C4/11 ,  C04B2235/3258 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/77 ,  C04B35/6455 ,  C23C14/3414 ,  C23C4/02 ,  C23C4/129 ,  C23C4/134 ,  C23C4/18 ,  H01J37/3426 ,  H01J37/3491

Abstract: A method of manufacturing a sputtering target is provided. The method comprises the steps of providing a backing structure, providing target material comprising ceramic target material for spraying, subsequently thermal-spraying the target material over the backing structure thus providing a target product where at least 40% in mass, for example at least 50% in mass, of the target material comprises ceramic target material, and subsequently performing hot isostatic pressing on the target product thus increasing the density of the target material.

公开(公告)号：WO2022013284A1

公开(公告)日：2022-01-20

申请号：PCT/EP2021/069590

申请日：2021-07-14

Applicant: SOLERAS ADVANCED COATINGS BV

Inventor： DE BOSSCHER, Wilmert ,  CARETTI GIANGASPRO, Ignacio ,  SUBRAMANIAN, Jai, Shankar ,  EDEL, Jeffrey, Dieter

IPC: C04B35/01 ,  C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C04B35/495 ,  C23C4/11 ,  C23C14/34 ,  C04B35/645 ,  H01J37/34 ,  C04B2235/3258 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/77 ,  C04B35/6455 ,  C23C14/3414 ,  C23C4/02 ,  C23C4/129 ,  C23C4/134 ,  C23C4/18 ,  H01J37/3426 ,  H01J37/3491

Abstract: A sputtering target includes at least one single piece with a length of at least 600 mm. The sputtering target comprises a backing structure provided with target material for sputtering. At least 40% of the mass of the target material includes a so-called target volatile material which shows, at pressures between 700 hPa and 1300 hPa, either a sublimation temperature, or decomposition temperature below its melting point or a melting temperature and an absolute boiling temperature being close to each other. The sputtering target has a target material density of at least 95% of the theoretical density of the target material. The sputtering target comprises a bonding layer with a thickness of 0 to 500 µm between the backing structure and the target material.

公开(公告)号：WO2021198890A1

公开(公告)日：2021-10-07

申请号：PCT/IB2021/052604

申请日：2021-03-30

Applicant: I-TEN

Inventor： GABEN, Fabien

IPC: H01M4/04 ,  B01J35/00 ,  B01J37/02 ,  B22F1/02 ,  B82Y30/00 ,  C23C18/12 ,  C25D13/02 ,  C25D15/00 ,  H01M4/139 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/0562 ,  H01M10/0585 ,  B82Y40/00 ,  C04B35/00 ,  C25D13/22 ,  C04B2235/3203 ,  C04B2235/3206 ,  C04B2235/3208 ,  C04B2235/3213 ,  C04B2235/3215 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3227 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3232 ,  C04B2235/3239 ,  C04B2235/3241 ,  C04B2235/3258 ,  C04B2235/3262 ,  C04B2235/3272 ,  C04B2235/3275 ,  C04B2235/3277 ,  C04B2235/3279 ,  C04B2235/3281 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3289 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2235/5454 ,  C04B2235/5472 ,  C04B2235/764 ,  C04B35/01 ,  C04B35/016 ,  C04B35/16 ,  C04B35/447 ,  C04B35/457 ,  C04B35/462 ,  C04B35/486 ,  C04B35/495 ,  C04B35/547 ,  C04B35/584 ,  C04B35/597 ,  C04B35/62218 ,  C04B35/62222 ,  H01M4/0402 ,  H01M4/0457

Abstract: Procédé de fabrication d'une couche dense, comprenant les étapes suivantes : approvisionnement d'un substrat et d'une suspension de nanoparticules non agglomérées d'un matériau P; dépôt d'une couche, sur ledit substrat, à partir de ladite suspension; séchage de la couche ainsi obtenue; densification de la couche séchée par compression mécanique et/ou traitement thermique; ledit procédé étant caractérisé en ce que la suspension de nanoparticules non agglomérées de matériau P comprend des nanoparticules de matériau P présentant une distribution en taille, ladite taille étant caractérisée par sa valeur de D50, telle que : - la distribution comprend des nanoparticules de matériau P d'une première taille D1 comprise entre 20 nm et 50 nm, et des nanoparticules de matériau P d'une deuxième taille D2 caractérisée par une valeur D50 au moins cinq fois inférieure à celle de D1; ou - la distribution présente une taille moyenne des nanoparticules de matériau P inférieure à 50 nm, et un rapport écart type sur taille moyenne supérieur à 0,6.

公开(公告)号：WO2021191444A1

公开(公告)日：2021-09-30

申请号：PCT/EP2021/058013

申请日：2021-03-26

Applicant: HUG ENGINEERING AG

Inventor： MARBERGER, Adrian ,  KLIMERA, Andreas ,  VIEWEGER, Georg

IPC: C04B38/00 ,  C04B35/185 ,  C04B35/195 ,  C04B35/626 ,  C04B41/87 ,  B01D46/24 ,  B01J37/02 ,  B01D46/2429 ,  B01D46/24491 ,  B01D46/24492 ,  C04B2111/00793 ,  C04B2111/0081 ,  C04B2235/3232 ,  C04B2235/3239 ,  C04B2235/3258 ,  C04B2235/3463 ,  C04B2235/3481 ,  C04B2235/6021 ,  C04B2235/616 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/9607 ,  C04B35/6261 ,  C04B35/6263 ,  C04B35/62655 ,  C04B38/0006 ,  C04B38/0096 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5027 ,  C04B41/5041

Abstract: Um einen Formkörper bereitzustellen, welcher eine gute Hochtemperaturbeständigkeit aufweist, an welchem ein Beschichtungsmaterial dauerhaft haftet und welcher einfach herstellbar ist, wird ein Formkörper vorgeschlagen, welcher eine Kanalstruktur, welche durch Formgebung eines Materials des Formkörpers gebildet ist, und eine Porenstruktur in dem Material des Formkörpers umfasst, wobei das Material des Formkörpers ein partikelförmiges Basismaterial umfasst oder zumindest teilweise daraus gebildet ist, wobei das Basismaterial ein Cordieritmaterial und/oder ein Mullitmaterial umfasst, wobei Partikel des Basismaterials mittelbar und/oder unmittelbar miteinander verbunden sind und wobei in Poren der Porenstruktur ungefähr 5 Vol.-% eines Beschichtungsmaterials oder mehr, bezogen auf ein Gesamtvolumen der Porenstruktur, aufnehmbar oder aufgenommen sind.