发明公开
- 专利标题: 一种Sm2O3掺杂BaTiO3基片式PTCR陶瓷材料及其制备方法
- 专利标题(英): Sm2O3-doped BaTiO3 substrate type PTCR (Positive Temperature Coefficient Resistor) ceramic material and preparation method thereof
-
申请号: CN201110415952.6申请日: 2011-12-14
-
公开(公告)号: CN102531575A公开(公告)日: 2012-07-04
- 发明人: 周东祥 , 龚树萍 , 傅邱云 , 郑志平 , 赵俊 , 胡云香 , 刘欢 , 程绪信
- 申请人: 华中科技大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 代理机构: 华中科技大学专利中心
- 代理商 曹葆青
- 主分类号: C04B35/468
- IPC分类号: C04B35/468 ; C04B35/622
摘要:
本发明公开了提供一种Sm2O3掺杂BaTiO3基片式PTCR陶瓷材料及其制备方法。该陶瓷材料的结构式为:(Bay-xSmx)TiO3+mSiO2+nMn(NO3)2+pBN,式中x=0.2~0.8mol%,y=1.014~1.029,m=0.05~0.6mol%,n=0.005~0.02mol%,p=0~4.4mol%。本发明采用流延成型方法,利用Sm2O3掺杂BaTiO3基PTCR粉体制得的流延浆料制备坯体,叠层压片和切片;在还原气氛中烧结,在空气中再氧化,再在表面上涂电极。本发明克服了高Ba/Ti比的半导化陶瓷材料电阻率高的不足,PTCR陶瓷材料具有晶粒尺寸小、室温电阻率低和PTC效应大的特点。
IPC分类: