ON-CHIP EMF ISOLATION OF AN INTEGRATED CIRCUIT COUPLED WITH PHOTOCONDUCTIVE SEMICONDUCTOR SWITCH UNDER AN ON-CHIP FARADAY CAGE

    公开(公告)号:WO2023023238A1

    公开(公告)日:2023-02-23

    申请号:PCT/US2022/040735

    申请日:2022-08-18

    Abstract: An integrated circuit structure (10) including a substrate (16) having an upper surface (18); a gallium nitride layer (20) disposed on the upper surface of the substrate; and a photoconductive semiconductor switch (14) laterally disposed alongside a transistor (12) on the gallium nitride layer (20) integrated into the integrated circuit structure; an EMF shield (40) enclosing the substrate, the gallium nitride layer and the photoconductive semiconductor switch laterally disposed alongside the transistor on the gallium nitride layer integrated into the integrated circuit structure; and a signal line (56) electronically coupled with the photoconductive semiconductor switch, the signal line (56) penetrating the EMF shield (40).

    フォトダイオードアレイ及びフォトダイオードアレイの製造方法

    公开(公告)号:WO2023008287A1

    公开(公告)日:2023-02-02

    申请号:PCT/JP2022/028242

    申请日:2022-07-20

    Abstract: Mg2Siを含むPIN半導体層(14)と、PIN半導体層(14)の第1面(14a)と接続する第1電極(22)と、第1電極(22)の面(22a)において接続層(25)を介して接する支持部材(29)と、PIN半導体層(14)の第2面(14b)で接続する第2電極(31)および第3電極(32)と、第2電極(31)および第3電極(32)と接続するROIC構造(39)とを備え、第1電極(22)は、貫通溝(21)の周囲に配置され、第2電極(31)は、第2面(14b)においてp+型半導体層(13)が形成された部分と接続し、第3電極(32)は、第1電極(22)および貫通溝(21)と接続し、支持部材(29)は、Mg2Siよりも熱膨張率が小さく、かつ、光透過性のある部材にて構成され、接続層(25)は、支持部材(29)を介して、PIN半導体層(14)に光を透過させる開口部(251)を有する。

    受光素子、測距システム、および、電子機器

    公开(公告)号:WO2022113733A1

    公开(公告)日:2022-06-02

    申请号:PCT/JP2021/041270

    申请日:2021-11-10

    Abstract: 本技術は、画素を微細化した場合に、意図しないエッジブレイクダウンを低減させることができるようにする受光素子、測距システム、および、電子機器に関する。 受光素子は、第1の導電型の第1の半導体領域と、第1の導電型とは反対の第2の導電型の第2の半導体領域とが接合したPN接合領域と、第1の半導体領域に対して所定の電源電圧を供給する配線が形成された基板の第1の面近傍の第1の半導体領域の外側に、いずれの配線とも接続されない第1の導電型の第3の半導体領域とを有する画素を備える。本技術は、例えば、反射光を受光して距離を測定する測距センサ等に適用できる。

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