发明授权
- 专利标题: 一种等离子体处理设备及其清洗系统和方法
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申请号: CN201510592306.5申请日: 2015-09-17
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公开(公告)号: CN106548914B公开(公告)日: 2018-10-30
- 发明人: 杨平 , 叶如彬 , 梁洁
- 申请人: 中微半导体设备(上海)有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
- 专利权人: 中微半导体设备(上海)有限公司
- 当前专利权人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
- 代理机构: 上海信好专利代理事务所
- 代理商 张静洁; 包姝晴
- 主分类号: H01J37/32
- IPC分类号: H01J37/32 ; H01J37/34 ; H01L21/3065 ; H01L21/67 ; H01L21/02
摘要:
本发明涉及一种等离子体处理设备及其清洗系统和方法,在反应腔室的腔壁内侧布置移动环,并在所述移动环内设置电极;所述电极通过切换开关与射频电源连通,从而在由移动环限定的等离子体扩散范围的边缘区域形成边缘等离子体;或者,所述电极通过切换开关与接地电路连通,从而对反应腔室的腔壁屏蔽形成在反应腔室内的射频电场。本发明能够增强腔室边缘部件的清洗效果,或者实现对腔壁的射频屏蔽以改善刻蚀偏心的效果。
公开/授权文献
- CN106548914A 一种等离子体处理设备及其清洗系统和方法 公开/授权日:2017-03-29